三氧化钨WO3电致变色薄膜的制备及性能研究

《三氧化钨WO3电致变色薄膜的制备及性能研究》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在学术论文-天天文库。

1、☆‰一；”{“竺．0，竺359竺夺肥工学大警HefeiUniversityofTechnology硕士学位论文MASTERDISSERTATIoN@论文题目：三兰兰竺‘!!’竺竺竺三竺竺竺竺兰及性能研究学位类另学历硕士?!：j；l嘉卷)竺皇三皇!竺皇三兰一作者姓名导师姓名完成时间田台雷何晓雄教授2007年5月三氧化钨电致变色薄膜的制备及性能研究摘要电致变色薄膜可用于灵巧窗，大面积、高对比度、高分辨率及无视角差的显示屏，汽车后视镜的自动光强调节等方面，具有很广泛的应用前景。在众多电致变色材料中，三氧化钨(W03)具有着色效率高

2、、可逆性好、响应时间短、寿命长、成本低等特点，被认为是最有发展前途的电致变色材料之一。本课题采用电子束蒸发法在导电玻璃(ITO)上沉积W03薄膜，通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)和紫外．可见光分光光度计对薄膜进行表征和分析，讨论了不同镀膜工艺参数对薄膜形貌、结构和电致变色性能的影响，确定了较为合适的变色薄膜厚度和退火温度。通过对样品的AFM分析发现，室温条件下所镀薄膜随着退火温度的升高，晶粒逐渐增大。350℃退火的W03薄膜随着膜厚的增加或基片温度的升高，薄膜表面的团簇现象增多；束流大小对薄膜表面形貌无明显

3、影响。通过对基片和靶材的XRD分析，证明了靶材呈多晶态，具有三斜相结构。对室温下所镀薄膜退火后进行分析，结果表明W03薄膜由非晶态向晶态转化的温度范围是320℃——350℃。对350℃退火后样品的XRD分析，发现随着薄膜厚度的增加或基片温度的升高，薄膜生长的取向性增多；束流的变化对晶体结构无明显影响。对室温所镀薄膜在经过不同温度退火，进行可见光范围内的透射率分析，分别对比了它们的透射率之差。对不同条件的薄膜进行了退火后的透射率分析，得到了较为合适的变色薄膜的厚度和退火条件。同时研究了变色薄膜的开关响应时间、循环利用次数、记忆

4、存储能力三个重要的性能指标。关键词：W03薄膜；电致变色；透射率ThePreparationandPerformanceResearchofW03ElectrochromicThinFilmAbstractElectrochromicthinfilmscanbeusedfortheSmartWindows，alarge，highcontrast,high-resolutionandno-visualdifferencedisplayserccns，switchablecarrear-viewmirrors,eft．n璩app

5、licationprospectsofeleetrochromicthinfilmsarcvery丽de．Itisconsideredtobethemostpromisingeleetrochromicmaterialbecauseofhighefficiencyandgoodreversibility,shortresponsetime，longevity,andlowcost．topicstudiese-bcalHdepositstungstenoxide(W03)targetontheITOglass．I嗍sibles

6、pectrophotometerandX-raydiffraction(XRD)andatomicforcemicroscopy∞聊田analyzesthecharacterizationofWOsthinfilms．Itdi∞吣螂theinfluencetotheelectrochromiepropertiesandstructureunderthedifferentparameterconditions．Wefindamoreappropriateeleetrochromicfilmtllicknessandanneal

7、ingtemperature．n地W03sampleswereinvestigatedbyAFM．Theresultsshowthatthegrainsizeofthethinfilmsdepositedatroomtemperaturebecomeslargerwiththeannealingtemperatureincreased．111eclustersofthethinfilmsannealedat350℃increasedwiththeconditionofincreasingtllicknessorrisings

8、ubstratetemperature．Thebeamsizehasnosignificanteffectonthesurfacemorphology．ThroughXRDanalysisofthesubstrateandthetargetitprovesthatthetargetwasp