真空镀膜基础知织.ppt

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1、真空镀膜基礎知识一：真空的基本概念1.1什么是真空1.2真空的度量1.3真空区域的划分低真空中真空高真空超高真空真空镀膜基礎知识二：真空度量1：毫米汞柱、标准大气压（ATM）2：托(Torr)1/760(ATM)3：徼巴(μbar)4：帕斯卡(Pa)5：工程大气压（AM）6：压强单位的换算真空镀膜基礎知识三：真空泵的分类1：气体传输泵1.1：机械泵(1)：柱塞泵(2)：旋片泵(3)：滑阀泵(4)：罗茨泵1.2：涡轮分子泵1.3：油扩散泵2：气体捕集泵（1）：低温泵（4）：溅射离子泵（2）：分子筛泵（5）：吸气剂泵（3）：钛升华泵真空镀

2、膜基礎知识四：真空系统抽气过程（1）：被抽容器压强随时间变化（2）：真空容器的极限真空（3）：真空容器的抽气速率（4）：真空系统的组成和工作原理真空镀膜基礎知识五：真空卫生（1）：真空环境卫生10一100级1000一100000级（2）：真空系统的清洁处理真空系统被镀膜的工件（3）：工作人员的个人清洁卫生真空镀膜技术1：真空镀膜技术及特点真空环境下制作薄膜致密，均匀，纯度高。膜料和基材广泛，可控性好，可生成多种功能膜膜层附着力好，膜层牢固。不产生污染。真空镀膜技术2：真空镀膜技木的发展和应用真空镀膜技术是真空应用的重要领域真空镀膜技术

3、的由来和发展薄膜微电子学方面的应用光学和光电子学方面的应用表面物理学方面的应用激光通讯技术的应用纳米材料和纳米晶超硬涂层的应甲真空镀膜技术1：真空镀膜技术的分类(A):按表面处理的目的可分为沉积薄膜(增加)微细加工(减少)表面改性(不变)(B):按处理方法可分为物理气雄沉积(PVD)化学气相沉积(CVD)离子刻蚀离子注入真空镀膜技术2：PVD工艺的分类和性工艺方法粒子能量镀膜用的源工作原理蒸发镀膜0.1~10ev蒸发源电阻及电子束热溅射镀膜10~100ev磁控靶源离子轰击靶面电弧镀膜10~100ev阴极电弧源弧斑微熔池离子镀膜10~5

4、000ev多种源活化及负偏压真空镀膜技术磁控溅射技术靶型靶电源靶材靶材利用率平面靶直流交流脉冲平板10~25%园柱靶直流交流脉冲园筒25~60%真空镀膜基礎知识磁控溅射原理1：低气压气体放电2：电场与磁场正交时的电子运动3：离子溅射和溅射产额4：溅射时的压强和反应气体分压强5：溅射时的靶面状态（主要是化学成份）真空镀膜技术中频交流磁控溅射靶的特点电源特点等离子区特点