材料分析复习题费下载

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1、材料分析复习题一.……名词解释一.名词解释：光电效应质厚衬度X射线谱特征X射线谱：二次电子系统消光俄歇效应衍射衬度连续谱背散射电了结构因数激发电压等同晶面明场成像暗场成像景深相干散射非相干散射短波限特征谱干涉面衬度焦长品带复型标准零层倒易面和机常数多重性因子吸收电子光电效应：以光子激发原子所产生的激发和辐射过程称为光电效应。质厚衬度：由试样的厚度和密度造成的衬度。X射线谱：x射线管发出的x射线束的波长和强度的关系曲线。特征X射线谱：在连续谱的基础上叠加若干条具有一定波长的谱线，称为特征X射线谱。它和可

2、见光的单色相似，亦称单色X射线。二次电子：在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表而的样品的核外电子。系统消光：因原子在晶体中位置不同或原子种类不同而引起的某些方向上的衍射线消失的现象称之为系统消光。俄歇效应如果原子在入射的X射线光子的作用下，K层电子被击出，L层电子向K层跃迁，其能量差不是以产生K系X射线光量了的形式释放，而是被邻近电了所吸收，使这个电子受激发而逸出原子成为自由电子——俄歇电子（Augerelectrons）0这种现彖叫做俄歇效应。衍射衬度：由丁•样品中不同晶体（或同种品体不同位向）

3、衍射条件不同而造成的衬度差别称为衍射衬度。连续谱：具有连续波长的X射线，构成连续X射线谱，它和可见+-光相似，亦称多色X射线。（或答：管压很低时，X射线谱的曲线是连续变化的,称连续谱。）背散射电子：背散射电子是被固体试样表而的原子核反射回来的一部份入射电子，包描弹性背散射电子和非弹性背散射电子。结构因数F2：反映了晶胞内原子种类、原子个数、原子位置对（hkl）晶面衍射方向上衍射强度的影响。焦长：物平而同定，在保证象清晰的条件下，像平而沿透镜主轴上下移动的距离。（或答：透镜像平面允许的轴向偏弟）等同晶血

4、：晶面间距相同，晶面上原子排列规律相同的晶面.明场成像：让透射束通过物镜光阑，而把衍射束扌半住得到图象衬度的方法叫明场成像。暗场成像：用物镜光阑挡住透射束及其余衍射束，而只让一束强衍射束通过光阑参与成像的方法，称为暗场成像。景深：透镜物平面允许的轴向偏差。即当像平面固定吋，在保证像清晰的条件下，试样在物平面沿镜轴上下移动的最大距离。•相干散射•入射X射线光子与原子屮束缚较紧的内层电子相碰撞，电子发生受迫振动，向四周辐射电磁波，其辐射出电磁波的波长和频率与入射波完全相同,新的散射波Z间将可以发生相互干涉

5、——相干散射。非相干散射当x射线光子与束缚力不大的原子外层电子相撞吋，得到的散射波的波长和频率与入射波不同，且随散射角增大而移向长波，它们不能相互干涉。这种散射现彖称为不相干散射。短波限：在各种管压卜•的x射线连续谱都存在一个最短的波长值心，称为短波限。干涉面：为简化布拉格方程引入的实际存在或不存在的假想（虚拟）晶面。衬度：在荧光屏上或照相底片上，眼睛能观察到的光强度或感光度的差别。焦长：物平面固定，在保证像清晰的条件下，像平面沿透镜主轴上下移动的距离。晶带在晶体中，平行于某一晶向的所有晶面统称为一个

6、晶带，这个晶向为晶带轴°复型：把由浸蚀产生的金相试样表面显微组织浮雕复制到一种很薄的膜上，然后把复制薄膜放到透射屯镜中去观察分析，该薄膜称为复型。标准零层倒易面:零层倒易面屮，去掉结构消光条件倒易点的倒易面。相机常数：L2被称为相机常数，它是一个协调正、倒空间的比例常数。多重性因子：等同品而个数对衍射强度的彩响因子叫多重性因子，用P表示。吸收电了：二填空1.材料的性能由其内部的决定2.X射线的本质是，与所有的基木粒了一样，X射线具有_二彖性。波长较长的X射线，较低，穿透性弱，称为—X射线，可用于非金属

7、的分析。3.X射线的频率v、波长入以及其光子的能量£、动量p之间存在如下关系：€=P=O1.K系特征谱线包含Ka和KB两种类型谱线，其中波长XKa入KB,能量EKaEKB,强度IK。IK3（填大于，小于或等于）2.当X射线照射物质时，其强度随透入深度呈衰减。3.一束X射线通过物质时，它的能量会分为三部分、、4.非相干散射会增加连续背底,给衍射图象带來不利的影响5.只有当入射x射线的波长XXk时才能产生荧光辐射。1•产生衍射必须满足布拉格方程；在满足布拉格方程的方向并不一-定都有衍射线发生。2.用单色X

8、射线照射多品体粉末试样，衍射线分布在一组以入射线为轴的圆锥面上。在垂直于入射线的平底片上，得到一组同心圆。一般用以试样为轴的圆筒底片来记录，可看到一系列的对称弧线。3.获得衍射花样的基本方法有劳埃法、周转晶休法、粉末法。1•结构振幅是以单个—散射能力为单位的、反映一个散射能力的参量，是单位晶胞屮所有原子散射波叠加的波。2.影响多晶体衍射强度的因数有多重性因子、吸收因子、结构因数、温度因子、角因子。1.X射线衍射仪的主要组成部分有、、、O1•电磁透镜由线圈