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1、镀膜员工试题库填空题:1.关机时,关掉扩散泵加热，需要冷却60分种以上时间才可以关掉总电源2.我们正常镀膜过程中镜片需要镀膜的一面应该向下放置。3、写出+XP的意思向正方向调X方向位置4.新科隆机SID1100中生产IRCUT滤色片,每层开镀时,TiO2材料的起始光控曲线方向向上,SiO2材料的光控曲线方向向下。5.新科隆机SID1100中的离子源,有3片栅极,从上到下依次为TOP,MID,BOT;栅极间总共有12片陶瓷片绝缘.6.现在我们使用的镀膜机光学控制方式有反射式和透射式两种,昭和机属于透射式新科隆机属于反射式，光
2、驰机属于反射式。7.相同蒸发条件下，饼料的SIO2，和颗粒状的SIO2，饼料的SiO2所需的蒸发功率要高。8.比较下列膜料正常蒸发功率，由大到小排列：MgF2H4SiO2H4>SiO2>MgF29.选择下列光学原理：a、光的反射原理b、光的折射原理c、光的干涉原理d、光的投射原理（1）看到水中筷子是弯曲的,利用光的b（2）看到镜子里自已像，利用光的a（3）光学薄膜利用光的c10.真空可以大致分为四段，分别为初真空、低真空、高真空、超高真空11.在真空的定义范围内，高真空度范围是10-1-10-6Pa12.电子枪分为180°
3、枪和270°枪，而目前韩一机器的电子枪180度，光驰机器的电子枪180度，昭和机器的电子枪270 度，新柯隆机器的电子枪180度，13.镜片放到镀膜机后，关门加热抽真空，等到真空度和温度到达，两者都满足设定要求后，机器才能开始镀膜。14．目前我们镀膜机有两种厚度控制方法：晶振控制和光控控制、15．昭和机器在没有放光控监控片下镀膜时，光控曲线直线形状16、报警程序中PFC报警，其中PFC含义：POLYCOLD17、当扩散泵指示灯闪烁时说明扩散泵还在加热中，还不能打开高阀。18、当扩散泵指示灯不闪烁时说明扩散泵已加热完成，可以
4、正常工作。19、写出-YS的意思减少Y方向电子枪光斑大小20、目前我们镀膜机抽真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵组成21、镀膜机中,膜层厚度的记录单位是:埃（A）,与米(m)的换算关系是:10-10,速率的单位是:A/S.22、保持镀膜机开门时间尽可能的短，是为了防止真空室内部的护板吸附空气中的水汽，使镀膜机的抽速变慢，影响产品的品质。23、薄膜微观结构是柱状结构，为了改善膜层结构，提高聚集密度，分别出现了三种成膜工艺离子辅助、反应离子镀、溅射24光学镀膜机真空排气系统中，机械泵排气原理：机械压缩排除气体扩散泵排气原理：靠蒸
5、汽射流携带排除气体25、POLYCOLD工作原理：利用低温表面对气体进行物理吸附排气26、写出下列薄膜种类符号：（1）减反膜（2）、分束膜（3）内反射（4）偏振膜27、写出下列真空度转换关系：1Pa=10-2Mbar=0.75E-2Torr1Torr=133Pa=1.33Mbar28、镀单层MgF2,目前镀的是500nm，晶振厚度是1000A，而现在需要镀550nm，那么输入晶振厚度约为1100A29、该层晶振厚度是800A，现已镀了150A，由于某种原因充气而需要加镀，那么加镀晶振厚度是650A30、写出镀膜机各控制阀门
6、的中文名称：MV高阀DP扩散泵RV粗抽阀SLV细充气阀FV辅助阀31、光学玻璃BK7折射率为1.517,则该玻璃表面单面反射率是4.219%。32、真空规管测量原理通过气体放电方式产生电子，通过磁场使电子获得能量将气体分子电离33、石英晶体控制原理主要是利用了石英晶体的两个效应，即压电效应和质量负荷效应。34、长波通膜系基本结构公式A/(0.5HL0.5H)^p/G短波通膜系基本结构公式A/(0.5LH0.5L)^p/G35、现配有2把电子枪，面向机器左边为EB1,右边为EB2.36、正常新晶振的频率为6MHz左右.37、
7、一般情况下,真空达到7.0Pa以上,高阀才会自动开启,5E-3Pa时,可以预熔膜料.38、开机时,扩散泵中的油温需加热到250℃左右,扩散泵才能抽真空39、氧气瓶中氧气的压力须大于3KG.40、若一个膜系40层,每个光控片控制2层膜,再备2片余量,总共需要放22片光控片.41、镀膜机开机前必须检查冷却水,压缩空气,电是否正常,是否稳定供应.42、晶振冷却水的进水温度要求是：18~25℃43、写出下列膜料分子式：二氧化硅SiO2氟化镁MgF2二氧化钛TiO2氧化铝AL2O344、写出下列膜料分子式的名称：Ta2O5五氧化二钽
8、Nb2O5五氧化二钕SiO一氧化硅MgO氧化镁45、韩一镀膜机有2个晶振头，外边为1号，里边为2号。46、在点检机械泵、罗茨泵部件，必须查看油位是否满足标准要求47、打开镀膜机时，必须给扩散泵预加热60分钟后才能用扩散泵抽真空48、清冼电子枪、规管或离子源等部件，必须戴手套进行操作49、利用光控控制镀膜
