纯平全抛釉的研制

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1、CMYK工艺与设备纯平全抛釉的研制卢锦葵陈志川王瑞锋王彦君（东莞市唯美陶瓷工业园有限公司）【摘要】纯平全抛工艺随着全抛釉产品的热销越来越受到重视。本文研究了釉料配方、模具、抛光工艺等对釉面透明度和平整度的影响，结果表明通过调整配方和工艺条件，将淋釉量增至普通全抛釉的2～4倍结合合适的抛光工艺能够得到合适的纯平全抛釉面。【关键词】纯平全抛；透明度；平整度；淋釉量1前言等常用原料，为了提高釉的透明度也使用了一种熔块料，其组成见表1。将称好的原料按料:水=1:0.5球磨近年来，全抛釉和微晶石由于其光亮平整的抛光釉到一定

2、细度后除铁备用。采用淋釉法每块800mm×面，装饰效果奢华时尚成为高尚生活的象征，一直是市800mm规格坯体淋釉1kg，干燥后在辊道窑中烧成，烧成场上的宠儿。但由于生产工艺技术上的局限，全抛釉产温度1220℃时间70min。品釉面平整度不够；微晶石虽然表面平整但售价过高而表1熔块料的组成显得曲高和寡，莫氏硬度、磨耗等物理性能较差又制约SiO2Al2O3Fe2O3CaOMgOZnONa2OK2OI.L合计[1-4]了其应用范围，导致市场销售不佳。58.539.600.1013.072.996.614.310.314

3、.0399.55纯平全抛主要是在普通全抛釉的基础上大幅提升抛光釉面的平整度和光泽度的均匀性，同时价格上仅略2.2表征高于普通全抛釉，做到产品品质与价格上的完美结合。抛光面平整度评估是将砖平放在水平地面上，用肉本项目的基本研究思路是在普通全抛釉工艺的基础上，眼（平时带眼镜的可戴上眼镜）以标准距离1.5m的视距通过改变透明釉的配方和加工方法提高其透明度并保观测抛光面，光源在人的对面（光源是直管日光灯）与砖障关键物化性能，再将透明釉的淋釉量增至普通全抛釉表面上的入射角约为45°，与砖面距离1000±100mm，淋釉量的

4、2～4倍，施釉后的坯体经干燥处理入窑烧成，避免灯光直接照射，使观测者能清楚看到抛光面反射的根据调整后的模块配比抛光，抛光后透明釉层达0.4～灯光倒影。0.6mm厚度的抛釉砖产品。纯平全抛项目所开发的产品评价的参数为反射清晰度和失真程度，观测抛光面不仅是简单的加厚釉层，还需保障各项理化指标达标，上的灯管图象是否清晰和失真是否严重。灯管图案清研发出既有一定釉层厚度，又能保证砖形、釉面透度、防晰，灯管非常直，图案几乎无失真的情况为A级，纯平全污、耐酸碱、耐磨度等理化项目达标的产品。抛需要达到此等级；灯管图案清晰，灯管有

5、波浪变形，图案部分失真的情况为B级，市场上常规全抛釉为此等2实验部分级；灯管图案模糊，灯管变形较大，失真较明显的情况为2.1样品的制备C级，不做抛光处理的釉面砖多位此等级。参照上述评价标准，纯平全抛项目所生产产品必须达到A级，并作纯平全抛产品与普通全抛釉产品相比最大的特点为一个必要判断标准。在于产品的通透感和抛光后的平整度明显提升，接近微晶石的表面效果。要通过淋透明釉达到这种效果，就需3实验结果与讨论要大幅度增加透明釉的厚度，同时保证其透明度。此外在配套模具，抛光磨头和工艺上都需要有所改进，才能3.1原料对釉面性

6、能的影响保证纯平全抛项目的顺利进行。纯平全抛的关键环节之一就是透明釉的调整。实验本实验选用长石、粘土、石英、氧化锌、碳酸钙、滑石初期采用增加全抛釉产品现有透明釉厚度的方法，烧成CMYK工艺与设备后产品透明度明显降低，釉层内气泡明显增多，抛光后表4引入超细石英粉试验吸污严重，完全无法达到纯平全抛项目的要求。单纯通编高碳滑石钠熔超细评ZnO岭酸长石英过提高碱金属、碱土金属在配方中的比例来增加透感，号土钙石英石块粉判会造成透明釉在高温时分解气体增多从而使得透明釉1138820153530583针孔增加，同时会降低釉层的

7、硬度和耐腐蚀能力。通过123882010353010871338820535301590引入熔块来调整配方体系，可以拓宽透明釉的烧成范1438820035302092围，减少釉料中可分解出气体的成分，增加配方的透明，有利于透明釉层的增厚。由表4可知，用超细石英粉替代原始石英后气泡数实验将ZnO含量固定为2，高岭土含量固定为8，碳量减少且体积减小，随着替代量的增加，改善效果不断酸钙含量固定为8，以滑石、石英、钠长石、熔块作4因明显，当超细石英粉全部替代原始的石英达到最佳效素3水平试验。将透明釉的透明度及气泡情况作为

8、主要果，选择方案14#作为纯平透明釉的最终配方。判别依据，正交实验设计和结果见表2。正交实验表明釉的透明度与其是否存在晶体以及晶体的种类和钠长石属于主要因素，滑石和石英属于次要因素。用表大小有关，一般来讲釉中不存在晶体或晶体的折射率与[5,6]中最佳结果A1B3C3D3与正交实验得出的最优组合玻璃基体想当时釉的透明度最高。图1为14#釉面A2B2C3D3再作一组实验比较，