附件-硬质玉米水分计检定检查技术规范

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1、二丄A硬質玉米水分計檢定檢査技術規範編號CNMV59-2版次第丨版-、本技術規範依度僦衡法第十四條第二項及第十六條第二項規定訂定之°二、木技術規範歷次公告门期、文號・實施口期及修正內容如下：版次公告日期文號（經標四字）實施日期修止內容1103.11.06第10340009860號105.07.01三、本技術規範參考國際規範如卜•：OIMLR59Moisturemetersforcerealgniinandoilseeds(1984)公告1」期103年11月6日經濟部標準檢驗局實施1」期105年7月1日1.適用範圍

2、1.1本技術規範適用於應受檢定、檢查之硬質玉米水分計(以下簡稱水分計)，以直接置入駛質玉米籽粒之方式進行量測並顯示其含水率。1.2量測原理是根據物理或物理化學方式如各種電學原理、加熱技術或電磁波原理等，以量測硬質玉米籽粒之含水率。2.用詞定義2.1含水率=(硬質玉米籽粒內所含之水分重量/硬質玉米籽粒取樣之重量)xlOO%；上述含水率為濕基(wetbasis)含水率°2.2A類型水分計：為全自動水分計即自動進料並提供量測結果之列印裝置。2.3B類型水分計：無法符合A類型器具之相關要求，但可提供含水率之最低要求量測結

3、果。3.一般規定3.1為避免水氣冷凝現象，待測標準硬質玉米籽粒樣本應存放密封容器中。當樣本溫度與環境溫度達熱平衡時，始可進行量測。3.2A類型水分計不得由使用者自行判斷確認溫度、體積或重量等外部操作，如待測樣本不允許外部研磨、秤重及溫度量測等人為操作。3.3B類型水分計使用者應遵照製造商所提供說明書執行操作程序。3.4使用者應遵照製造商所提供說明書去除雜物等以完成清潔程序，始可送檢定。4.構造4.1水分計應於明顯處標示下列事項：製造或輸入廠商之名稱或標記、地址。型號及器號，如水分量測部分與本體為可分離者，其各部組

4、件必須加註器號。⑶類型(A類型或B類型)。(4)含水率量測範圍，以百分比(％)表示。(5)其他相關操作資訊。4.2使用方式電容式原理之水分計，樣本放置處必須標示其取樣高度或樣本重量，得附屬取樣容器以規範樣本之密度。4.2.2電阻式原理之水分計，其樣本放置必須註明樣本量，利用施壓方式量測樣本電阻時，應有維持操作壓力為定值之裝置。以加熱、電磁波或以其他量測原理所量測之水分計，應提供適當樣本容器以決定樣本所需數量。4.3電容式原理之B類型水分計應提供適當樣本之容器或重量，以決定樣本所需數量。4.4水分計顯示方式4.4.

5、1水分計應以數值直接顯示(即數位式)，其最小分度值至少為0.1%；含水率應顯示並記錄以濕基為依據之百分比，不得以指針式顯示其含水率。A類型水分計應顯示或記錄其含水率、容重值及溫度。4.5水分計之數位顯示字體之高度不得小於10mm。4.6當水分計開機未達原廠指定工作溫度所需之時間時，應不得顯示或記錄任何可用的數值。若有預熱時間應顯示於螢幕上或明確標示。1.檢定與公差5.1檢定設備：須提出驗證設備之系統具追溯性及不確定度驗證證明。標準衡器：最小分度值1mg以下。烘箱(含溫度計)：可讀取室溫至150C以上，最小分度值為

6、0.5C以下。5.2水分計之檢定程序必須在溫度(23±3)°C，相對濕度(55+15)%之環境下執行。5.3使用之標準硬質玉米籽粒樣本，應以每間隔2%含水率為檢測區間，含水率由12%至24%進行準確度檢定。5.4水分計檢定以未研磨之標準硬質玉米籽粒樣本置於水分皿上，並以空氣烘箱法進行量測。5.5標準硬質玉米籽粒樣本含水率之決定，應以103°C/72小時，連續乾燥樣本之烘箱法，確認標準硬質玉米籽粒前、後之含水率，得值XI與X2，兩者之差值應不大於0.3%，否則重做。XI與X2之平均值（:T）為其標準值。5.6以標準

7、硬質玉米籽粒檢定水分計，重複三次，取其平均量測值V（若有含水率修正對照表，以修正後之值為準），量測值（?）與標準值（F）之差值為器差。有關標準硬質玉米籽粒製作程序另定之。依第5.7節之檢定公差規定，判定合格與否。5.7檢定公差應符合表1之規定。表1檢定公差含水率（%）檢定公差含水率＜16%0.8%含水率£16%含水率x5%1.檢查6」檢查設備與檢定設備規定相同。6.2檢查程序得採本技術規範中全部或部分檢定項目實施。6.3水分計之檢查公差與檢定公差相同。2.檢定合格印證及證書7.1水分計之檢定合格印證位置衽主機可調

8、整孔或兩邊蓋之騎縫處黏貼檢定合格單。7.2水分計經檢定合格後，應發給檢定合格證書。7.3水分計檢定合格證書應記載下列項目：申請者、地址、廠牌、型號、器號、類型、檢定合格單號碼、檢定日期、有效期限、玉米品種、含水率修正對照表及其他必要事項。7.4水分計之檢定合格有效期問為1年，自附加檢定合格印證之日起至附加檢定合格印證月份之次月始日起算1年止。&含水率修正對照表&1本版次自