理化实验室设计装修方案SICOLAB

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时间:2019-10-03

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1、理化实验室是生产企业和研究单位用于检测材料和产品理化指标不可或缺的部门,是生产检测、科学研究的前沿阵地。理化实验室具有化学分析、力学性能和金相检验等综合检测功能。SICOLAB现以某单位理化实验室设计和筹建过程为例,综合钢铁及装备制造行业理化检测实际情况,对理化实验室的设计与筹建进行探讨。1理化实验室设计的基本要求1.1位置要求理化实验室应布置在环境安静、振动及电磁辐射影响小的位置,以减小检测数据的误差,提高检测结果的准确性;布置在远离粉尘且全年风向最小频率的下风向地段。因此,理化实验室一般为独立的建筑物,与办公楼合建时,要

2、设置独立的出入口;当与计量室合建时,理化与计量应分区、分片布置。理化实验室中,力学性能检测设备较大且重,搬运不便,有些试验机需独立的地基;而化学设备多属精密仪器,对环境要求苛刻,化学实验室排放的有害气体需经楼顶及时排走。建议选定一楼为力学性能实验室,顶楼或较高楼层为化学分析和金相检验实验室。1.2布局及空间要求为保证实验室的整体性、结构性和稳定性,实验室设计的开间模数一般分为3.0,3.3,3.6m3种,具体开间模数的选择需与建筑模数相结合。实验室平面布局形式有浅进深和大进深两种,进深的选择主要考虑房间内的采光通风、实验室家

3、具的尺寸及布置等因素。传统经验认为浅进深平面使用面积率高,是合理的选择。进深一般在6~9m之间[2],检测中心的布局模式选为单走廊+浅进深(6.0m)。实验室层高一般建议在3.6~3.9m之间,如某理化实验室设计层高为4.3m,安装空调、消防等管道设施后,房间内部净高为3.3m。力学性能由于设备高大,在设计时应将内部净高定为3.5m,保证设备的运输和安装空间。2理化实验室的总体设计规划2.1基本规划实验室建设是一项复杂的综合系统工程,涉及土建、配电、给排水、通风、照明、安全措施、“三废”处理以及室内实验设施配套安装等。按照相

4、关规范及标准,全面考虑,整体规划,最终确定方案。2.2以设备安装要求为出发点,进行深入规划仪器设备是建设高水平实验室的关键因素之一。在明确实验室功能的基础上,即可进行配套仪器设备的采购。为了确保购置的设备先进、精密和质量稳定可靠,首先根据实际需求提出设备技术要求,由设备采购部门负责招标,采用公开招标专家评标的办法进行购置。在签订仪器设备技术协议后,及时向供货商索取设备的安装要求,然后将设备的安装条件如配电、排风、上下水及使用气体情况充分考虑到基础建设规划中,如设备对温湿度的要求,ICP–MS和ICP–OES均需预留不同直径的

5、排风口,且风机要独立控制、氧氮氢分析仪要在基建中预留上下水、扫描电镜需要防震防电磁辐射等,为后续安装设备提供方便的同时,也可节省改造费用。在建筑材料选择方面重点考虑地砖、墙砖及给排水排风管道的抗化学腐蚀性能,依国家相关规定进行规划设计、布局实验设施。3理化检测功能区域的基本要求3.1办公区应在每个楼层集中设置,便于学习和探讨工作中出现的问题,民用配电即可。3.2报告编制区用于检测结果的输入、检测报告的编制及审核,满足办公用电需求即可。3.3收样及样品储存区该区域必须干燥、通风、防尘。样品分为待检、在检、已检3类,各存储柜应标

6、明收样及检测日期。3.4样品处理区和化学湿法分析区样品处理区域在实验过程中会产生大量的有毒有害、有刺激气味的气体,故必须有独立排风设施通风柜;一般为单独的房间,地面应有地漏;墙面、地板、实验台和试剂柜等要绝缘、耐热、耐酸碱和耐有机溶剂腐蚀;放置中央实验台的实验室应预设供实验台用的上下水装置和足够的电源插座。鉴于化学分析需要用到大量的强腐蚀性药品,建议通风柜内部特殊定制耐500℃高温且耐酸碱的陶瓷内衬及耐氢氟酸腐蚀的PP内衬。3.5仪器分析区该区域主要设备一般有等离子体质谱、发射光谱、碳硫氧氮氢分析、X光谱、原子吸收、气相液相

7、色谱、极谱、原子荧光、电镜、万能试验机等设备及配套稳压电源和水循环系统。各类仪器设备具有精度高、运行条件苛刻、耗材昂贵、部件损坏维修难度大、维修费用高等特点,决定了该区域应为单独房间且空间不宜过小,尽量铺设防静电地板,互有干扰的仪器不能放在同一房间。该区域要求一定的洁净度(可设置缓冲间)、温湿度(温度18~25℃,相对湿度60%~80%)、防震防辐射、独立用电、独立接地(电阻不大于1Ω)等。设备放置距离墙体60~80cm,以便维修检查。根据设备的不同安装要求,应考虑预留设备的排风管道。对于光谱类仪器,还应避免直射阳光。3.6

8、称量区称量区应为独立的房间,用于放置精密分析天平,应距离楼道墙面较远,并有双层玻璃或窗帘,防尘防震,在土建方面也应考虑防潮及保温措施,宜设恒温恒湿系统。建议为化学分析实验室配置台面厚度为40cm的大理石天平台,以达到三级减震的效果,天平台须离开墙壁至少1cm放置。3.7高温及微波消解区单独

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