云南省玉溪一中高三下学期第一次月考化学试卷含解析

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1、2015-2016学年云南省玉溪一中高三(下)第一次月考化学试卷一、选择题:本题共7小题,每小题6分,每小题给出的四个选项中,每只有一项是符合题目要求的.1.化学是一门实用性强的自然科学,在社会、生产、生活中起着重要的作用,下列说法不正确的是()A.油条的制作口诀是“一碱、二矶、三钱盐〃,其中的"碱"是烧碱B.黑火药的最优化配方是“一硫二硝三木炭〃,其中的“硝〃是硝酸钾C.过滤操作要领是“一贴二低三靠〃,其中“贴〃是指滤纸紧贴漏斗的内壁D."固体需匙或纸槽,一送二竖三弹弹;块固还是蹑子好,一横二放三慢竖“.前一个固体一般指粉末状固体2.在溶液

2、中能共存,加OH-有沉淀析出,加H+能放出气体的是()A.Na+、Cu2+>Cl>SO42-B.Ba"、K*、OHNO3'C.屮、Al*、NH4+、CO32-D.Na+>Ca2+>CWHCO3_3.探究浓硫酸和铜的反应,下列装置或操作正确的是(A.用装置进行铜和浓硫酸的反应用装置收集二氧化硫并吸收尾气用装置稀释反应后的混合液D.用装置测定余酸的浓度1.2-氨基・5■硝基苯甲噬俗称红色基B,其结构简式如右所示.若化学式与红色基B相同,且氨基与硝基直接连在苯坏上并呈对位时的同分异构体数目(不包括红色基B)可能为()no2A.6种B.7种C-9种

3、D.10种2.某消毒液的主要成分为NaC10,还含有一定量的NaOH.下列用來解释事实的方程式中,不合理的是(已知:饱和NaCIO溶液的pH约为11)()A.该消毒液可用NaOH溶液吸收Cl?制备:C12+2OH=C1O+C1s+H2OB.该消毒液的pH约为12:CIO_4-H2O#HClO+OH'C.该消毒液与洁厕灵(主要成分为HC1)混用,产生有毒Cl?:2H++C1-+C1O-—C12zr+H2OD.该消毒液加白醋生成HCIO,可增强漂白作用:CH3COOH+C1O'—HC1O+CH3COO-3.化学实验室屮常将溶液或试剂进行酸化,下列

4、酸化处理正确的是(A.检验氯乙烷屮的氯元素,加碱溶液加热后,用稀硫酸酸化后,再检验A.为提高KMnO4溶液的氧化能力,用盐酸将KMnO4溶液酸化B.抑制Fe?+的水解,用稀硝酸酸化C.鉴别溶液中是否有SO42-溶液可用盐酸酸化1.下列说法正确的是()A.二元弱酸酸式盐NaHA溶液中:c(H+)+c(Na+)=c(OH)+c(HA)+c(A合成甲醇的主要反应是CO(g)+2H2(g)#CH3OH(g).压强为P]时,向体积为2L的密闭容器屮充人bmolCO和2bmolH2,平衡时CO的转化率与温度、压强的关系如图1所示.请回答:①该反应属于(填

5、"吸〃或“放〃)热反应;PiP2(填">〃、"V"或“=〃)・200°C时,该反应的平衡常数K二(用含b的代数式表示).)B.一定量的(NH4)2SO4与NH3H2O混合的酸性溶液中:c(NH4+)>2c(SO/-)C.物质的量浓度均为0.01mol/L的CH3COOH和CH3COONa的溶液等体积混合后溶液中c(CH3COOH)+c(CH3COO')=0.02mol/LD.物质的量浓度相等的①NH4HSO4溶液、②NH4HCO3溶液、③NH4C1溶液中c(NH?):①丄③〉②三、非选择题(包括必考题和选考题两部分.第22题〜第32题为必考题

6、,每个试题考生都必须作答.第33题〜第40题为选考题,考生根据要求作答)(一)必考题(129分)2.CO?和CH4均为温室气体,若得以综合利用,对于温室气体的整治具有重大意义.(1)已知:CO2(g)+CH4(g)=2CO(g)+2H2(g)AH—+247.3KJ/molCH4(g)=C(s)+2H2(g)AH—+75KJ/mol反应2CO(g)=C(s)+CO2(g)在一定条件下能自发进行的原因是①若200°C时,上述反应经过tmin达到平衡,则该时间段内氢气的平均反应速率(Q的转化率图2(3)以渗透于多孔基质的惰性导电物质材料为电极,用3

7、5%〜50%KOH为电解液,甲烷和空气为原料,构成碱性燃料电池,该电池负极的电极反应式为(4)以甲烷燃料电池做电源,用如图2所示装置,在实验室屮模拟铝制品表面"钝化〃处理的过程中,发现溶液逐渐变浑浊,用离子方程式表示沉淀产生的原因是(5)已知25°C时,A1(OH)3的Ksp=8.OxW33.若使某铝盐溶液中的A卩+降至l.OxlO^mol.LT时,则需调节溶液的pH至(已知lg5=0.7)・1.草酸是一种重要的化工原料,广泛用于药物生产、高分子合成等工业.某学习小组的同学拟以廿蔗渣为原料用水解-氧化-水解循环进行制取草酸.查阅资料得知:①易

8、溶于乙醇和水,微溶于乙醯(易挥发),难溶于苯和四氯化碳.②草酸具有很强的还原性请跟据以上信息回答下列问题:(1)氧化■水解过程是在上图1的装置屮进行的,指出装置A的

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