电镀电源的发展与新技术

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1、电镀电源的发展与新技术摘要:介绍了电镀的工作原理及电镀电源的发展历程。脉冲电镀是一项新的电镀技术，脉冲电镀电源是发展的方向，针对脉冲电源这项新技术重点进行了介绍。关键词：电镀屯源脉冲电流密度扩散控制1引言电镀是采川电化学方法使金属离子还原为金属,并在金属或非金属制品表面形成符合要求的平滑、致密的金属覆盖层。电镀后的镀层性能在很大程度上取代了原來基体的性质，起装饰和防护作用。随着装饰业的发展及膜保护需求量的增加，人们对电镀质量的要求越來越高。但目前电镀技术仍存在某些缺陷，诸如加工时间长、镀层犀度均匀性差、镀层容易出现缺陷以及存在较人内应力等。这些缺陷限制了电镀技术的

2、应用和发展，不能适应当前的生产，尤其是精密制造的需要。电镀生产采用何种电源对镀层质量的影响很大。脉冲电镀是一项新的电镀技术，本文就电镀电源中脉冲电源技术作简单介绍。2电镀电源的发展2.1电镀的基本原理电镀电源是用來在电镀中产生电流的装置，电流通过镀槽是电镀的必要条件，镀件上的金属镀层在电流流过电镀槽时.引起电化学反应而形成。电镀过程如图1所示。从电镀的基本原理可以看出.改进镀层质量可以从两个方而人乎：①调整电镀溶液；②改进电镀电源。现实屮.广泛采用了改进电镀电源的方法。关于这点，可以从电镀电源的发展演变过程中看出。2.2电镀电源的发展阶段电镀电源经历了四个发展阶段

3、：(1)直流发电机阶段这种电源耗能大、效率低、噪声大.已经被淘汰。(2)硅整流阶段是直流发电机的换代产品，技术十分成熟，但效率低，体积大，控制不方便。日前，仍有许多企业使用这种电镀电源。(3)可控硅整流阶段是日前替代硅整流电源的主流电源，具冇效率高、体积小、调控方便等特点。随着核心器件——可控硅技术的成熟与发展.该电源技术日趋成熟，已获得广泛应川。⑷晶体管开关电源即脉冲电源阶段脉冲电镀电源是当今最为先进的电镀电源，它的出现是电镀电源的一次革命。这种电源具有体积小、效率高、性能优越、纹波系数稳定.而且不易受输出电流影响等特点。脉冲电镀电源是发展的方向，现已开始在企业

4、中使用罔。摘要:介绍了电镀的工作原理及电镀电源的发展历程。脉冲电镀是一项新的电镀技术，脉冲电镀电源是发展的方向，针对脉冲电源这项新技术重点进行了介绍。关键词：电镀电源脉冲电流密度扩散控制1引言电镀是采用电化学方法使金属离子还原为金属，并在金属或菲金属制品衣面形成符介要求的平滑、致密的金属覆盖层。电镀后的镀层性能在很人程度上取代了原來基体的性质，起装饰和防护作用。随着装饰业的发展及膜保护需求鼠的增加，人们对电镀质量的要求越來越高。但目询电镀技术仍〃在某些缺陷，诸如加工时间长、镀层厚度均匀性差、镀层容易出现缺陷以及存在较大内应力等。这些缺陷限制了电镀技术的应用和发展,

5、不能适应当前的生产，尤其是耕密制造的需要。电镀生产采用何种电源对镀层质量的影响很大。脉冲电镀是一项新的电镀技术，本文就电镀电源中脉冲电源技术作简单介绍。2电镀电源的发展2.1电镀的基本原理电镀电源是用来在电镀中产生电流的装置，电流通过镀槽是电镀的必要条件，镀件上的金属镀层在电流流过电镀槽时.引起电化学反应而形成。电镀过程如图1所示。式中：Ip—电流峰值；平均电流密度；匚一脉冲电流导通时间;幺一脉冲电流断电时间;2f—脉冲频率；T十1“—脉冲周期；从电镀的基本原理可以看出.改进镀层质量可以从两个方而人乎：①调整电镀溶液；②改进电镀电源。现实屮.广泛采用了改进电镀电源

6、的方法。关于这点，可以从电镀电源的发展演变过程中看出。2.2电镀电源的发展阶段电镀电源经历了四个发展阶段：(1)直流发电机阶段这种电源耗能大、效率低、噪声大.已经被淘汰。(2)硅整流阶段是直流发电机的换代产品，技术十分成熟，但效率低，体积大，控制不方便。目前，仍有许多企业使用这种电镀电源。⑶可控硅整流阶段是目前替代硅整流电源的主流电源，具有效率高、体积小、调控方便等特点。随看核心器件——可控硅技术的成熟与发展.该电源技术日趋成熟，已获得广泛应用。⑷晶体管开关电源即脉冲电源阶段脉冲电镀电源是当今最为先进的电镀电源，它的出现是电镀电源的--次革命。这种电源具有体枳小、

7、效率高、性能优越、纹波系数稳定.而且不易受输出电流影响等特点。脉冲电镀电源是发展的方向，现已开始在企业中使用罔。3脉冲电镀及脉冲电源的研究与分析3.1脉冲屯镀脉冲电镀是一项新的电镀技术。它的特点是山脉冲电流对电极过程动力学的特效影响所决定的，其中最主要的是对传质过程中的影响。在直流电镀时，镀液中被镀出的金属离了在阴极表而附近溶液中逐渐被消耗.造成了该处被镀金属离了与溶液中该离子的浓度出现差别。这种差别随着使用的电流密度増高而加大。当阴极附近液层中的该离子的浓度降到0时，就达到了所谓的极限电流密度，传质过程完全受扩散控制。在脉冲电镀时，由于冇关断时间的存在，被消耗的

8、金属离子利