太原理工大学学报投稿模板

太原理工大学学报投稿模板

ID:40928027

大小:327.00 KB

页数:7页

时间:2019-08-11

太原理工大学学报投稿模板_第1页
太原理工大学学报投稿模板_第2页
太原理工大学学报投稿模板_第3页
太原理工大学学报投稿模板_第4页
太原理工大学学报投稿模板_第5页
资源描述:

《太原理工大学学报投稿模板》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库

1、题名应能恰当、简明地反映论文内容本模板由不同论文拼凑而成,请主要关注格式和规范要求,忽略内容上的前后不对应请单栏排版TiO2纳米颗粒的制备、光催化性能及羟基自由基研究标题题目应恰当简明地反映论文内容,精确点明本文的独创性内容第一作者1,2,第二作者2(1.XXXX大学XX学院,山西太谷030801;2XXXX大学XXXX学院,山西太原030006)摘要:摘要内容应包括目的、方法、结果和结论;缩写词第一次出现时请用全称;不要出现公式、图表和参考文献序号。针对金属层间介质以及MEMS等对氧化硅薄膜的需求,采用等离子增强型化学气相淀积(PECVD)技术,以SiH4和N2O为反应气体,低温制

2、备了SiO2薄膜。利用椭偏仪、应力测试系统对SiO2薄膜的厚度、折射率、均匀性以及应力等性能指标进行了测试,探讨了射频功率、反应腔室压力、气体流量比等关键工艺参数对SiO2薄膜性能的影响。结果表明:SiO2薄膜的折射率主要由N2O/SiH4的流量比决定,而薄膜均匀性主要受电极间距以及反应腔室压力的影响。通过优化工艺参数,低温260℃下制备了折射率为1.45~1.52(中文环境下,用波浪线表示数字范围),均匀性为±0.64%,应力在−350~−16MPa(量、单位和符号严格执行国家标准,不可使用非法定计量单位;数字与单位之间空一格)可控的SiO2薄膜。采用该方法制备的SiO2薄膜均匀性

3、好,结构致密,沉积速率快,沉积温度低,且应力可控,可广泛应用于集成电路以及MEMS器件中。关键词:二氧化钛纳米颗粒;聚丙烯酰胺凝胶法;羟基自由基;光催化活性关键词应能够反映论文的主题内容,应精确、包含热点信息;注意避免与正文标题重复太多,以增大论文通过不同角度被检索到的可能性;以3~8个为宜,用分号分隔中图分类号:文献标志码:A文章编号:1672-6030(2013)00-0000-00(可列出一个或一个以上中图分类号,按《中国图书馆分类法》确定)Preparation,PhotocatalyticPropertiesandPhotogeneratedHydroxylRadicals

4、ofTiO2Nanoparticles给出英文标题,内容应与中文对应,语序可根据中英文逻辑习惯方面的不同进行相应的调整(实词首字母大写)WEIQin1,2,WUDan2,ZHANGXuzhen2,LIChao2(姓全部大写)Abstract:Tomeetthedemandofinter-metaldielectric(IMD)缩写词第一次出现时请用全称题名应能恰当、简明地反映论文内容(并将缩写写在全称后面的括号中)layersandmicroelectromechanicalsystems(MEMS),silicondioxidefilmsdepositedbyplasmaenhan

5、cedchemicalvapordeposition(PECVD)atlowtemperaturewithsilane(SiH4)andnitrousoxide(N2O)asprecursorgaseswasreported.Theellipsometerandstressmeasurementsystemwereusedtotestthethickness,refractiveindex,uniformityandthestressofSiO2film,andtheeffectsofratiofrequency(RF)power,chamberpressureandN2O/SiH4

6、flowratioonthepropertiesofSiO2filmwerestudied.TheresultsshowedthattherefractiveindexofSiO2filmwasmainlydeterminedbyN2O/SiH4flowratioandtheuniformityofthefilmwasinfluencedbythedistancebetweenelectrodesandthechamberpressure.Moreover,byoptimizingtheprocessparameters,theSiO2filmsweredepositedat260℃

7、,withtherefractiveindexmeasuredas1.45—1.52(英文环境下,数字区间用长划线表示),theuniformityof±0.64%,andthestresswasefficientlycontrolledbetween−350MPato−16MPa.ThedepositedSiO2filmshavegooduniformity,compactstructure,highdepositionrate,lowdepositio

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。