等离子体增强化学气相沉积原理1

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1、CVD镀膜机自动化控制1离子体增强化学气相沉积原理2等离子体增强化学气相沉积设备3等离子体增强化学气相沉积过程的气体控制4等离子体增强化学气相沉积过程控制实例CVD镀膜机自动化控制离子体增强化学气相沉积原理被控对象12MFCMFCMFCMFCRF电源匹配网络真空计539朗缪尔探针电源6847可控硅温度控制器接真空泵10反应室CCP电容耦合抽真空装置四川国投南光生产的2X-8A型旋片式真空泵真空测量计ZDZ-2K型低真空计质量流量控制器七星华创的D07-7B/ZM质量流量控制器和汇博隆的S49-33M/MT质量流量控制器，对四

2、路气体的流量进行精密测量和控制．温度控制器日本导电的SR93PID调解器电源采用RF-500型射频电源与RF-500型射频电源匹配器。CVD镀膜机自动化控制准备基片开始镀膜通入反应气体启动总电源调定射频电源启动真空泵N时间到？NY达到真空度？生成DLC膜Y关闭电源基本镀膜工艺流程图打开进气阀关闭真空泵通入工作气体Ar关闭进气阀调定射频电源打开放气阀N时间到？关闭总电源镀膜结束YVacuumandFluidEngineeringResearchCenterofNortheasternUniversity,ChinaCVD镀膜机

3、自动化控制主回路-机械泵、主电源系统主电源控制加热控制机械真空泵控制进气阀、放气阀和真空计控制三相四线CBAGQFKM1FUSB2SB1KM1KM2KM1SB4SB3KM2KM3SB6SB5KM3KM2SB7进气阀SB8放气阀M3~机械真空泵SB9真空计原系统电气原理图VacuumandFluidEngineeringResearchCenterofNortheasternUniversity,ChinaCVD镀膜机自动化控制问题RF-500型CVD镀膜机原电气控制系统的开关量控制是以继电器、交流接触器等电气元件为核心,采用

4、传统的控制方法,控制逻辑用硬件实现，结构简单。原系统的缺点是:控制逻辑不能改变,不便于升级和优化,并且器件长期工作后容易失效。中间数据无法管理和存储VacuumandFluidEngineeringResearchCenterofNortheasternUniversity,ChinaCVD镀膜机自动化控制具体工作实现CVD镀膜机分布式控制硬件部分软件部分硬件部分采用基本的两级控制结构，包括上位监控级和下位控制级，主要由工业计算机、可编程控制器、智能仪表及传感器、执行机构组成属于分布式控制VacuumandFluidEngi

5、neeringResearchCenterofNortheasternUniversity,ChinaCVD镀膜机自动化控制工控机COM2COM1PLC开关量输入/输模拟量输入/输出模块出模块温度控制器质设备启停电量质质质阻流量量量真量流流流空控量量量传感执行机构计制控控控器制制制1器2器3器4分布式DCS控制系统示意图VacuumandFluidEngineeringResearchCenterofNortheasternUniversity,ChinaCVD镀膜机自动化控制（a）松下FP2-C1系列可编程控制器(1台)。

6、开关量输入/输出模块实现镀膜机各设备的起停控制，相关安全和操作的连锁控制；通讯模块实现与上位工控机的通讯。（b）ADAM-4520隔离转换器（1台），ADAM-4017+模数转换模块(1个)，ADAM-4024数模转换模块(1个)。实现RS232与RS485通讯的转换；实现真空度、流量信号的读取与控制。（c）北京七星华创D07-7B/ZM型质量流量控制器(2个)，汇博隆S49-33M/MT质量流量控制器(2个)。实现对镀膜过程中加入的气体流量的控制，与ADAM-4017模数转换模块和ADAM-4024数模转换模块连接。（d）

7、ZDZ-52智能型电阻真空计(1个)。测量镀膜室内真空度，与ADAM-4017模数转换模块连接。（e）SR93日本岛电PID调解器(1个)。用于真空室内基片温度的控制，与ADAM-4520隔离转换器连接，RS485通讯。VacuumandFluidEngineeringResearchCenterofNortheasternUniversity,ChinaCVD镀膜机自动化控制VacuumandFluidEngineeringResearchCenterofNortheasternUniversity,ChinaCVD镀膜机

8、自动化控制ADAM-4520隔离转换器能够将RS-232信号透明转换为RS-485信号VacuumandFluidEngineeringResearchCenterofNortheasternUniversity,ChinaCVD镀膜机自动化控制ADAM4017+为研华科技公司的新型八通道