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1、电子工艺技术第26卷第3期162ElectronicsProcessTechnology2005年5月AZ91D化学镀Ni-P结构耐蚀性研究毕虎才,卫英慧,侯利锋,余春燕,胡兰青,许并社(太原理工大学,山西太原030024)摘要:利用金相、SEM、TEM、XRD、盐雾、电化学测量系统研究了镁合金AZ91D的化学镀Ni-P镀层组织结构及耐蚀性能,结果表明,化学镀镍层为胞状致密结构,镀层厚度均匀,与基体结合良好。P的质量分数为6.68%,为中P镀层,镀层阻抗为0.6Ω,镀层组织为非晶加少量微晶;镀层耐腐蚀性能良好,连续盐雾8h未出现腐蚀斑点。盐雾腐蚀速率明显低于基体的腐蚀速率。化2学镀镍磷层
2、的最小腐蚀电流密度为4.52μA/cm,腐蚀电位为-250mV。低于200℃退火,镀层的耐腐蚀性能有所提高,而高于200℃退火,其耐腐蚀性能随温度提高而降低。关键词:镁合金;耐蚀性;化学镀中图分类号:TG178文献标识码:A文章编号:1001-3474(2005)03-0162-05InvestigationOfElectrolessPlatingNi-POnAZ91DMagnesiumAlloyAndMicrostructuresCorrosionResistancePropertyOfCoatingBIHu-cai,WEIYing-hui,HOULi-feng,YUChun-yan,
3、HULan-qing,XUBing-she(TaiyuanUniversityofTechnology,Taiyuan030024,China)Abstract:StudiedmicrostructuresandcorrosionresistanceofelectrolessNi-PonAZ91Dmagnesi2umalloythroughmetallography,SEM,TEM,DSCXRD,smogexperimentandpolarizedexperimentanaly2sis.Theresultwasdrawnthatelectrolesscoatingiscomposedof
4、compactcellsstructures,coatingthicknessissymmetrical,theadhesionresistanceisgood,phosphorcontentis6.68%,whichbelongstomediumphosphorcoating,theimpedanceis0.6Ω.Thecoatinghasaconstitutionofamorphouswithfewminic2rystal,resistanceisverywell,coatinghasnotappeartocorrosionspotsatsaltmistforcontinuous8h
5、.Po22larizedexperimentindicatedthatthelowestcorrosivecurrentofinitialcoatingis4.52μA/cm,andcor2rodeelectricpotentialEcorris-250mV.Whiletheannealedtemperatureislowerthan200℃,thecor2rosion-resistantperformanceofplatinglayerimprovestosomeextent,annealedathigherthan200℃,corrosion-resistantperformance
6、hasadownwardtrendwholly.Keywords:Magnesiumalloy;ElectrolessNi-P;CorrosionresistanceDocumentCode:AArticleID:1001-3474(2005)03-0162-05近年来镁合金的产品化发展很快,它由于诸多领域中。但镁合金的耐蚀性差一直是阻碍其广泛应[1]优点而被冠以“时代金属”和“21世纪金属”的称用的重要因素,因此也得到了许多学者的关注。号,并广泛应用于航空、电子、汽车、家用电子产品等人们在充分利用其性能优点的同时,试图改进或避基金项目:国家自然科学基金(项目批准号:504710707)
7、和山西省青年科学基金(项目批准号:20041023)项目资助。作者简介:毕虎才(1978-),男,研究生,主要从事镁合金表面处理的研究工作。2005年5月毕虎才等:AZ91D化学镀Ni-P结构耐蚀性研究163开其性能缺点;针对表面耐蚀性的问题,一般通过表-VP型扫描电子显微镜;厚度测量用456型探针式面处理方法来获得表面性能良好的镁合金产品,常膜厚仪;结构分析用Y-2000型X射线衍射仪、H-用的方法有化学转化膜、阳极氧化、化学镀、
