Silvaco操作指南设计

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1、实用标准文档第二篇半导体工艺及器件仿真软件Silvaco操作指南主要介绍了半导体器件及工艺仿真软件Silvaco的基本使用。书中通过例程引导学习工艺仿真模块Athena和器件仿真模块Atlas，通过这两部分的学习可以使学习人员深入了解半导体物理的基本知识，半导体工艺的流程，以及晶体管原理的基本原理，设计过程，器件的特性。对于学习集成电路的制备及后道工序有一定的帮助。第一章SILVACO软件介绍251.1程序启动251.2选择一个应用程序例子261.3工艺模拟281.3.1运行一次模拟281.3.2渐进学习模

2、拟281.3.3绘制结构281.3.4使用Tonyplot进行绘图291.3.5修正绘图的外观291.3.6缩放及在图上进行平移301.3.7打印图形311.4使用History功能311.5明确存贮状态321.6创建用于比较的两个结构文件321.6.1存贮文件创建321.6.2　文件交叠331.7运行MOS工艺程序的第二部分351.7.1`StopAt'功能351.7.2使用Tonyplot用于2-D结构361.7.3使用Tonyplot来制备一轮廓图371.7.4产生交互式图例381.8工艺参数的抽取3

3、91.8.1源漏结深401.8.2器件阈值电压401.8.3电导及偏压曲线401.8.4一些薄层电阻421.8.5沟道表面掺杂浓度42文案大全实用标准文档1.9器件模拟441.9.1器件模拟界面工艺441.9.2　建立器件模拟441.9.3执行器件模拟451.9.4抽取器件参数45第二章电阻仿真及阻值抽取46第三章扩散二极管仿真562.1硼扩散562.2进行mesh的实验612.3绘制杂质掺杂轮廓曲线622.4查看抽取结果63第四章NMOS电学特性仿真653.1NMOS例子加载653.2Tonyplot操作

4、663.3查看电学仿真结果70第五章工艺流程的横断面观察734.1初始化衬底734.2氧化层屏蔽734.3NWELL注入744.4PWELL注入744.5场氧化层生长754.6阱推进76文案大全实用标准文档第一章Silvaco软件介绍本章将介绍下面两个VWF（虚拟wafer制备）交互工具的基本使用：·Deckbuild：VWF运行时控制应用程序。这是唯一一个从系统命令行由用户启动的程序。·Tonyplot：VWF可视化应用程序。VWF交互工具还包括版图到工艺的界面程序MaskViews,器件原型及编辑程序D

5、evEdit,局部优化程序Optimizer以及统计分析的SPAYN工具。但本章不介绍这部分内容。VWF核心工具是以下两个仿真器：·Athena,Silvaco的高级一维和二维工艺仿真器。·Atlas,Silvaco的通用及标准组件的一，二，三级器件仿真器。VWF核心工具还包括器件特性的UTMOS应用及SmartSpice电路仿真。本章将学习：1.使用Athena进行一个简单LDDMOS器件仿真和相关参数的抽取(如栅氧化层厚)。2.使用Atlas进行LDDMOS器件仿真，产生一个Id/Vgs曲线并从这条曲线

6、中进行器件参数Vt,Beta和Theta的抽取。1.1程序启动要启动Deckbuild程序，在系统命令行中输入deckbuild&几秒钟后Deckbuild窗口显示出来。在Deckbuild启动后，你会看到如下的窗口(版本及目录名可能不相同):Deckbuild程序窗口组成如下：1.上面的文本窗口区用来保持仿真器的输入。2.下面的tty区显示仿真器的输出。Athena仿真是缺省启动的。你会看到，在这个区中有一短的Athena文件头输出,指出你可用的许可产品。之后跟随Athena提示符。ATHENA>文案大全

7、实用标准文档1.在窗口上部是软件控制菜单的集合。2.在文本区及tty区之前是仿真器控制按钮的集合。下一步是创建一个设计，可以从草图创建，或者选择一个应用例子进行修改。输入的程序显示在上面的文本区中，而且执行时使用仿真控制按钮就会它传到下面的tty区。1.2选择一个应用程序例子Deckbuild包括大量的仿真例子可以用于仿真。这个练习使用其中之一。当Deckbuild启动后，examplesmenu会被激活。在Deckbuild的`MainControl'菜单有一个选择项称为`Examples...'如下显示

8、:可移动鼠标到`MainControl'上，按下鼠标右键。在按下鼠标右键时，maincontrol菜单显示出来。当鼠标右键按下后，移动光标选择`Examples...'菜单选项。然后，放开鼠标。几秒钟内例子目录的窗口就会显示出来，如下图。这个练习使用例子中的MOS1目录。如果你正在运行Deckbuild，你可以双击选择MOS1目录或从`Section'菜单中选择它。文案大全实用标准文档例子是MOS2，称为`mos