喷液式高速走丝电火花线切割高效切割

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1、第43卷第1期2011年2月南京航JournalofNanjing空航天大学学报UniversityofAeronautics8LAstronauticsV01.43No.1Feb.2011喷液式高速走丝电火花线切割高刘志东王振兴张艳(南京航空航天大学机电学院,南京,210016)效切割摘要:研究了高速走丝电火花线切割在浇注式与喷液式冷却条件下不同脉宽、放电峰值电流、脉间及喷液压力、喷距、运丝速度等因素对大能量高效放电切割的影响规律,分析认为大能量高效切割极间放电状况恶化的原因主要是极间工作液在巨大放电热量作用下产生汽化造成的,并验证了喷液式冷却方式是改善大能

2、量条件下高效切割极间冷却状态恶化的有效手段,采用喷液方式突破了切割效率长期徘徊在200mm2/min的局面,最高切割效率可以提高20%,并且切割表面质量有很大改善。文中还针对喷液冷却体现出的高效切割工艺规律对今后喷液式高速走丝电火花线切割的设计提出了指导原则。关键词:电火花线切割;高效切割;复合工作液;高压喷液中图分类号:TG661文献标识码:A文章编号:1005—2615(2011)01—0061—05EfficientCuttingofHighSpeedWire-CutElectricalDischargeMachiningbyLiquidSprayLiu

3、Zhidong,WangZhenxing,ZhangYan(CollegeofMechanicalandElectricalEngineering,NanjingUniversityofAeronautics&Astronautics,Nanjing,210016,China)Abstract:Theeffectsofsomefactors,suchaspulse-width,maximumdischargecurrent,inter—pulse,spraypressure,jetdistanceandtravellingspeedofwire—electro

4、dearestudied,onthelargeenergyeffi—cientcuttingofthehighspeedwire—cutelectricaldischargemachining(HSWEDM)withtheinterelee—trodebeingrespectivelycooledbypouringandspraying.Theanalysissuggeststhattheinterelectrododeteriorationofefficientiscuttingwithlargeenergycausedbythegasifiedcoolin

5、gliquidontremendousdischargeenergyaction.Thesprayingisprovedtobeanefficientmeanstodecreaseinterelectrodedete—riorationofefficientcuttingwithlargeenergy.Bysprayingthecuttingsurfacequalityisimprovedandthemaximumcuttingefficiencyisincreasedby20%.Itisabreakthroughonthecuttingefficiencyf

6、l$ithasbeenaround200mm2/rainforalong—term.SomeguidelinesforthedesignofthesprayingHSWEDMareputforwardaccordingtotechnologicalruleofefficientcuttingbyspraying.Keywords:wire—cutelectricaldischargemachining;efficientcutting;compositecoolingliquid;high—pressureinjection对于电火花线切割,提高切割效率是其永

7、恒的主题。近年来高速走丝电火花线切割(Highspeedwire—cutelectricaldischargemachining,HSwEDM)随着“中走丝”机床(具有多次切割功能的HSWEDMcl3)加工工艺的逐步成熟及复合工作液的普及,最高稳定切割效率已从以往100mm2/rain左右跃居到200mm2/min[2-s],但达到这一指标后似乎又停滞不前了,分析其最根本的原因基金项目:江苏省自然科学基金(BK2008393)资助项目。收稿日期:2010·04-07;修订日期:2010—05—19通讯作者:刘志东,男,教授,博士生导师,1966年3月生,E—m

8、ail:liutim@nuaa.edu

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