《半导体硅材料基础》实验讲义

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1、昌理工摩院NanchangInstituteofTechnology实验讲义新能源光电工程中心《半导体硅材料基础》实验简介目的与任务:《半导体硅材料基础》是光信息科学与技术专业的一门重要的技术基础课。根据《半导体硅材料基础》教学大纲制定本实验教学大纲。本实验教学的FI的是引导学生利用红外探伤测试仪,通过实验观察,增加感性认识,验证所学理论,理论联系实际,进一步深入掌握基础理论,灵活运用基础理论。培养学生善于动手自己设计实验研究各种材料现彖的能力,培养学生善于验证理论、探求新知的能力,善于用理论分析问题和解决问题的能力。在实验教学过程屮

2、努力使学生养成良好的工作习惯和严谨的学风。实验项目:序号实验名称实验学时1红外探伤测试仪的基本操作22硅晶裂缝观察实验23硅晶杂质观察实验24硅晶黑点观察实验25硅晶阴影观察实验26硅晶微晶观察实验2总学时12实验总体要求:尽量少的观看演示,尽可能多的动手操作,每个学牛应有尽可能多的独立完成部分。注意使学生全面训练:理论紧密联系实际,正确设计实验,正确运用所学的实验技术,正确观察现象和测量结果,正确分析实验结果,养成科学精神。注意培养学牛的创新意识,启发学牛就特殊问题提出新见解,新方法。实验安排方式:分组进行。根据客观条件,每组尽可能

3、小,保证每个学牛都有独立完成部分。综合成绩评定的方法:1、优秀(90J00分):能很好地完成实验任务,达到实验大纲中规定的全部要求。2、良好(80-89分):能较好地完成实验任务,达到实验大纲中规定的全部要求。3、中等(70-79分):达到实验大纲中规定的主要要求。4、及格(60・69分):实验态度较端正,完成了实验的主耍任务,达到实验大纲中规定的基本要求。5、不及格(59分及59分以下):未达到实验大纲规定的基本要求。说明:实验教学应密切配合课堂理论教学。因此,随着教育改革的深入进行,实验课的内容相对稳定,但内容与形式、深度与比重,

4、都应及时改进和调整,以保证实验教学的有效性和先进性,适应新时期的要求。参考资料实验一红外探伤测试仪的基本操作实验学时:2学时实验性质:验证实验类型:专业一、实验目的1、掌握红外探伤测试仪的基本操作二、实验材料及设备红外探伤仪、多晶硅硅块三、实验内容与步骤1、硅块测试准备:用无水乙醇将测试硅块的四个侧面擦拭干净,将擦拭干净的硅块放在红外探伤测试台上,放置方向为底部朝下,头部朝上。2、开启PC机并进入Window7系统,双击图示的图标进入NIRVision软件3、执行自动检测4、确认内部缺陷:通过内部缺陷影像图,确定硅块内部存在缺陷后,观

5、察内部缺陷在图像监控器上的位置,是用记号笔在硅块的表而做好标识;用记号笔在黑色阴影部分的上下边缘处画标识线,上下画线处要求阴影部分2-3mm(备注:内部缺陷在距硅块头部或尾部20mm内,不需要画线)。5、缺陷图像保存:将检验硅块内部存在的缺陷图像保存在测试仪内。6、标明缺陷范圉:完成该硅块四个侧面检测后,将硅块搬到工作台上依照标识线划线标识,缺陷长度20mm时,使用直尺把以上所有短线标识画长,并用直尺(精确度=>lmm)量出缺陷的长度,并标明原因、长度于硅块表而。四、注意事项图像保存注意事项,以下标识硅块必须保存:1、大硅块中的B2、

6、C7、C12、C17、B22必须保存四个侧而图片。2、小硅块屮的B2、C6、CIO、B14必须保存四个侧面图片。材料不合格的处理办法20mmv硅块头尾的裂纹长度W125mm,去除缺陷部分,流入下工序;;硅块头尾部的裂纹长度>125mm则回炉。实验二硅晶裂缝观察实验实验学时:2学时实验性质:验证实验类型:专业一、实验目的1、利用红外探伤测试仪观察裂缝结构2、掌握硅晶裂缝的判断标准二、实验材料及设备红外探伤仪、多晶硅硅块三、实验内容与步骤1、开方过程中线痕(台阶)的判断标准:在开方过程中,因金刚石或金刚砂出现切割力不足,而造成小方锭表面出

7、现严重(较严重)凹凸状波纹。凹凸状常伴随着硅块尺寸偏大或偏小,为后续加工带来不便。线痕及严重线痕由相关技术专工做判定,或依照砂线切割尺寸整锭小于155.8mm的判定为报废,大于等于155.8mm且有效长度大于45mm的,需截断。金刚线切割尺寸整锭小于155.9mm判定报废,大于等丁155.9mm且有效长度大于45mm的,需截断。2、裂纹的判断标准:①硅锭在运行过程中,退火中应力不完全,造成的隐性裂纹,该类型裂纹从大硅锭外观上,无法判别,开方后,小方锭检测,会发现有裂纹。②硅锭由于坦埸涂层质量问题导致在运行过程中,硅锭与堆埸发生反应,造

8、成粘连,粘连的坨堀对硅锭拉力,导致硅锭裂纹。整锭裂纹,则判定报废,若有效长度大于45mm,则截断需要切除缺陷部分。③由于硅锭在开方过程中因断线造成的,没开透造成硅锭撕裂,经红外探伤检测有隐性裂纹应判断为开方过程不良。④由

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