2016年光刻胶行业现状及发展趋势分析

2016年光刻胶行业现状及发展趋势分析

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1、中国产业调研网Cir.cn2016年中国光刻胶行业现状调研及发展趋势预测报告2016年中国光刻胶行业现状调研及发展趋势预测报告报告编号:1686103中国产业调研网www.cir.cn网上阅读:http://www.cir.cn/R_ShiYouHuaGong/03/GuangKeJiaoChanYeXianZhuangYuFaZhanQianJing.html中国产业调研网Cir.cn2016年中国光刻胶行业现状调研及发展趋势预测报告  行业市场研究属于企业战略研究范畴,作为当前应用最为广泛的咨询服务,其研究成果以报告形式呈现,通常包含以下内容:投资机会分析市场规模分析市场供需状况产

2、业竞争格局行业发展现状发展前景趋势行业宏观背景重点企业分析行业政策法规行业研究报告  一份专业的行业研究报告,注重指导企业或投资者了解该行业整体发展态势及经济运行状况,旨在为企业或投资者提供方向性的思路和参考。  一份有价值的行业研究报告,可以完成对行业系统、完整的调研分析工作,使决策者在阅读完行业研究报告后,能够清楚地了解该行业市场现状和发展前景趋势,确保了决策方向的正确性和科学性。  中国产业调研网Cir.cn基于多年来对客户需求的深入了解,全面系统地研究了该行业市场现状及发展前景,注重信息的时效性,从而更好地把握市场变化和行业发展趋势。网上阅读:http://www.cir.cn

3、/R_ShiYouHuaGong/03/GuangKeJiaoChanYeXianZhuangYuFaZhanQianJing.html中国产业调研网Cir.cn2016年中国光刻胶行业现状调研及发展趋势预测报告一、基本信息报告名称:2016年中国光刻胶行业现状调研及发展趋势预测报告报告编号:1686103   ←咨询时,请说明此编号。优惠价:¥7020元  可开具增值税专用发票网上阅读:http://www.cir.cn/R_ShiYouHuaGong/03/GuangKeJiaoChanYeXianZhuangYuFaZhanQianJing.html温馨提示:如需英文、日文等其他

4、语言版本,请与我们联系。二、内容介绍  光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版(mask)转移到待加工基片上的图形转移介质,其中曝光是通过紫外光、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光源的照射或辐射,从而使光刻胶的溶解度发生变化。光刻胶主要用于微电子领域的精细线路图形加工,是微制造领域最为关键性的材料。光刻胶1959年被发明以来,就成为半导体工业最核心的工艺材料。随后光刻胶被改进运用到印制电路板的制造工艺,成为PCB生产的重要材料。二十世纪九十年代,光刻胶又被运用到LCD器件的加工制作,对LCD面板的大尺寸化、高精细化、彩色化起到了重要的推动作用。

5、  中国产业调研网发布的2016年中国光刻胶行业现状调研及发展趋势预测报告认为,我国对光刻胶及专用化学品的研究起步较晚,国家非常重视,从“六五计划”至今都一直将光刻胶列为国家高新技术计划、国家重大科技项目。尽管取得了一定成果,并有苏州瑞红电子化学品有限公司和北京科华微电子有限公司实现了部分品种半导体光刻胶的国产化,但技术水平仍与国际水平相差较大,作为原料的主要专用化学品仍然需要依赖进口。  2013年我国光刻胶行业产量约7.55万吨,同比2012年的6.42万吨增长了17.60%,2014年我国光刻胶行业产量达到了8.68万吨。近几年我国光刻胶行业产量情况如下图所示:  2007-20

6、14年我国光刻胶行业产量情况网上阅读:http://www.cir.cn/R_ShiYouHuaGong/03/GuangKeJiaoChanYeXianZhuangYuFaZhanQianJing.html中国产业调研网Cir.cn2016年中国光刻胶行业现状调研及发展趋势预测报告  2014年我国光刻胶行业产量约8.68万吨,进口约0.59万吨,出口约0.14万吨,国内光刻胶行业表现消费量约9.13万吨,近几年我国光刻胶行业市场需求情况如下图所示:  2007-2014年我国光刻胶行业需求量情况  《2016年中国光刻胶行业现状调研及发展趋势预测报告》对光刻胶行业相关因素进行具体调

7、查、研究、分析,洞察光刻胶行业今后的发展方向、光刻胶行业竞争格局的演变趋势以及光刻胶技术标准、光刻胶市场规模、光刻胶行业潜在问题与光刻胶行业发展的症结所在,评估光刻胶行业投资价值、光刻胶效果效益程度,提出建设性意见建议,为光刻胶行业投资决策者和光刻胶企业经营者提供参考依据。正文目录第一章光刻胶相关概述 第一节光刻胶基础阐述  一、光刻胶特性  二、光刻胶成份 第二节光刻胶类型划分  一、光聚合型  二、光分解型  三、光交联型 第三节光刻胶的应

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