集成光学器件的材料.ppt

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1、第七章四节集成光学器件的材料集成光学是以光的形式发射、调制、控制、和接收信号，集光信号的处理功能为一身的新一代集成光学器件。其最终目的是代替目前的电子通信手段，实现全光通讯。光子集成用材料的共同要求包括无源器件和有源器件的集成共同要求要易于形成质量良好的光波导，满足器件功能要求；包括：易于实现光波导；在给定波长范围内损耗≤1dB/cm集成性能良好，即在同一衬底上可以制备出尽可能多的不同功能的器件；包括制作有源器件的带隙宽度、阈值等，电/光器件的兼容性等---目前最大的困难材料本身和加工的经济性半导体材料是目前唯一可以同时制作光子有源器件、电子有源器件、光子无源器

2、件的材料但对于某些特性不是最佳分为：间接带隙半导体材料直接带隙半导体材料间接带隙半导体材料直接带隙半导体材料光子与半导体作用遵循能量守恒：动量守恒：p＝ħk电子波矢k=2/间接带隙半导体材料---Si优势硅片尺寸大（12‘）、质量高、价格低、机械性能好、加工方便平面硅工艺是目前最重要的IC工艺，最成熟具有诸如电光等效应、波导损耗低、可制作光检波器件问题---作为光源量子效率太低，载流子迁移速度低用途混合集成的衬底---硅基集成光子学！！！光波导及光波导器件（光分波/合波器件，，，）热光/电光器件（调制器、开关，，，）SOI光波导(Silicon-on-Ins

3、ulator,绝缘体上硅)SOI---低功耗、高速CMOS器件的基本材料，被称为“二十一世纪的硅基础电路技术”。也具备许多优越的光学特性，比如低损耗(在光通信波段)、高折射率差，这使得它不但能用来制作灵巧紧凑的光集成器件，也为利用CMOS微电子工艺实现光电集成提供了一个很好的平台。SOI材料中作为波导芯层的硅折射率很大，与作为包层的SiO2之间有很大的折射率差SOI光波导特点可以将SiO2包覆层做的很薄（小于1微米），便于OEIC工艺的实现具有抗核辐射能力，在空间和军工应用广泛单模波导损耗可以很低，适合制作无源器件直接带隙半导体材料InGaAsP材料体系（Ⅲ-Ⅴ

4、族为主）GaAs、InP（二元化合物）InGaAs、AlGaAs（三元化合物）InGaAsP（四元化合物）GaN材料体系GaN、AlNMgZnSSe材料体系ZnSe、ZnSZnSSe表7.1InGaAsP材料体系主要参数半导体材料禁带宽度eV对应的波长m折射率备注GaAs1.420.8710.62LDAl0.03Ga0.97As1.460.8510.61850nmAl0.47Ga0.53As1.830.683.47LDInP1.350.923.40In0.76Ga0.24As0.55P0.450.951.303.511310nmLDIn0.65Ga0.35As

5、0.79P0.210.801.553.541550nmLDIn0.47Ga0.53As0.751.673.56长波长PD/APD表7.2纤锌矿型GaN、AlN材料体系主要特性特性GaNAlN禁带宽度eV3.39（T=300K）3.50（T=1.6K）7.2（T=300K）7.28（T=1.6K）晶格常数（Å）a=3.189c=5.185a=3.112c=4.982热膨胀系数(K-1)(T=300K)△a/a=5.59×10-6△c/c=3.17×10-6△a/a=4.2×10-6△c/c=5.3×10-6热导率(W/cm*K)1.32.0折射率n(1eV)=2.

6、23n(3.38eV)=2.67n=2.15介电常数8.98.5相的GaN为直接带隙半导体，Eg=3.39eVInxGa1-xN的Eg=1.95~3.39eV；AlxGa1-xN的Eg=3.39~7.28eV；均为直接带隙半导体材料。是紫外LED、LD的主要材料。主要问题：衬底材料为Al203（蓝宝石）和SiC，异质外延生长高的缺陷密度缺乏解理面（国家“863”计划—VCSEL）InGaN/GaN量子阱的发光机理不清，热电、压电等理论和实验均有许多问题有待解决表7.3闪锌矿型GaN、AlN材料体系主要特性特性GaNAlN禁带宽度（eV）（T=300K）3.2~

7、3.35.11（理论值）晶格常数（Å）4.524.33（理论值）折射率n=2.57.3介质材料（dielectricmaterial）介质材料---介电常数比较高的材料，可分为微波介质材料、光学介质材料；按材料的状态和性质分为光学晶体、光学玻璃等光学晶体材料：具有非常突出的电光或者声光、热光、磁光等性能，特别适合于光开关、光调制器、耦合器等器件常用的包括：-LiNbO3和LiTaO3晶体-ZnO晶体LiNbO3和LiTaO3晶体属于3m点群的负单轴晶体LiNbO3很高的电光LiNbO3很高的声光系数和最小的声衰减系数（0.05dB/cm）容易制出光、声两波场重叠

8、系数很高的光波导和声波导