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1、4.3.1电荷耦合器件的结构和工作原理4.3.2CCD图像传感器4.3.3图像传感器的应用返回上一页下一页CCD(ChargedCoupledDevice,电荷耦合器件)是由一系列排得很紧密的MOS电容器组成。它的突出特点是以电荷作为信号,实现电荷的存储和电荷的转移,而不同于其他大多数器件是以电流或者电压为信号。因此,CCD工作过程的主要问题是信号电荷的产生、存储、传输和检测。CCD有两种基本类型,其一电荷包存储在半导体和绝缘体之间的界面,并沿界面传输,称为表面沟道CCD(SCCD);另一种电荷包存储在离半导体表面一定
2、深度的体内,并在半导体内沿一定方向传输,称为体沟道CCD(BCCD)。MOS电容的结构1.金属或多晶硅2.绝缘层SiO2CCD是一种固态检测器,由多个光敏像元组成,其中每一个光敏像元就是一个MOS(金属—氧化物—半导体)电容器。CCD中的MOS电容器的形成方法:在P型或N型单晶硅衬底上用氧化办法生成一层厚度约为100~150nm的SiO2绝缘层,再在SiO2表面按一定层次蒸镀一金属电极或多晶硅电极,在衬底和电极间加上一个偏置电压(栅极电压卓彂成了一个MOS电容器。返回上一页下一页CCD一般是以P型硅为衬底,在这种P型硅
3、衬底中,多数载流子是空穴,少数载流子是电子。在电极施加栅极电压UG之前,空穴的分布是均匀的,当电极相对于衬底施加正栅压UG(此时UG小于P型半导体的阈值电压Uth)后,空穴被排斥,产生耗尽区,如图(B)所示。偏压继续增加,耗尽区将进一步向半导体内延伸。当UG>Uth时,半导体与绝缘体截面上的电势(常称为表面势,用ΦS表示)变得如此之高,以至于将半导体内的电子(少数载流子)吸引到表面,形成一层极薄的(约102um)但电荷浓度很高的反型层,如图(C)。反型层电荷的存在表明了MOS结构存储电荷的功能.l当MOS电容器栅压大于
4、开启电压U,周围电子迅速地G聚集到电极下的半导体表面处,形成对于电子的势阱。势阱:深耗尽条件下的表面势。势阱填满:电子在半导体表面堆积后使平面势下降。返回上一页下一页当一束光投射到MOS电容器时,光子透过金属电极和氧化层,进入Si衬底,衬底每吸收一个光子,就产生一个电子—空穴对,其中电子被吸引到电荷反型区存储。从而表明了CCD存储电荷的功能。一个CCD检测像元的电荷存储容量决定于反型区的大小,而反型区的大小又取决于电极的大小、栅极电压、绝缘层的材料和厚度、半导体材料的导电性和厚度等一些因素。电子所以被加有栅极电压Vg的
5、MOS结构吸引到Si-SiO2的交接面处,是因为那里的势能最低。在没有反型层电荷时,势阱的“深度”与电极电压的关系为线性关系,图(a)为空势阱。图(b)为反型层电荷填充1/3势阱时,表面势收缩,表面势ΦS与反型层电荷填充量QP间的关系。当反型层电荷足够多,使势阱被填满时,表面势下降到不再束缚多余的电子,电子将产生“溢出”现象,如图(c)所示。图示为64位CCD结构。光照射到光敏元上,会产生电子-空穴对(光生电荷),电子被吸引存储在势阱中。入射光强则光生电荷多,弱则光生电荷少,无光照的光敏元则无光生电荷。这样就在转移栅实
6、行转移前,把光的强弱变成与其成比例的电荷的数量,实现了光电转换。若停止光照,电荷在一定时间内也不会损失,可实现对兩照的记忆。图示的情况是,第62、64位光敏元受光,而第1、2、63位等光䕏元䜊受光煇。lCCD的基本功能是存储与转移信息电荷l为实现信号电荷的转换:1、必须使MOS电容阵列的排列足够紧密,以致相邻MOS电容的势阱相互沟通,即相互耦合。2、控制相邻MOC电容栅极电压高低调节势阱深浅,使信号电荷由势阱浅处流向势阱深处。3、在CCD中电荷的转移必须按照确定的方向。返回上一页下一页三DC相C信息电荷传输原理图返回上
7、一页下一页返回上一页下一页CCD的信号输出结构(a)选通电荷积分输出电路(b)驱动时钟波形和输出波形返回上一页下一页l利用CCD的光电转移和电荷转移的双重功能,得到幅度与各光生电荷包成正比的电脉冲序列,从而将照射在CCD上的光学图像转移成了电信号“图像”。l由于CCD能实现低噪声的电荷转移,并且所有光生电荷都通过一个输出电路检测,且具有良好的—致性,因此,对图像的传感具有优越的性能。l线列和面阵返回上一页下一页线型CCD图像传感器线型CCD图像传感器由一列光敏元件与一列CCD并行且对应的构成一个主体,在它们之间设有一个
8、转移控制栅,如图(a)所示。在每一个光敏元件上都有一个梳状公共电极。当入射光照射在光敏元件阵列上,梳状电极施加高电压时,光敏元件聚集光电荷,进行光积分,光电荷与光照强度和光积分时间成正比。在光积分时间结束时,转移栅上的电压提高(平时低电压),与CCD对应的电极也同时处于高电压状态。然后,降低梳状电极电压,各光敏元件中所积累的光电电