产品技术规格和要求表

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1、产品技术规格和要求表（供应商做《技术规格偏离表》要根据表B的内容逐条响应，根据投标产品的参数如实填写，不允许虚假应标，不允许直接拷贝招标规格，不允许简单应答“符合”、“响应”之类作为作为投标响应，也不允许缺项漏项，否则有可能被评委判定为技术参数的偏离甚至导致投标无效，其一切后果自负。）子包一、高分辨辉光放电质谱仪1套招标要求投标响应一、设备配置1.系统组成：1.1样品导入系统：a.要求可装载针状、片状、块状、粉末等样品；b.独立的样品装载室，样品室方便拆卸，清洗，以降低记忆效应。1.2辉光放电池：a.要求高纯钽放电池及离子源结构；b.要求可以对镀膜材料（包括导体、半导

2、体及非导体）、特种材料表面的涂层（或者镀层）中的杂质元素浓度进行深度剖析；△c.为减小磁性材料样品对放电环境的影响，稳定放电的电压连续可调，最低值应小于0.1kV；稳定放电的电流连续可调，最低值应小于0.1mA；△d.可以分析低熔点样品（如金属铟和镓）；e.气体背景：碳、氧、氮<1ppm；f.独立真空机制，拆卸、清洗方便；g.离子源及检测器狭缝，由用户根据需要自己调整获得最低值不高于400、最高值不低于10000的多种分辨。1.3质量分析系统：a.双聚焦磁式结构，对于磁场要求稳定，谱峰漂移不超过30ppm/30min，且连续可调；b.全质量扫描：在15分钟内完成对所有

3、元素ppm级的扫描。1.4检测系统：a.低噪音，电子倍增器和法拉第杯检测器系统，保证两个检测器从高强度至低强度的自动切换，响应时间<3s；△b.不小于12个数量级线性动态范围，从ppt到百分含量在一次扫描中完成。须提供官网测试数据或应用文献证明1.5真空系统：a.由分子泵（或者离子泵）、机械泵组成的多级真空系统。要求辉光放电室在样品载入后10分钟内将真空抽到≤8x10-4mbar；分析室：真空卸除后，重新启动要求在24小时内将真空抽到≤5×10-7mbar；b.离子源和分析器配有隔离阀，保护真空系统；c.真空系统全自动连锁保护；d.所有真空规均独立控制、实时检测系统真

4、空度。1.6数据采集和处理系统：a.配备齐全的实时数据采集和处理的硬件，包括数据采集卡、通讯卡、计算机、液晶屏显示器和激光打印机等；b.最新版本的仪器软件安装包，软件功能应包括控制质谱分析器和辉光放电离子源参数调节、部分和全部数据存取等；c.对数据处理分析软件，要求能够脱机独立运行，自带相对灵敏度因子（RSF）数据，进行定性/半定量分析，具有识别谱峰，辅助干扰峰判别，支持原始数据导入/导出功能；d.软件免费升级，且没有时间限制；e.计算机硬件：cpu至少双核、≥3G，内存DDRⅢ、容量≥4G，频率≥1G，硬盘≥500G，显示器≥22〞LCD，DVDR/W。激光打印机。

5、2.备件与耗材：a.具备稳压功能的不间断电源（UPS），要求断电后至少能延时90分钟1套b.120L液氮罐（如果仪器有液氮冷却需要），配与仪器直接连接的专用接口1套c.空气压缩机（带有干燥装置）：提供（6.55-9）bar的压缩空气1套d.适合充高纯（99.999%以上）氩气的气瓶，并带配套的减压阀1套e.一年消耗品包1套f.仪器质量校正所需的标样2个g.手板压机1套二、功能要求2.1无机材料（导体、半导体、非导体）的主量、次量、痕量成份分析；2.2镀膜材料（包括导体、半导体及非导体）、材料表面的涂层（或者镀层）中的杂质元素浓度及分布的深度分析。三、技术指标3.1.质

6、量数范围：覆盖（3~300）amu的范围；△3.2.分辨率：最低值不高于400、最高值不低于10000，连续可调；3.3.灵敏度（基体电流）：对于Cu基样品，在分辨率>4000时，63Cu离子流信号大于5×10-10安培；3.4.暗流平均背景：平均基线信号在没有离子流信号的质量数测定，比如220.5amu<0.5cps；△3.5.信号强度稳定性：在一个十分钟的分析周期中，对铜样品的63Cu同位素进行十次测量，最大峰强度的相对标准偏差（1σ）小于3%。△3.6.谱峰稳定性：对于Cu基样品，在分辨率>4000时，通过对63Cu在三十分钟内进行三十次测量，计算峰中心位置的相

7、对标准偏差值（1σ）小于30ppm；△3.7.丰度灵敏度：对于Cu基样品，在分辨率>4000时，62Cu相对63Cu的丰度灵敏度<100ppb；3.8.检出限：亚ppb；3.9.内部重复性：分别测定样品的主量成份（>10%），次量成份（0.1%-10%），痕量成份（<0.1%），连续重复10次测定，计算相对标准偏差（RSD）：主量成份RSD<3%，次量成份RSD<5%，痕量成份RSD<10%；3.10.外部重复性：对同一样品不同批次测量，进行10次测定，计算相对标准偏差（RSD）：主量成份RSD<5%，次量成份RSD<10%，痕量成份RSD<20%。