难降解毒性有机物污水的高级氧化处理

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1、维普资讯http://www.cqvip.com辽宁城乡环境科技第26卷第1期2006年2月难降解毒性有机物污水的高级氧化处理韩庆利王承智李锐(沈阳环境科学研究院沈阳110016)(辽阳职业技术学院辽阳111004)(沈阳市大东区环保局沈阳110042)摘要高级氧化技术是目前水处理实践方面很有发展前途的一个方向,特别是对含难降解有机物的废水处理。文中介绍了在水处理中常见的几种高级氧化过程和它们的应用现状,分析了它们的特点,并指出该领域的发展趋势。关键词高级氧化污水处理UV0,H202AbstractAsadevelopingtrendofte

2、chnologyinwa.stewatertreatmentfieldAdvancedoxidationprocessesshowsitswiderdevelopingfore-groundespecialyinthetreatmentofnon—degradableorganicwastewater,basedonintroductionofoxidationmechanismoftheprocessanddis-eussiononitsappstatus。characteristicsoftheprocesswereexpoundedon

3、thatkeypointstobreachthroughwerealsopointedoutinthispaper.KeywordsAdvancedOxidationProcessWas~waterTreatmentUVO3HO21前言一顿试剂法。冶金、化工、制药、造纸和染整等是我国用水2.1臭氧类氧化法量大,废水排放量大的行业,所排放的难降解的有臭氧(03)由于其氧化能力仅次于天然元素中机污染物多含有如多环芳香烃、有机氯化物、氯代的氟,故长期以来一直被认为是一种高效氧化剂,酚类及一些高分子物质等,导致废水毒性大,被微但由于臭氧与有机物反应有

4、选择性,单独用其处生物降解速度慢,废水处理难度大的局面如何有理有机物废水时,存在0的利用率低,氧化能力不效地处理这些废水的环境保护领域内一直是个重足及臭氧在水中溶解性差等缺陷。为此出现了许要研究课题。传统的处理过程包括混凝、化学沉多改进措施,主要有UV/03、o~ri202、UV/0JH202、草淀、萃取、吸附和膜分离等。近二十多年来国内外酸/Mn一臭氧等组合方式,结果证明不仅提高了研究发现表明,高级氧化技术(AdvancedOxidation0,的利用率和处理效率,而且氧化能力大大提高。Processes,简称AOP)可以比较有效地处理大部

5、分2.1.1紫外,臭氧法(UV/03)难降解有机废水其概念由W.H.Glaze等人于1987Glaze等人研究了芳香烃、卤素等有机物的年提出的川,是以产生羟基自由基OH·为标志。UV,03氧化过程后所提出的UV,0,工作机理如下:2高级氧化技术的反应机理0,0+0:高级氧化技术在氧化有机物时产生一种氧化0+H20+H202能力极强的羟基自由基OH·,OH·作为反应的中间产物,氧化降解水相中的各种污染物,与其它化.H202+2.0H学氧化法相比,其具有氧化能力强:反应速率常数紫外/臭氧(UV/0,)系统显著增加了臭氧分解大;选择性小,与反应物浓

6、度无关;羟基自由基为氢氧自由基·OH的速度,同时促进了有机物形OH·寿命短;处理效率高,不产生二次污染等特成活化分子,以此大大提高了体系的反应速度。点。同时,羟基自由基0H·还具有杀灭细菌、防腐UV/0体系对有机物的去除能力比单独用臭氧或保鲜的功效。根据所使用的氧化剂及催化条件的紫外光更强。其影响因素主要有:溶液温度、初始不同,高级氧化技术通常分为以下三类:(1)臭氧pH值、OH·自由基清除剂(COi、HC0,一等)、气相类氧化法:(2)光化学氧化法:(3)芬顿试剂及类芬03的浓度和气量等。该法于2O世纪7O年代开始一18一维普资讯http:

7、//www.cqvip.com难降解毒性有机物污水的高级氧化处理韩庆利王承智李锐就有学者着手研究,这些研究成果目前多用于去合物再与O反应产生OH·,其反应试如下:除水中铁氰酸盐、溴酸盐等无机物和氨基酸、醇Mn(Ⅲ)(AO_)+O3+H‘—Mn(Ⅱ)+(n—1)AO+2CO2类、农药、氯代有机物和含氮、硫、磷等有机物中。+O2+OH·如马军等用于与活性碳联用提高电厂供水水质:臭氧类氧化法应用广泛,其中UV/O3/HO可薛向东等用于处理11NT废水囹:1994年美国军事研使挥发性有机氯化合物的去除率达到98%,几乎究年度报告中提到该技术用于销毁T

8、NT、RDX、可使芳香烃化合物完全矿化;对于纺织废水而言,HMX和苦味酸等军事有毒物质H中。它几乎可去除水中全部的色度,并将COD浓度降2.1.2氧化双氧水法(Od

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