电容屏Sensor制造流程

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1、电容屏Sensor制造流程工程顺序：①BMt②SPTITO-＞③EtchlTO—④X轴架桥（EOC光阻）-＞⑤SPTMo-Al-Mo-＞®EtchMo-Al-Mo^⑦保护层（EOC光阻）以下是各工程制程细部解说：第一道工程是BM（BlackMatrix）制造触控屏的遮光框及后续工程的对位记号。此工程需在黄光微影制程下生产。设备名称制程名称功能说明Loader投片机玻璃入料投入玻璃基板°UVCleaner紫外线洗净利用紫外线生成臭氧分解基板上的有机物。药洗机药液清沽利用碱性药液或清洁剂分解基板上的无机物，也可清洗有机物残骸。水洗机高压清洁咼压水柱大量冲洗基

2、板药液清洁后的残留物。超音波清沽超音波震荡出微细缝中的残留物。纯水清洁大量超纯水冲洗基板。液切风刀吹干基板上的水。IR/UVIR干燥以IR加热板高温蒸发水气，达基板表面完全干燥。Buffer缓冲区进入Coater前的缓冲。SpinCoater光阻涂布利用离心力旋转涂布黑色光阻剂（负型光刻胶）。软烤炉Pre-bake光阻以IR加热板烤干基板上的黑色光阻薄膜。曝光机曝光前恒温板基板经由软烤炉后需降温至与EM.光.罩同温，才可进行曝光＜光阻曝光将光罩设计图面1:1曝光转印在光阻薄膜上。端面洗净机基板端面洗净将基板四个边先做显影。显像（现象）机光阻显影利用碱性显

3、影药液分解基板上未曝光的黑色光阻薄膜。显影后洗净大量超纯水冲洗显影药液。Un-loader收片收片基板收入卡匣。使用HAPE台车搬运卡匣到硬烤炉硬烤炉Post-bake第二道工程是SPTITO（溅镀ITO导电膜），制造电容式触控屏的X轴Y轴电场。此工程需经过ITO洗净机后，再进入高真空溅镀机中生产。设备名称制程名称功能说明Loader投片机基板入料投入硬烤完成的BM基板（或是理卫.玻璃基板）。水磨刷水洗毛刷刷洗基板上的异物。洗中压水洗中高压水柱大量超纯水冲洗基板。机风刀风刀吹干基板上的水。IR段IR干燥以IR加热板高温蒸发水气，达基板表面完全干燥。UV段

4、UV改质利用紫外线改质BM基板表面，有利溅镀成膜。Loader投片机基板收料基板收片入卡匣。使用HAPE台车搬运卡匣到ITO溅镀机ITO溅镀机ITO镀膜在高温高真空炉中，利用高磁场磁控ITQ.靶材溅镀ITO膜。第三道工程是EtchITO，制造电容式触控屏的X轴Y轴设计图案。此工程再回到黄光微影制程生产，及ITO蚀刻室。设备名称制程名称功能说明Loader投片很L玻璃入料投入ITO成膜后的ITO玻璃基板。UVCleaner紫外线洗净利用紫外线生成臭氧分解基板上的有机物。药洗机药液清洁利用碱性药液或清一洁剂分解基板上的无机物，也可清洗有机物残骸。水洗机高压清

5、洁咼压水柱大量冲洗基板药液清洁后的残留物。超音波OFF有ITO膜不可开超音波。纯水清沽大量超纯水冲洗基板。液切风刀吹干基板上的水。IR/UVIRT燥以IR加热板咼温蒸发水气，达基板表面完全干燥。Buffer缓冲区进入Coater前的缓冲。SpinCoater光阻涂布利用离心力旋转涂布正型光阻剂（光刻胶）。软烤炉Pre-bake光阻以IR加热板烤干基板上的正型光阻薄膜。曝尢机曝光前恒温板基板经由软烤炉后需降温至与ito.^b同温，才可进行曝光＜光阻曝光将光罩设计图面1:1曝光转印在光阻薄膜上。端面洗净机基板端面洗净将基板四个边先做显影。显像（现象）机光阻显

6、影利用有:机碱显影药液（工M颠）分解基板上曝光的正型光阻薄膜。显影后洗净大量超纯水冲洗显影药液。Un-loader收片收片基板收入卡匣。使用HAPE台车搬运卡匣到ITO蚀刻室ITO蚀刻机ITO蚀刻用！工0蚀刻剂蚀刻山ITOPattern图形。剥膜机正光阻剥膜用碱性药液.KQ也或剝膜液去除上面的正型光阻薄膜。第四道工程是X轴架桥（EOC光阻），制造电容式触控屏的连通X轴架桥。此工程再回到黄光微影制程生产。设备名称制程名称功能说明Loader投片机玻璃入料投入ITOPattern基板。UVCleaner紫外线洗净利用紫外线生成臭氧分解基板上的有机物。药洗机药

7、液清洁利用碱性药液.KQ旦或清洁剂分解基板上的无机物'也可清洗有机物残骸。水洗机高压清洁高压水柱大量冲洗基板药液清洁后的残留物。超音波OFF有ITO膜不可开超音波。纯水清洁大量超纯水冲洗基板。液切风刀吹干基板上的水。IR/UVIR干燥以IR加热板高温蒸发水气，达基板表面完全干燥。Buffer缓冲区进入Coater前的缓冲。SpinCoater光阻涂布利用离心力旋转涂布EQC光阻剂.（负型光刻胶）。软烤炉Pre-bake光阻以IR加热板烤干基板上的EOC光阻薄膜。曝光机曝光前恒温板基板经由软烤炉后需降温至勻QCJL光罩同温，才可进行曝光＜光阻曝光将光罩设计

8、图面1:1曝光转印在光阻薄膜上。端面洗净机基板端面洗净将基板四个边先做显影。显像