ProcessMaster_Chinese_RevA

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2、-催▔ࢅ乥⥛੠ܜ䖯Ⓒ⊶ᡔᴃৃᦤկ催㊒ᑺ⌟䞣˄⌟䞣ؐⱘÑ0.2%˅DŽ䗮⫼ൟব䗕఼Ƶ䗮⫼ൟব䗕఼-䰡Ԣ໛ӊᑧᄬ៤ᴀ੠㓈ᡸ៤ᴀ⌕䞣䅵Ӵᛳ఼䞛⫼њ᳔ܜ䖯ⱘᄬټᡔᴃƵ⌕䞣䅵Ӵᛳ఼䞛⫼њ᳔ܜ䖯ⱘᄬټᡔᴃ-ৃ䙓ܡᅝ㺙䫭䇃ᑊᅲ⦄ᖿ䗳ǃৃ䴴ⱘ䇗䆩ܼ䴶ⱘ䰆⟚䅸䆕Ƶܼ䴶ⱘ䰆⟚䅸䆕-ヺড়ATEXǃIECExǃNEPSI-ヺড়FMǃcFM䖛⿟ᎹϮ佪䗝䖛⿟ᎹϮ佪䗝⬉⬉⺕⌕䞣䅵⺕⌕䞣䅵ProcessMasterDS/FEP300-CNDS/FEP300-EN1ProcessMaster-ᡔᴃὖ䗄一体型FEP311(无防爆功能)FEP315(防爆区Z

3、one2/Div.2)FEP315(防爆区Zone1/Div.1)ϔԧൟ˄COPA˅˖FEP311˄᮴䰆⟚ࡳ㛑˅FEP315˄䰆⟚ऎZone1/Div.1˅ATEX/NEPSIATEX/NEPSIDN3-300:II2GExdeiamaopisIICT6…T2II3GExnAnCIICT4…T3>DN300:II2GExdeiaopisIICT6…T2II2DExtDA21IP6XT70OC…TII2DExtDiaDA21IP6XT70OC…TmediummediumIECIECDN3-300:Exdeiamaopis

4、IICT6…T2GbExnAnCIICT4…T3>DN300:ExdeiaopisIICT6…T2GbExtDA21IP6XT70OC…TExtDiaDA21IP6XT70OC…TmediummediumFMFMNI:CLI,II/DIV2/GPABCDFG/T4…T3XP:CLI/DIV1/GPABCDCLIII/DIV1,2/T4…T3NI:CLIII/DIV1CLIZN2AExnAnCIICT4…T3DIP:CLII/DIV1/GPEFGDIP:CLII,III/DIV1/GPEFG/DN3-300:T70OC…

5、TCLI,ZN1AExdeiamaIICT6…T2medium>DN300:CLI,ZN1AExdeiaIICT6…T2DN3-2000:Zone21ExtDiaDA21IP6XAExtD21T70OC…TT70OC…TmediummediumcFMNI:CLI,II/DIV2/GPABCDFG/T4…T3CLIII/DIV1,2/T4…T3cFMXP:CLI/DIV1/GPABCDNI:CLIII/DIV1CLIZN2ExnAnCIICT4…T3DN3-300:ExdeiamaIICT6…T2DIP:CLII,III

6、/DIV1/GPEFG/>DN300:ExdeiaIICT6…T2T70OC…TDIP:CLII/DIV1/GPEFGmediumDIPA21TT70OC…TAmediumൟোFEP311ǃFEP315⌟䞣ؐ䇃Ꮒᷛޚ˖⌟䞣ؐⱘ0.4%䗝乍˖⌟䞣ؐⱘ0.2%ᷛ⿄ሎᇌ㣗ೈDN3...2000(1/10“...80")䖛⿟䖲᥹⊩݄ヺড়DIN2501/EN1092-1ǃASMEB16.5/B16.47ǃJIS10K㽕∖ᷛ⿄य़࡯PN10…100,ASMECL150,300,600ݙ㹀⹀‵㛊˄DN15...2000˅ˈ䕃‵㛊˄DN

7、50...2000˅ˈPTFE˄DN10...600˅ˈPFA˄DN3...200˅ˈETFE˄DN25...1000)ᇐ⬉⥛>5S/cm˄20S/cmˈᇍѢএ⾏ᄤ∈˅⬉ᵕϡ䫜䩶1.4571[316Ti]ǃ1.4539[904L]ǃHastelloyBǃHastelloyCǃ䪖䫅ড়䞥ǃ䪐ǃ䪑䖛⿟䖲᥹ᴤ᭭⺇䩶ˈϡ䫜䩶䰆ᡸㄝ㑻IP65ǃIP67ǃIP68˄NEMA4X˅ҟ䋼⏽ᑺ-25...180°C(-13...356°F)䆌ৃ䰆⟚䆌ৃNEPSI/ATEX/IECExZone1,2,21,22FM/cFMCl1Div1,C

8、l1Div2य़࡯䆒໛ᣛҸড়㾘䆘Ԅձ᥂III㉏ˈ⌕ԧߚ㒘197/23/ECCRN˄ࡴᣓ໻⊼ݠো˅ḍ᥂㽕∖ᦤկব䗕఼⬉⑤AC100...230V(-15/+10%),AC24V(-30/+10%),DC24V(-30/+30%)⬉⌕䕧ߎ4...20mAˈ᳝⑤៪᮴⑤㛝ކ䕧ߎৃՓ⫼䕃ӊ೼ᴀഄ䜡㕂Ў᳝⑤៪᮴⑤㾺⚍䕧ߎܝ㗺ড়఼ˈৃ㓪⿟ࡳ㛑㾺⚍

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