瓦克 气相二氧化硅介绍.pdf

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1、CREATINGTOMORROW`SSOLUTIONS6,03瓦克HDK®气相二氧化硅产品及其在胶粘剂中的流变规律7,90范琴,高级技术经理,29thFebruary2016Titleofthepresentation0ofxxDate内容6,03瓦克HDK®气相二氧化硅产品的生产工艺瓦克HDK®气相二氧化硅产品的分类瓦克HDK®气相二氧化硅产品的流变机理瓦克HDK®气相二氧化硅的分散指南7,90Titleofthepresentation1ofxxDate瓦克HDK®气相二氧化硅产品的生产工艺6,037,90Titleofthepresentation2ofxxDa

2、teHDK®属于人工合成的无定形二氧化硅6,03SiO2天然晶体人工合成的无定形体沉淀法焰解法石英硅胶气相二氧化硅沉淀法二氧化硅HDK®7,90Titleofthepresentation3ofxxDateHDK®气相二氧化硅是由四氯硅烷的焰解反应制得6,031200-1500°CSiCl4+2H2+O2SiO2+4HCl结构原生粒子聚集体附聚体(松散的三维结构)粒径Ф5-50nm0.1-0.5µm>>1µm7,90原生粒子不会以单独的形式存在!Titleofthepresentation4ofxxDate焰解反应可制得不同比表面积的HDK®6,03•原生粒子粒径大原生粒子粒

3、径(nm)•聚集体大比表面积小6050•原生粒子粒径小•聚集体小40比表面积大30201000501001502002503003504004507,90*比表面积测试方法:(DINISO9277/DIN66132)比表面积单位*(m2/g)Titleofthepresentation5ofxxDateHDK®气相二氧化硅的化学结构6,03独特的结构OOH•高比表面积OSiOO•高填充的聚集体SiOOOPyrogenicAmorphousSiOOOSi2OSiOOH独特的化学性•独立的SiOH基团:•每平方纳米有2个•亲水性表面•氢键结合•化学接枝7,90Titleoft

4、hepresentation6ofxxDate瓦克HDK®气相二氧化硅产品的分类6,037,90Titleofthepresentation7ofxxDate疏水型HDK®是通过有机硅烷处理亲水型HDK®表面的Si-OH而得6,03亲水型疏水型HHCH3CH3OHCH3S独立硅醇键CH3OCHiO3OSOHCHi3S毗邻的硅醇键SOiSCH3SiSSHDK®iiHDK®iSCH3iSi硅氧烷链接SOiCHSi3Oi亲水型HDK®疏水型HDK®•极性表面由焰解反应制得•通过有机硅烷处理得到非极性表面7,90Titleofthepresentation8ofxxDateHDK®产

5、品系列的介绍6,03比表面积亲水型HDK®疏水型HDK®m²/g未压缩压缩二甲基硅烷六甲基硅烷聚二甲基硅氧烷130HDK®S13HDK®S13PHDK®H13L150HDK®V15HDK®V15PHDK®H15HDK®H17150HDK®V15AHDK®V15ADHDK®H15L200HDK®N20HDK®N20PHDK®H20HDK®H2000HDK®H18200HDK®N20STHDK®N20PharmaHDK®N20Nutrition300HDK®T30HDK®T30PHDK®H30400HDK®T40HDK®T40P7,90Titleofthepresentation

6、9ofxxDate使用气相二氧化硅的流变机理6,03粉末体系液体体系干燥表面:HDK®颗粒包裹在粉体颗粒的表面,“液体表面“:HDK®颗粒会进入液相屏蔽它们彼此;作用:流动性作用:粘度提高7,90Titleofthepresentation10ofxxDateHDK®为您的体系设计最适宜的流变学程序_可逆的网状结构6,03良好的分散在剪切作用之前的附聚体附聚体被打破而形成聚集体静置形成氢键桥联剪切氢键桥联被破坏聚集体三维网络结构;增稠过程7,90Titleofthepresentation11ofxxDateHDK®能有效地控制产品的流动性6,03粘度的改变以满足性能的要求涂

7、料胶粘剂膏状物Adhesive抗流挂抗分层抗沉降HDK®w/oHDK®HDK®w/oHDK®w/oHDK®7,90tearsTitleofthepresentation12ofxxDate影响体系流变性能的主要因素6,03气硅和体系的极性差异气硅的比表面积气硅润湿的条件气硅分散的情况7,90Titleofthepresentation13ofxxDateHDK®产品的极性差异6,03极性强中等极性弱极性HDK®T30/T40HDK®H13LHDK®H18HDK®H15HDK®N20HDK®H17

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