专利布局遭遇巨头占坑,如何找到二次创新点？

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1、专^布局遭遇巨头占坑，如何找到二次创新点？读者来信：我们公司从事石墨烯领域，申请了不少石墨烯应用专？!］，但一些基础核心专利早已是被不少国外巨头占〃坑〃，现在想要快速找到一些创新、二次改进的突破点，但侵权风险同样巨大，且涉及到的专利检索分析工作十分繁重，有些什么好的技巧可以分享下吗？这是在智慧芽微信公众号上收到的读者留言,其中提到的企业状况十分普遍。所在领域遭遇硏发实力强劲的海外巨头，尤其是一些绕不开的核心专^被垄断时,国内后来者想要获得技术突破可谓步履维艰。不过今天我们给大家介绍_个方法,希望

2、可以解决这个困扰,那就是〃在别人的院子里搭椅子种树”O什么意思呢？当技术核心专利被国外竞争对手控制时，沿着其技术发展路径，进行改进、变型或者再创新,就是所谓的〃在别人的院子里搭椅子种树"。这建立在对竞争对手情报的透彻掌握和对于技术专利布局的全面分析基础之上,同时对自身的创新硏发实力也是巨大考验O在此情况下，有哪些技巧可以帮助提高技术硏发的效率呢？智慧芽专利产品从以下几个方面来助你一臂之力：1.摸清别人的布局思路■锁定"标的物"以石墨烯晶体管领域为例,我们借助智慧芽3D全景地图，通过将该领域100

3、0条专^信息进行智能化处理利用文本聚类方法根据钢啲IPC分类号标题，摘要等生成了一张专W也图。在图中,山峰高低代表专利数量多少,山峰远近代表两个聚类的技术关联的紧密程度。ns.MJH芽风・介•Ht方MLN・aAAkntft・Kfi先・MHt用覧石ftinHU・JK亦.«RAnIK纳米"・学石am訥米ir电熬.•机石AKA<4tf.场效应H侔■・■干干修效R・fitil电»来源：智慧芽3D全景专地图图中红色圆点为IBM专利布局，蓝色为三星布局选择IBM和三星公司为分析对象，可以看到在热点技术密集区

4、，两家公司都有大规模占〃坑〃。点击每个圆点可以看到逐条专^的详情，例如我们锁定〃碳纳米管，半导体〃等关键词标签的领域，通过分析重点专利条目，了解到对碳化硅衬底进行热分解可合成统_的高品质石墨烯是IBM的技术聚焦点。★葩葩注：关于石墨烯领域的技术分布、应用领域、竞争公司，我们之前专门写过一份石墨烯专利报告，点击「阅读原文」可以获］1.通过引用文献信息,找到二次创新灵感锁定目标领域后，通过查看巨头专^的引用信息，包括专^撰写时提及的弓I用文献情况及审查员在审查过程中的引用标注，可以帮助跟随者找到二次

5、创新的思路。例如IBM公司石墨烯技术上布局的一条专^US9105853我们可以追溯到这条专^历代引用坦中引用过2004年日本一项「电场诱导破坏的纳米结构和方法」的专^,该专利评估价值为160万美元。OUS6524920*♦OW0200301C837A1OU96515339OW0200300C837A2OUS20020130333A1OW02002011216A1OUS2002000-905A1OUS20010023986A10<>EP1124262A2fiOW0200103S264A1OUS60

6、25235OJP1996107064A*OUS4581076flOUS20060073667A1*OUS20050199731A9-OUS6891227爭OCN1491419A0OUS20030042562A1*9US6528816OW02002080196A1OU!20130311A1fiVOJP1&96107064OUS2012005230eA1K>USH54183OUS2010004423CA1

7、31VOUS20060105523A1K)US6891227VOUS2004018307CA1fK)US5708123訓用11Y)US9105853来源：智慧芽全球专利数据库引用分析功能帮助找到硏发灵感同时，有一个小窍门是图中红色按钮标注的是无效专^信息，该条日本专^已经处于无效状态，这也可作为重点关注的维度，分析人员可以挖掘无效专利，看看能否可以为自己所用。1.有了新的研发idea,丢进专利地图验证可行性有了一些二次创新的思路后，如何快速判断该想法可不可行？有没有被其他公司早已赶在前头?这个时

8、候借助智慧芽3D专^地图的一项小功能，在文本框中输入自己的研发思路，图中的倒三角将显示在行业内所处的位置。发现该领域其他公司已做近彳以布局，可以避免重复研发，或者及时调整硏发方向规避侵权风险。例如笔者将一个石墨烯晶体管的初步思路复制在T字功能文本框中，图中即刻展示所处的领域专^布局情况：Graphene-basedtransistorAgraphenelayerisformedonasurfaceofasniccncarbidesuostrateAdummygatestructureisform