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1、RTC校准方案应用指导文档版本00B01发布日期2012-12-26版权所有©深圳市海思半导体有限公司2012。保留一切权利。非经本公司书面许可,任何单位和个人不得擅自摘抄、复制本文档内容的部分或全部,并不得以任何形式传播。商标声明、、海思和其他海思商标均为深圳市海思半导体有限公司的商标。本文档提及的其他所有商标或注册商标,由各自的所有人拥有。注意您购买的产品、服务或特性等应受海思公司商业合同和条款的约束,本文档中描述的全部或部分产品、服务或特性可能不在您的购买或使用范围之内。除非合同另有约定,海思公司对本文档内容不做任何明示或默示的声明或保证。由于产品版本升级或其他原因,
2、本文档内容会不定期进行更新。除非另有约定,本文档仅作为使用指导,本文档中的所有陈述、信息和建议不构成任何明示或暗示的担保。深圳市海思半导体有限公司地址:深圳市龙岗区坂田华为基地华为电气生产中心邮编:518129网址:http://www.hisilicon.com客户服务电话:+86-755-28788858客户服务传真:+86-755-28357515客户服务邮箱:support@hisilicon.comRTC校准方案应用指导前言前言概述本文档主要介绍RTC的校准方案,确保RTC计时准确。产品版本与本文档相对应的产品版本如下。产品名称产品版本Hi3518芯片V100读者
3、对象本文档(本指南)主要适用于以下工程师:ò技术支持工程师修订记录修订记录累积了每次文档更新的说明。最新版本的文档包含以前所有文档版本的更新内容。修订日期版本修订说明2012-12-2600B01第1次版本发布。海思专有和保密信息文档版本00B01(2012-12-26)i版权所有©深圳市海思半导体有限公司RTC校准方案应用指导目录目录前言.......................................................................................................................
4、............................i1概述...............................................................................................................................................1-12RTC的硬件参考电路.....................................................................................................
5、.............2-12.1硬件参考电路..............................................................................................................................................2-12.1选择晶体.................................................................................................................
6、.....................................2-12.2选择电容......................................................................................................................................................2-23RTC校正功能的实现...............................................................................
7、...................................3-13.1测量晶体温度频率曲线与配置RTC温度频率曲线.................................................................................3-13.2动态更新RTC校正电路中的温度值..............................................................................................
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