真空镀膜设备操作培训教材

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1、一、名词解释二、开关机流程三、镀膜主控界面说明真空镀膜设备操作培训一、名词解释真空溅射：在真空中，惰性气体离子从靶表面上轰击出原子（分子）或原子团的过程。物理气相沉积：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。磁控溅射：借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域，来增强电离效率，增加离子密度和能量，因而可在低电压，大电流下取得很高溅射速率。镀膜室：真空镀膜设备中实施实际镀膜过程的部件。溅射装置：包括靶和溅射所必要的辅助装置(例如供电装置,气体导入装置等)在内的真空溅射设备的部件。靶材：母材，用来制取膜层的原材料。挡板：用来在时间上和

2、(或)空间上限制镀膜并借此能达到一定膜厚分布的装置；挡板可以是固定的也可以是活动的。基片架：可直接夹持基片的装置,别称夹具或治具,基片安装方式分平放、立放，立式放置一般通过弹片、夹扣固定基片。基片：膜层承受体。试验基片（工艺片）：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。沉积速率：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间和基片表面积。一、名词解释加热装置：在真空镀膜设备中,通过加热能使一个基片或几个基片达到理想温度的装置。冷却装置：在真空镀膜设备中,通过冷却能使一个基片或几个基片达到理想温度的装置。连续镀膜设备：被镀膜物件（单件或带材）连续地从大气压经过压力梯段进

3、入到一个或数个镀膜室，再经过相应的压力梯段，继续离开设备的连续式镀膜设备。真空泵：抽除气体，能使腔体达到设计的真空度。阴极：靶材安装位置，兼工艺布气管入口。阳极：非阴极区域。工艺气体：镀膜所需冲入气体，常用的有氩气、氮气、氧气。真空度：低于一个标准大气压。二、开关机流程确认设备检修完成、检查箱门擦拭干净，门关闭OK(门螺丝用工具使用5成力扭紧）开冷却水、检查主控面板有无异常报警生产参数确定：开门压差15pa;分子泵启动10pa；罗茨泵启动500pa泵组电控柜分子泵开关打开，操作面板分子泵设定使能设定正常自检（“取消自检”显示绿色）真空模式转抽气模式，需泵组模式切换使能设备自检后自动抽气，如有问

4、题处理不了，通知设备正常罗茨泵抽气时间＜30分钟，真空度到达10pa，分子泵启动；启动完成，提示转生产模式泵组切换使能，抽气转换成生产模式；门螺丝用工具使用5成力再次扭紧。检漏升温降温工艺调试（本底真空＜5E-3；布气，2.5kw轰靶0.5H）~试投~生产开机流程百级间禁止上片镀膜腔体夹具全部走完后开始停机，传动设为手动模式生产模式转保压模式；关靶、关气、加热器设为0℃分子泵降速停机，约20min;期间可以松开箱体门螺丝，门把手位置留1颗螺丝扣住待所有泵组停止，确认门螺丝松开，保压模式转放气模式关闭冷却水系统；关闭换靶位置阴极冷却水阀关闭分子泵空气开关；开始保养作业关机流程三、镀膜主控界面说明

5、(总貌画面）三、镀膜主控界面说明(生产参数表）三、镀膜主控界面说明(加热参数表）三、镀膜主控界面说明(工艺参数表）三、镀膜主控界面说明(分子泵分布）三、镀膜主控界面说明(报警记录）ThankYou报告完毕谢谢！放映结束感谢各位观看！让我们共同进步