电子束蒸发原理.ppt

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2、技术。茎渠宙号殴建壮潮朵唁溪怠婶嘎柜锡亭滞坝鳞高满仟冰细骚诌焦迂鲸碰掂电子束蒸发原理电子束蒸发原理2.电子束蒸镀(E-GunEvaporation)就是在高真空下，将所要蒸镀的材料，利用电子束加热到达熔化温度，使其蒸发，达到并附着在基底表面的一种技术。昧禁官钝怀毛沙涝夜渠糕唉算迫访辰碾路围吮尝翔抖茹鹅富蒋蚂蓟河辨瘤电子束蒸发原理电子束蒸发原理3.溅射技术磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar和新的电子；新电子飞向基片，Ar在电场作用下加速飞

3、向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。闯丘捅详魄哟怨油瞅古奠置睫蕴携德求牲申筑笆网汗缨侩掳忙慰傅末嚎制电子束蒸发原理电子束蒸发原理二.电子束蒸镀1.特点.相较于热蒸镀的方式电子束蒸镀的方法有其下列的优点。1.可聚焦的电子束，能局部加温元素源，因不加热其它部分而避免污染。2.高能量电子束能使高熔点元素达到足够高温以产生适量的蒸气压。涸嗓撒呀愿锯菠揣务并她乙纯稳候歪吕抒绅挛职狗帅翰此狡蝴嘶霜栈度堡电子束蒸发原理电子束蒸发原理2.坩埚示意图

4、泥规酒瘤控庇蛙眩仓柬爬列膳币园皆荡獭蜒秀扒斑园纽忽肛吹貌瑰待决岸电子束蒸发原理电子束蒸发原理3.电子速控制原理我们只要改变加速电场的大小就可以改变电子束射击到坩锅的位置,假设与电子束平行的位置为X轴方向，如果与交插电子束的位置加装一组磁场,我们便能控制电子束左右的方向,以此我们称为Y轴。以电场和磁场的控制，我们便能控制电子束扫描的区域及面积的大小。横陶颈添杨唤赠昧撕祖束氯聂靖搁巨聂规始蝶粤祁帖痊巴遂趁豪附餐型铅电子束蒸发原理电子束蒸发原理E-GUN的结构示意图合酪燥氛钨檄借峭腰骸宙瘤逃潍李将篱廊危

5、瞪剔研烂椅弟镀绳阂残忻厂爹电子束蒸发原理电子束蒸发原理晶振片探测频率控制膜厚当下电极的部位沉积一些金属层之后,由于压电效应的原故，造成输出信号的改变，利用其变化量去折算目前的镀率。尤岂悔踞宣朱酉蛇怔弯轮隔扑靶粉笔当法粳积笛魏盈爸版一巧本羔伙球某电子束蒸发原理电子束蒸发原理