光学薄膜工艺基础知识培训

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1、光学薄膜工艺参数与影响因素2021/8/2嘉兴蓝特光学有限公司1.工艺参数与薄膜性能的关系2.影响光学性能的因素3.影响薄膜机械性能的因素4.影响薄膜环境稳定性的因素5.总结2021/8/2嘉兴蓝特光学有限公司光学薄膜工艺因素所以工艺因素对膜层内部结构产生了影响，使得对薄膜的各种性能产生影响,总结影响如图所示：2021/8/2嘉兴蓝特光学有限公司工艺因素对薄膜性能的影响机理大致为：一.基片材料1.膨胀系数不同热应力的主要原因；2.化学亲和力不同影响膜层附着力和牢固度；3.表面粗糙度和缺陷散射的主要来源。二.基片清洁残留在基片表面的污物和清洁剂将导致：1.膜层对基片的

2、附着力差；2.散射吸收增大抗激光损伤能力差；3.透光性能变差。2021/8/2嘉兴蓝特光学有限公司三.离子轰击的作用提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力；提高膜层的聚集密度，氧化物膜层的透过率增加，折射率提高，硬度和抗激光损伤阈值提高。四.初始膜料化学成分（纯度/杂质种类）、物理状态（粉/块）和预处理（真空烧结/锻压）影响膜层结构和性能2021/8/2嘉兴蓝特光学有限公司五.蒸发方法不同蒸发方法提供给蒸发分子和原子的初始动能差异很大，导致膜层结构有较大差异，表现为折射率、散射、附着力有差异。六.蒸发速率速率是动能的又一表征，它对膜层的折射率、应力、附着力有明显影响。

3、七.真空度对膜层聚集密度，化学成分有影响，从而使膜层的折射率、硬度，牢固性发生变化。八.蒸气入射角影响膜层的生长结构和聚集密度。对膜层的折射率和散射性能有较大影响。一般应限制在30°之内。2021/8/2嘉兴蓝特光学有限公司九.基片温度宏观反映在膜层折射率、散射、应力、附着力和硬度都会因基片温度的不同而有较大差异。十.镀后烘烤处理有助于应力释放和环境气体分子及膜层分子的热迁移，可使膜层结构重组。因此，可使膜层折射率、应力、硬度有较大改变。以上所述的10个工艺因素对膜层性能的影响，是依据实际工艺项目和膜层宏观性能统计汇总得出的。2021/8/2嘉兴蓝特光学有限公司综合

4、分析结果：工艺因素对膜层性能的影响，主要集中在四类工艺因素对膜层四种性能的作用上：显然，成膜原子/分子迁移能和凝聚力的大小，几乎对膜层的所有性能都有影响。因此，PVD技术的发展，几乎都是针对提高成膜粒子迁移能，凝聚力而进行的。工艺作用膜层性能膜料原子制膜环境膜与基片聚集密度++附着力++应力++缺陷+++2021/8/2嘉兴蓝特光学有限公司工艺因素优选工艺因素优选通常采用正交实验，它是研究和处理多因素实验的方法，它在理论和实践的基础上，利用正交表进行实验，这种方法的优点是能在很多实验条件中找出代表性强的少数条件，通过很少几次实验，找出较优的工艺因素，其步骤如下：1.

5、定指标、挑因素、选水平；2.选用正交表、排表；3.安排实验方案、实验；4.分析实验数据、选取较优条件。2021/8/2嘉兴蓝特光学有限公司