微电子器件课程复习题.doc

微电子器件课程复习题.doc

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1、.1、若某突变PN结的P型区的掺杂浓度为,则室温下该区的平衡多子浓度pp0与平衡少子浓度np0分别为()和()。2、在PN结的空间电荷区中,P区一侧带(负)电荷,N区一侧带(正)电荷。内建电场的方向是从(N)区指向(P)区。[发生漂移运动,空穴向P区,电子向N区]3、当采用耗尽近似时,N型耗尽区中的泊松方程为()。由此方程可以看出,掺杂浓度越高,则内建电场的斜率越(大)。4、PN结的掺杂浓度越高,则势垒区的长度就越(小),内建电场的最大值就越(大),内建电势Vbi就越(大),反向饱和电流I0就越(小)[P20],势垒电容CT就越(大),雪崩击穿电压就越(小)。5、硅突变结内建电势V

2、bi可表为()P9,在室温下的典型值为(0.8)伏特。6、当对PN结外加正向电压时,其势垒区宽度会(减小),势垒区的势垒高度会(降低)。7、当对PN结外加反向电压时,其势垒区宽度会(增大),势垒区的势垒高度会(提高)。8、在P型中性区与耗尽区的边界上,少子浓度np与外加电压V之间的关系可表示为()P18。若P型区的掺杂浓度,外加电压V=0.52V,则P型区与耗尽区边界上的少子浓度np为()。9、当对PN结外加正向电压时,中性区与耗尽区边界上的少子浓度比该处的平衡少子浓度(大);当对PN结外加反向电压时,中性区与耗尽区边界上的少子浓度比该处的平衡少子浓度(小)。10、PN结的正向电流

3、由(空穴扩散)电流、(电子扩散)电流和(势垒区复合)电流三部分所组成。11、PN结的正向电流很大,是因为正向电流的电荷来源是(多子);PN结的反向电流很小,是因为反向电流的电荷来源是(少子)。12、当对PN结外加正向电压时,由N区注入P区的非平衡电子一边向前扩散,一边(复合)。每经过一个扩散长度的距离,非平衡电子浓度降到原来的(e分之一)。13、PN结扩散电流的表达式为()。这个表达式在正向电压下可简化为(),在反向电压下可简化为()。14、在PN结的正向电流中,当电压较低时,以(势垒区复合)电流为主;当电压较高时,以(扩散)电流为主。15、薄基区二极管是指PN结的某一个或两个中性

4、区的长度小于(该区的少子扩散长度)。在薄基区二极管中,少子浓度的分布近似为(线性分布)。16、小注入条件是指注入某区边界附近的(非平衡少子)浓度远小于该区的(平衡多子)浓度,因此该区总的多子浓度中的(非平衡)多子浓度可以忽略。17、大注入条件是指注入某区边界附近的(非平衡少子)浓度远大于该区的(平衡多子)浓度,因此该区总的多子浓度中的(平衡)多子浓度可以忽略。18、势垒电容反映的是PN结的(微分)电荷随外加电压的变化率。PN结的掺杂浓度越高,则势垒电容就越(大);外加反向电压越高,则势垒电容就越(小)。P44..19、扩散电容反映的是PN结的(非平衡载流子)电荷随外加电压的变化率。

5、正向电流越大,则扩散电容就越(大);少子寿命越长,则扩散电容就越(大)。P5120、在PN结开关管中,在外加电压从正向变为反向后的一段时间内,会出现一个较大的反向电流。引起这个电流的原因是存储在(N)区中的(非平衡载流子)电荷。这个电荷的消失途径有两条,即(反向电流的抽取)和(少子自身的复合)。21、从器件本身的角度,提高开关管的开关速度的主要措施是(降低少子寿命)和(加快反向复合)。(减薄轻掺杂区的厚度)22、PN结的击穿有三种机理,它们分别是(雪崩击穿)、(齐纳击穿)和(热击穿)。23、PN结的掺杂浓度越高,雪崩击穿电压就越(小);结深越浅,雪崩击穿电压就越(小)。24、雪崩击

6、穿和齐纳击穿的条件分别是()和()。P4125、晶体管的基区输运系数是指(基区中到达集电结的少子)电流与(从发射结刚注入基区的少子)电流之比。P67由于少子在渡越基区的过程中会发生(复合),从而使基区输运系数(小于1)。为了提高基区输运系数,应当使基区宽度(远小于)基区少子扩散长度。26、晶体管中的少子在渡越(基区)的过程中会发生(复合),从而使到达集电结的少子比从发射结注入基区的少子(小)。27、晶体管的注入效率是指(从发射区注入基区的少子)电流与(总的发射极)电流之比。P69为了提高注入效率,应当使(发射)区掺杂浓度远大于(基)区掺杂浓度。28、晶体管的共基极直流短路电流放大系

7、数是指发射结(正)偏、集电结(零)偏时的(集电极)电流与(发射极)电流之比。29、晶体管的共发射极直流短路电流放大系数是指(发射)结正偏、(集电)结零偏时的(集电极)电流与(基极)电流之比。30、在设计与制造晶体管时,为提高晶体管的电流放大系数,应当(减小)基区宽度,(降低)基区掺杂浓度。31、某长方形薄层材料的方块电阻为100Ω,长度和宽度分别为和,则其长度方向和宽度方向上的电阻分别为()和()。若要获得1KΩ的电阻,则该材料的长度应改变为()。32、在缓变基区晶体

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