昊通）专利基础知识、申请时的交底材料及专利保护

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1、1专利基础知识、申请时的交底材料及专利保护牛翔TEL:15999728258E-mail:15999728258@163.com21、专利的基础知识2、申请专利交底材料的提供3、专利权的保护3中国专利法保护的三种发明创造专利法第二条规定所保护的发明创造为：发明实用新型外观设计4三种专利的保护客体发明专利：主要包括：①、现有技术中从未有过的产品、制造产品的工艺或方法；②、对现有技术的重大改进和突破；实用新型专利：对产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新的技术方案；外观设计专利：对产品的形状、图案或者其结合以及色彩与形状、图案的结合所作出的富有美感并适于工业应用的新设计5三种专利的保护期

2、限发明专利二十年实用新型专利十年外观设计专利十年三种专利的审查制度发明专利早期公开实质审查实用新型专利初步审查外观设计专利初步审查6三种专利的审查时间发明专利：6-8个月通过初步审查（专利局发出发明专利申请公布通知书）26-36个月完成全部审查程序（如能获得授权，专利局发出专利授权通知书，按规定交纳年费、登记费、印花税的三个月后，获得专利证书）实用新型专利：10-14个月通过审查（专利局发出专利授权通知书，按规定交纳年费、登记费、印花税的三个月后，获得专利证书）外观设计专利：7-9个月通过审查（专利局发出专利授权通知书，按规定交纳年费、登记费、印花税的三个月后，获得专利证书）7一、专利申请的

3、审批流程概述发明审查流程8实用新型、外观设计审查流程9如何判定申请何种类型的专利如果申请人提供的是一项全新的设计，或在现有产品的内部结构和功能方面有所改进或各构件间的连接结构的改进；或者是一种化工产品、药品的配方，或上述化工产品或药品的制作方法；饮料或其它工业原料的配方和生产方法的改进或现有产品的生产工艺的改进，可申请发明专利保护；或者是一种商业方法；并得到了一个新的技术效果，可以选择申请发明专利10如果申请人提供的是一项全新的设计，或在现有产品的内部结构和功能方面有所改进或各构件间的连接结构的改进，可选择申请实用新型专利我国实用新型的概况“授权快”、“费用低”实用新型的申请量多年来一直位居

4、三种专利之首11如果产品的改进只是在外形构造方面，可申请外观设计专利如果既有内部结构和功能改进，又有外形构造的改进，可考虑同时申请发明专利或实用新型专利和外观设计专利；12申请发明和实用新型专利需提供包含以下内容的技术交底材料(1)、专利名称：例如一种束发紧圈、一种XX装置、一种XX方法等，而不能是一种XX技术。(2)、技术领域：说明要求保护的技术方案所属的技术领域，包括产品或方法的主要用途。(3)、背景技术：简要说明对发明或实用新型的理解和审查有用的背景资料，其中可引证相关的专利文件、学术论文等，其目的是引出现有技术所存在的缺陷；13(4)、发明内容：先根据第(3)点说明本专利要解决的技术

5、问题；再说明本专利中为解决该技术问题所采取的主要技术方案，即写明为了解决前述技术问题，本专利在现有技术的基础上作了哪些改进(包括增加、删减、替代等)；然后对照现有技术写明本专利的有益效果，即由于采用了本专利的改进方案所带来的有益效果。(5)、提供相应的附图：以配合说明本专利的原理、结构、流程等；附图（CAD格式），可以是平面视图、立体图、爆炸图、局部放大图等的线条图，附图的数量以能体现出所要求保护的结构准。(6)、具体实施方式：结合上述附图，详细描述申请人认为实现该专利的优选实施例，例如为实现本专利技术方案的一种或多种具体电路连接、机械结构、产品配方、制作方法等。14总之，交底材料的内容应尽

6、量完整、详细，以便我方代理人可据此写出一份符合专利法所规定的‘充分公开’要求，并能为申请人提供最大保护范围的专利申请文件。申请外观设计专利可以提供产品样品（拍照）或符合要求的照片或图纸，可以是前、后、左、右、上、下6个方向的视图，如有必要，可增附反映使用状态的视图。15专利权的保护范围发明、实用专利权的保护范围以其权利要求的内容为准，说明书及附图可以用于解释权利要求。外观设计专利权的保护范围以表示在图片或者照片中的该外观设计专利产品为准。发明、实用专利授权后，专利权人有权制止任何人未经专利权人的许可，为生产经营的目的制造、使用、许诺销售、销售或进口专利产品，或使用专利方法，或使用、许诺销售、

7、销售或进口由专利方法直接获得的产品。外观设计专利授权后，专利权人有权制止任何人未经专利权人的许可，为生产经营的目的制造、许诺销售、销售或进口外观设计专利产品。16侵权处理专利权人一旦发现自己拥有专利权的发明创造被他人非法使用构成侵权时，可以依照《专利法》第五十七条的规定，采取以下方式和措施，对遭到侵犯的专利权实行救济：（１）双方协商解决。专利权是民事权利的一种，当事人依法可以处分自己的民事权利。因此，因专利侵