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时间:2019-08-08
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1、準分子雷射加工系統張仁宗教授國立成功大學機械系90.8.20準分子雷射微細加工課程大綱一﹑一般系統特性二﹑光源與傳送系三﹑光罩與掃瞄系四﹑加工平台系五﹑成品與誤差準分子雷射微細加工課程一﹑一般系統特性ß光蝕刻技術ß準分子雷射加工ßExitechPS-2000系統準分子雷射微細加工課程ß光蝕刻技術微蝕刻技術¢物件材料﹑尺寸﹑外形要求¢光源﹑離子束等選擇¢乾式﹑濕式選擇¢加工時間﹑模式﹑成本等考量準分子雷射微細加工課程光加工技術分類光加工Photofabrication光電鑄加工光罩光蝕刻加工Photoelec
2、troformingPhotomaskPhotoetching乾式法(Dry)濕式法(Wet)乾式法(Dry)濕式法(Wet)離子鍍蒸鍍電器電鍍化學電鍍電解蝕刻化學蝕刻濺鍍IonEvaporationElecroChemicalElecrolyticChemicalSputteringplatingplatingplatingplatingetchingetching準分子雷射微細加工課程雷射參數和其相關的加工參數雷射參數加工參數功率(平均)(W)溫度(穩定時)加工通量波長(μm)光吸收、反射和透射解析度光
3、化學效應光譜線寬(nm)時間同調性色像差光束大小(mm)焦斑大小焦深光束轉換特性強度模結構強度分佈空間均勻性斑紋空間同調性調制轉移函數峰值功率(W)峰值溫度破壞非線性效應脈衝寬度(sec)交互作用時間瞬時加工穩定度(%)加工範圍效率價格可靠度價格準分子雷射微細加工課程化學鍵與光子能量InfraredVisibleUltraviolet
4、F2ArF
5、KrClKrF
6、XeClLasersXeF
7、Nd:YAGCO2ThermalPhotochemicalC--O
8、N--N
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