变电站设备绝缘在线智能监测及诊断系统（装置）

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1、「國科會高屏地區奈米核心設施共同實驗室」無塵室等級ClasslOOOO（佔地約80坪）。NormalCleanroom理1012室…upsnSystemF耳RTA■■4

2、x>intprobernri&kanalyzerAligneriirufIxjx^urvSjstemYellowroommicrovcnpc&XcixxoilSysteini^iinipNormalCleanroom理1013室LaserAnnealingSystemChan^in^RoomCleanroommapProcessSyste

3、msNo.Facilities機台特色優勢採購日期/開放時間/位置/負責教授1需求性：V>1MaskAlignerandExposure黃光製程機台不管在業界或者學術界向來皆是非常重要與實用的機System器，在學術硏究上，不只可以增進實驗的硏究精度，更可利用光罩（光學微影系統）做山實際所需的樣品元件，而且可與核心設施內的製程機台達到互儀器廠牌、型號：補的作用，方便實驗的進行聚昌，Psur-IOOHB特色：•有近紫外（NearUV）光與深紫外（DeepUV）光兩種燈源可選擇使儀器規格：用singlesid

4、eligner•最小線寬解析度可達0.6“m以下DeepUV(powcr=500W)•可放置3”x3”、4”x4”或5”x5”的光罩93.12.31l.Resolutio<0.6pm•樣品放置載台有2”x2”與4”x4”兩種尺寸95.05.012.解析度<0.4pm之實測優勢：理1013室報告•機台使用便利、操作簡單，口整合在核心設施中的無塵室，方周雄教授3.CameraCCD便樣品前置作業或者後續的處理製程4,Maskholder”x5”and4”x4”•24小時不打惮，只需上網登記即可使用，實驗效率大

5、大捉升5.Chuckfragmentsupto2Mx•可視樣品所需線寬來選擇不同燈源與光阻劑，並可調整光源功2”and4"x4"率大小（最大爲50（）W），以達到最佳效果6.自動操作程序儲存及控預期成效：制系統（＞50組程序）目刖主要的使用者是以校內爲主，橫跨眾多系所，而校外如嘉義大7.最小破片處理能W5x5mm學也有學生參與訓練，說明了儀器的實用性與便利性，而光罩對準（非僅限於中心點）機目前也是核心設施中經認證人數最多的機台，預期未來使用人數8.光學顯微鏡最大倍率2與時數也會相對上升。500倍最小倍率W

6、50倍9.平均移動解析度W0.1pm2-j■機台之重要性：96.07.19在半導體製程中，薄膜沉積一向是很重要的一個環節，而本機96.08.011台藉由濺鍍法能沉積金屬薄膜與介電質薄膜。此兩種薄膜更是元件理1012室F中不可或缺的一部分，如何能夠快速的沉積元件的薄膜並擁有艮好張鼎張教授Multi-TargetSputter的均勻度與品質是很重要的。（多靶磁控濺鍍系統）儀器廠牌、型號：聚昌，Psur-IOOHB設備規格及適用基板：non-uniformity:<10%靶材規格：4”。2二3”、4"、6”基板

7、及破片。機台之特色：本機台爲多靶磁控濺鍍系統，共計三支Gun，分別配有一組DC電源供應器及兩組RF電源供應器，適用於同時多靶共鍍，沉積各種不同混合材料的薄膜，也能於製程中依序一次完成半導體薄膜、介電質薄膜以及金屬薄膜的沉積。另外，本機台也配置了基板加熱器，可於高溫下沉積薄膜，最高溫可達四百度。機台之優勢：本機台具有高抽氣率的真空幫浦'抽氣20分鐘後真空度即可達2.4E-5torr，大幅縮減不必耍的等待時間，提升了整體製程的速率。此外‘軟體介面操作簡單，可自動化製程，藉由二支Gun（—組DC，兩組RF）搭配

8、不同氣體：Ar、0?、2、側、吐等五種氣體去沉積各種合成半導體、金屬以及介電層薄膜，大幅增加成長薄膜材料的多元性，且透過高溫製程下的薄膜可提高薄膜品質穩定性及均勻度。另外，本機台也配置了一組膜厚偵測器，能於製程的同時精確監控薄膜的沉積厚度。機台之預期成效：以本機台之優越性能及高製程穩定度，相信必能成爲學界或業界的硏究利器，而且本屮心之使用開放程度極高，相信於前述幾項之優點搭配下，必能有極高之成效。3M

9、II严91J11HighDensityPlasmaChemicalVaporDeposition（HDP

10、-CVD）（高密度電漿化學氣相沈積系統）儀器廠牌、型號：聚昌,Ciede-200設備規格及適用基板：non-uniformity:<10%。23”、4”、6“基板一片及破片。機台之重要性：在製作半導體元件如TFT或MOS結構時，介電層（絕緣層）扮演很重要的角色，介電層（絕緣層）越是具有低漏電流、高介電常數的特性，其元件特性就會表現的越好，因此製作品質良好口特性優良的介電層（絕緣層）薄膜是製作元件中重要的一個要素。該機台之特色