制造晶硅用超纯水设备相关资料下载.doc

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1、制造晶硅用超纯水设备相关资料下载一、晶硅制造用超纯水设备概述单晶硅制造用超纯水设备是根据其用水的特殊要求设计而生产的新型水处理设备，用户可以根据自己的实际需求调整出水量，避免不必要的浪费。单晶硅制造用超纯水设备采用先进的电渗析与离子交换相结合的技术，克服了单i技术的缺点。单晶硅制造用超纯水设备采用微电脑控制，在线显示各种工艺参数，操作十分方便。EDI超纯水设备利用离子交换技术來克服电渗析技术中脱盐不彻底的现象。经过多年的研究发展，EDI超纯水技术已经成为目前超纯水制取的主要技术。使川EDI超纯水设备的企业也在不断的发展增加。EDI超纯水设备的生产的超纯水的电阻率可以达到18MQ•cm

2、以上，满足各类企业的需要。技术资料来源于莱特莱徳南昌超纯水设备工程公司二、晶硅制造用超纯水设备工艺要求1、预处理系统单晶硅制造用超纯水设备特设了三级预处理系统。特别适合自来水盐度高、硬度大、固体杂质较多、氯含量较高地区的客户，使用极其方便、经济。该系统依照“层层保护、逐级过滤”设计理念精心设计而成。由于各单元均采取大容量、高精度设计，所以预处理功能更强大，自保护更好，对各类杂质去除效率也更高。2、反渗透系统采川哪优质进口R0膜。具有极强筛分功能，它的性能极其稳定，在系统既定压力下，只能透水而不通过溶质。因此，能精密滤除水中的细菌、病毒、盐类及各种致癌物质。脱盐率299%。反渗透系统具

3、备自动清洗功能，有效预防反渗透膜结垢堵塞，保证其高效稳定的运行。3、超纯化系统采用优质核子级抛光混床三柱树脂，超纯化系统的设置，使得水中离子被全部除去，通过该系统的产水水质电阻率最高可达到18兆欧/厘米，足以满足不同实验基本应用的要求。三、晶硅制造用超纯水设备工艺流程1、采用离子交换方式，其流程如下：原水f原水加压泵f多介质过滤器f活性炭过滤器f软水器f精密过滤器一阳树脂过滤床f阴树脂过滤床f阴阳树脂混床f微孔过滤器f川水点。2、采用两级反渗透方式，其流程如下:原水一原水加压泵一多介质过滤器一活性炭过滤器一软水器一精密过滤器一第一级反渗透一PH调节f中间水箱第二级反渗透(反渗透膜表面

4、带正电荷)一纯化水箱一纯水泵-＞微孔过滤器f用水点。3、采用EDI方式，其流程如下：原水f原水加压泵f多介质过滤器f活性炭过滤器"软水器-*精密过滤器f一级反渗透机一中间水箱一中间水泵一EDI系统f微孔过滤器f用水点。(1)系统采用最新水处理技术双级ROEDI混床，模块化设计，严格按最新技术设计标准，确保水质稳定，长效运行。(2)通过专业技术设计，确保系统短时停机及长时间停机时水质保持稳定。(3)通过专业技术保证终端｛I*.水恒压、水质稳定。(1)通过完善的技术，最大限度的提高系统回收率，降低能耗和运行成本。(2)采用海徳能ESPA2超低压膜，运行稳定，能耗低。(3)釆川PH调节系统

5、以确保水温下降或原水PH值偏低时EDI出水水质。(4)配备专门的有化学清洗系统，可定期对反渗透进行化学清洗，以确保系统稳定运行。(5)配备浓水置换专业技术，防止膜系统受到微生物污染。(6)EDI及后段出水采川超纯水专川管道，最大限度的保证出水水质。(7)EDI水箱采用氮封装置，以确保终端水质稳定及延长核能混床的寿命。(8)采用PLC加触摸屏控制系统，并采用进口电气原件，操作方便，运行稳定。(9)主题材料全部采用行业内国际知名品牌，保质保量，并按最佳配置设计。五、晶硅制造用超纯水设备进水水质指标控制手段(1)进水电导率的控制。严格控制前处理过程中的电导率，使EDI进水电导率小于40uS

6、/cm,可以保证出水电导率合格以及弱电解质的去除。(2)1作电压-电流的控制。系统工作时应选择适当的工作电压-电流。同时由于EDI净水设备的电压-电流曲线上存在一个极限电压-电流点的位置，与进水水质、膜及树脂的性能和膜对结构等因素有关。为使一定量的水电离产生足够量H+和0H-离子来再生一定量的离子交换树脂，选定的EDI净水设备的电圧-电流工作点必须大于极限电压-电流点。(3)进水C02的控制。可在R0前加碱调节pH,最大限度地去除C02,也可用脱气塔和脱气膜去除C02。(4)进水硬度的控制。可结合除C02,对R0进水进行软化、加碱;进水含盐量高时，可结合除盐增加一级R0或纳滤。(5)

7、T0C的控制。结合其他指标要求，增加一级R0来满足要求。(6)浊度、污染指数的控制。浊度、污染指数是R0系统进水控制的主要指标之一，合格的R0出水一般都能满足EDI的进水要求。(7)Fe的控制。运行中控制EDI进水的Fe低于0.01mg/Lo如果树脂已经发生了“中毒”，可以用酸溶液作复苏处理，效果比较好。