DB11T 262-2005 无公害蔬菜露地冬瓜生产技术规程

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1、ICS65.120B25备案号：16750-2005DB北京市地方标准DB11/T262—2005无公害蔬菜露地冬瓜生产技术规程No-pollutedvegetabletechnologicalstandardsforcultivatingWax-gourd2005-03-28发布2005-04-28实施北京市质量技术监督局发布DB11/T262—2005前言本标准附录A、附录B为规范性附录。本标准由北京市农业局提出并归口。本标准起草单位：北京市农业局蔬菜管理处、北京市农业技术推广站、北京市植物保护站、北京市土肥站。本标准起草人：赵山普、张丽红、秋、师迎春、黄

2、久勤、李红岭。IDB11/T262—2005无公害蔬菜露地冬瓜生产技术规程1范围本标准规定了无公害蔬菜—露地冬瓜的产地环境、栽培技术及病虫害防治技术要求。本标准适用于北京地区露地冬瓜无公害生产。2规范性引用文件下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。GB4285农药安全使用标准GB/T8321农药合理使用准则GB16715.2瓜菜作物种子瓜类NY/T

3、496肥料使用准则通则NY5010无公害食品蔬菜产地环境条件3术语和定义下列术语和定义适用于本标准。3.1日光温室由采光和保温维护结构组成，主要以塑料薄膜为透明覆盖材料，上覆盖蒲苫或草帘等保温材料，东西延长，在寒冷季节主要依靠获取和蓄积太阳辐射能进行蔬菜生产的单屋面温室。3.2塑料棚采用塑料薄膜覆盖的拱圆形棚，其骨架常用竹、木、钢材或复合材料建造而成。3.3精制有机肥工厂生产的、不含特定肥料效应微生物的、商品化有机肥料。总养分含量≥5％、有机质≥35％、水分≤20％。3.4平衡施肥根据农作物达到一定产量时所需要吸收的氮磷钾养分数量和种植该农作物的土壤中所含有的

4、氮磷钾养分可供数量，两者综合平衡之后提出的氮磷钾施用量及最佳比例的施肥技术。3.5农家肥利用鸡、猪、牛、羊等畜禽的排泄物为主要原料，经堆制、腐熟后施用于土壤的有机肥料。3.6压蔓当植株长到6～7片真叶，蔓长30cm～40cm时，在植株的北侧，由里向外挖一个半圆形深4cm～5cm的浅沟，把冬瓜的茎节和叶柄顺势埋到土中2～3个叶节，使叶面和生长点露到外面，此种做法称为压蔓，俗称盘条。1DB11/T262—20053.7双光雷达自控杀虫灯根据昆虫趋光习性将害虫引诱杀灭的自控纳米诱虫灯（主峰有275纳米和600纳米左右共2个）。3.8安全间隔期最后一次施药至作物收获时

5、允许的间隔天数。4产地环境4.1产地环境质量应符合NY5010的规定。4.2选择地势高燥，排灌方便，土层深厚疏松的壤土或砂壤土。5栽培技术5.1栽培方式露地冬瓜栽培方式主要有架冬瓜和地爬冬瓜两种。5.2栽培茬口露地冬瓜栽培可分为春播和夏播两种。春播采用育苗方式，夏播采用直播方式。5.3品种选择5.3.1种子质量符合GB16715.2中规定的生产用种标准。5.3.2品种选择选择抗病、优质、高产、商品性好的品种。选种如下：——小架冬瓜栽培，应选择坐瓜节位早，株形小、耐寒性较强的早熟品种，如一串铃4号、小青冬瓜、五叶子冬瓜等。——大架冬瓜栽培和地爬冬瓜，应选择生长势

6、强，茎粗叶大，耐热、耐涝的中、晚熟品种，如擦青冬瓜、车头冬瓜、黑皮冬瓜等。5.4育苗5.4.1播种前准备5.4.1.1育苗设施早熟品种用日光温室育苗，中晚熟品种可采用塑料棚育苗。5.4.1.2营养土配制——精制有机肥和过筛园田土按体积1：4混合后，每立方米再加入复合肥（N+P2O5+K2O≥40％）1kg。——无土育苗选用草炭、蛭石、珍珠岩等，按一定比例配制成混合基质，要求孔隙度约60％，pH值6～7.5，每立方米混合基质加复合肥（N+P2O5+K2O≥40％）1kg～1.5kg。5.4.1.3营养方的制作将营养土铺入苗床8cm～10cm厚，浇透水，水渗下后切

7、成8cm～10cm见方的营养方；或将配制好的营养土装入直径8cm～10cm育苗钵码入苗床，播种或分苗前浇透水。5.4.1.4苗床处理用50％多菌灵可湿性粉剂与50％福美双可湿性粉剂按1：1混合，或25％甲霜灵可湿性粉剂与70％2代森锰锌可湿性粉剂按9：1混合，每1m用药8g～10g与15kg～30kg过筛细土混合，播种时1/3铺于床面，2/3覆于种子上。5.4.1.5种子处理5.4.1.5.1晾晒将筛选好的种子选晴天晾晒6h～8h。2DB11/T262—20055.4.1.5.2处理方法用70℃～85℃的热水浸种20min，同时不断搅拌，或用0.1％的高锰酸钾

8、浸泡30min，然后在30℃～40℃水