太阳能电池培训资料.ppt

太阳能电池培训资料.ppt

ID:48087365

大小:1.19 MB

页数:23页

时间:2020-01-14

太阳能电池培训资料.ppt_第1页
太阳能电池培训资料.ppt_第2页
太阳能电池培训资料.ppt_第3页
太阳能电池培训资料.ppt_第4页
太阳能电池培训资料.ppt_第5页
资源描述:

《太阳能电池培训资料.ppt》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库

1、太阳能电池培训资料王松2008.12.12太阳能电池的基本原理太阳能电池主要依靠P-N结的光生伏打效应来工作,而当P型半导体和N型半导体紧密结合连成一块时,P型半导体中的空穴向N型半导体的方向扩散运动,而N型半导体的电子向P型半导体的方向扩散运动,如下图所示:其中P型半导体中的空穴和N型半导体中的电子均称为多子,P型半导体中的电子和N型半导体中的空穴均称为少子,在扩散运动的同时在P型半导体和N型半导体的中央形成了一个由N区指向P区的电场称为内建电场,在内建电场的影响下.将产生孔穴向右而电子向左的飘移运动,当漂移运动和扩散运动达到平衡的时候就形成了P-N结.太

2、阳能电池的基本原理如右图所示,当处于开路的情况下,当光生电流和正向电流相等的时候,P-N结两端将建立起稳定的电势差Voc(P区为正,N区为负),如果与外电路接通,只要光生电流不停止,就会有源源不断的电流通过电路,P-N结起到了一个电源的作用.这就是太阳能电池的工作原理。太阳能电池的基本性质光电转换效率η%评估太阳能电池好坏的重要因素。η=(1000*Isc*Uoc*FF)/S。目前:实验室η≈24%,产业化η≈15%。单体电池电压U:0.4-0.6V由材料本身的掺杂程度来决定。填充因子FF%:评估太阳能电池负载能力的重要因素。FF=(Im*Um)/(Isc*

3、Uoc)其中:Isc-短路电流,Uoc-开路电压,Im-最佳工作电流,Um-最佳工作电压。标准光强与环境温度:地面光强AM1.5,1000W/m2,t=25℃。温度对电池片性能的影响:功率会随着温度的升高而降低。例如:在标准状况下,AM1.5光强,t=25℃,某电池片的输出功率为2.43W,如果电池片温度升高至45℃时,电池片的输出功率将小于2.43W。晶体硅太阳能电池生产的工艺流程Texturing制绒Diffusion扩散Edgeetch去边结Anti-reflectivecoating制做减反射膜Printing&sintering制作上下电极及烧结C

4、elltesting&sorting电池片测试分选SolarCellManufacturing电池的生产工艺流程Cleaningprocess去PSG硅片表面化学腐蚀处理-制绒目的:去除硅片表面的杂质残留,制做能够减少表面太阳光反射的陷光结构。原理:单晶:利用单晶硅的各向异性,采用化腐工艺在<100>硅片上制作的绒面,以减少入射光反射、提高短路电流和转换效率。采用两步法制作绒面,先用高浓度碱液、较高温度下进行短时间“粗抛”,再在低浓度、低温度下进行长时间“细腐”。此法所制绒面,在晶相显微镜下观察,小金字塔排列规则、整齐、均匀,可使入射光的反射损失降低近10%

5、。2NaOH+H2O+SiNa2SiO3+2H2多晶:利用硝酸的强氧化性和氢氟酸的络合性,对硅进行氧化和络合剥离,导致硅表面发生各向同性非均匀性腐蚀,从而形成类似“凹陷坑”状的绒面。Si+HNO3→SiO2+NOx↑+H2OSiO2+6HF→H2SiF6+2H2O绒面微观图硅片表面化学腐蚀处理(一次清洗)1000X电子扫描镜-单晶5000X电子扫描镜-多晶制PN结(扩散)目的:在P型硅表面上渗透入很薄的一层磷,使前表面变成N型,使之成为一个PN结。POCl3在高温下(>600℃)分解生成五氯化磷(PCl5)和五氧化二磷(P2O5),其反应式如下:生成的P2O

6、5在扩散温度下与硅反应,生成二氧化硅(SiO2)和磷原子,其反应式如下:由上面反应式可以看出,POCl3热分解时,如果没有外来的氧(O2)参与其分解是不充分的,生成的PCl5是不易分解的,并且对硅有腐蚀作用,破坏硅片的表面状态。但在有外来O2存在的情况下,PCl5会进一步分解成P2O5并放出氯气(Cl2)其反应式如下:扩散原理:制PN结(扩散)扩散原理:生成的P2O5又进一步与硅作用,生成SiO2和磷原子,由此可见,在磷扩散时,为了促使POCl3充分的分解和避免PCl5对硅片表面的腐蚀作用,必须在通氮气的同时通入一定流量的氧气。在有氧气的存在时,POCl3热

7、分解的反应式为:POCL3+5O22P2O5+6CL2POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面,P2O5与硅反应生成SiO2和磷原子,并在硅片表面形成一层磷-硅玻璃,然后磷原子再向硅中进行扩散。POCl3液态源扩散方法具有生产效率较高,得到PN结均匀、平整和扩散层表面良好等优点,这对于制作具有大面积结的太阳电池是非常重要的。载气小N2POCL3O2+大N2石英管扩散装置示意图制PN结(扩散)扩散原理:PSG除去硅磷气体反应淀积O2硅氧化POCl3O2SiO2SiO2杂质再分布去边结-刻蚀目的:去除硅片边缘的N型区域,将硅片内部的N层和P层隔离开,以达到PN

8、结的结构要求。原理:干法刻蚀(等离子刻蚀):等离子体

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。