维光栅的制作研究-沈少鑫

《维光栅的制作研究-沈少鑫》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在教育资源-天天文库。

1、题目二维光栅的制作研究学生姓名沈少鑫学号120071001129指导教师鄢仁文闽江学院——本科学位论文一引言三制作流程一、引言关键字光栅的应用光栅制作的技术发展从光栅的应用谈本论文的实际应用价值：大学阶段的光学实验中，对光栅的研究及相关的实验应用大部分是针对一维光栅来进行观察测量的，但有些实验研究也需要对二维光栅进行研究。实验室从厂家购置的二维光栅，其参数一定，无法满足特定的观察测量研究。如果能够自行设定相关的光栅参数，进行自制二维光栅，就能够很好的满足教学科研的需要。一、引言关键词之一—光栅的

2、应用光栅制作技术的发展经历阶段一、引言关键词之一—光栅制作的技术发展夫琅禾费首先用手工制成第一块衍射光栅原刻光栅反射式衍射光栅复制光栅现今，基于全息照相技术制作的全息光栅二、二维全息光栅制作原理介绍关键词二维光栅制作图二维光栅制作的基本原理二、二维全息光栅制作基本原理关键词之一—二维全息光栅制作图制作全息光栅光路图二、二维全息光栅制作基本原理关键词之一—二维全息光栅制作图制作的光路实物图本制作采用的二维光栅制作基本原理基于一维全息光栅制作的相关原理即采用马赫—泽德干涉法，并采用一定的改进措施制成

3、二维全息光栅。二、二维全息光栅制作基本原理关键词之一—二维光栅制作的基本原理马赫—泽德干涉法—在全息干版上记录两列有一定夹角的相干平面波的干涉条纹，利用曝光定时器对全息干版进行曝光，经显影、水洗、定影、水洗、漂白、水洗处理后得到一维光栅。马赫—泽德干涉法原理光路图改进措施——两次改变全息干版的曝光方位进行二次曝光的方法。原理：采用同一张全息片曝光两次来制作全息图。第一次记录原始物光波，第二次记录变化后的物光波，再现时出现两个物光波。两个物光波之间相互干涉，形成干涉条纹。分析这些条纹，就可以了解物

4、体前后发生的变化。改进措施——双曝光法三、制作流程摆放装置，光路调整按照标准调配显影剂、定影剂、漂白剂准备全息干版将全息干版放置于光路中，利用曝光定时器两次改变干版曝光方位进行二次曝光将全息干版进行显影、水洗、定影、水洗、漂白、水洗工序晾干全息光栅三、制作流程——二维光栅样品效果图谢谢大家！！