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时间:2019-03-24
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1、真空的获得和真空镀膜预习报告【摘要】通过本实验,我们温习了真空的特点、获得和测量,学习掌握真空蒸发镀膜的基本原理,通过热蒸发法用金属锡为材料对基底玻片表面进行了镀膜。【关键词】真空真空镀膜蒸发法【引言】真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术,是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜,从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能,达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源的作用。1950年后,真空获得和测量取
2、得的进展推动了真空镀膜技术迅速实现产业化,使薄膜技术获得腾飞。20世纪70年代各种真空镀膜技术的应用全面实现产业化。目前真空镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用,如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、军事等领域。它在高技术产业化的发展中展现出了诱人的市场前景,被誉为最具有发展前途的重要技术之一。本次实验,我们在真空的获得和测量的基础上,进一步学习掌握了真空热蒸发法镀膜,大致掌握其技术要领,分析镀膜情况。【实验原理】真空镀膜是在真空室中进行的,当需要蒸发的材料加热到一定温度时,材料中分子或原子的热振动能量可增大到足以克服表面的
3、朿缚能。于是大量分子或原子从液态或直接从固态汽化。当蒸汽粒子遇到温度较低的工件表面时,就会在被镀工件表面沉积一层薄膜。要使玻璃表面在真空室屮镀上一层厚度均匀的膜,为此对玻璃的表面就有一定的要求,比如清洁,没有油污等。在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体屮的活性分子和蒸发源材料I'可的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于102Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低(10'Pa)o1.1镀膜方式真空
4、镀膜按其方式不同可分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和现代发展起來的离子镀膜。这里用真空蒸发镀膜技术。蒸发镀膜是通过加热蒸发某种物质使其沉枳在固体表面。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。在一定的温度下,每种液体或固体都有特定的平衡蒸汽压。只有当环境屮被蒸发物质的分压降低到它们的平衡蒸汽压以下,才可能有物质的蒸发。由于物质的平衡蒸汽压随温度上升增加很快,因而对物质的蒸发速率影响最大的因素是蒸发源的温度。在真空中,气体分子密度低,在某些情况下,真空可以近似地看作没有气体“污染”的空间。真空屮,气体分子或带电粒
5、子的平均自由程为:无二kT/27r(y2p气体的自由程与真空度成正比。要求气体分子的自由程是源到基体距离的2〜3倍。所以为了使蒸汽分子以射线状从蒸发源到基体发射,提高蒸发材料的利用率,要求真空度足够高。如果没有足够的真空度,真空室内的残余气体可能很可观,尤其是氧等气体分子容易被吸附后改变膜层结构和成分。1.2镀膜过程真空蒸发镀膜主要包括以下几个物理过程:①采用各种形式的热能转换方式,使镀膜材料蒸发或升华,成为具有一定能量(0.P0.3eV)的气态粒子(原子、分子或原子团);②气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到基片;③粒子沉积
6、在基片表面上并凝聚成薄膜。实验基本方法:先用机械泵作前级泵获得低真空,在利用油扩散泵作次级泵來获得高真空,同时用FZH-2B型复合真空计中的热偶计测低真空、电离计测高真空,检查需要的真空度是否达到。最后再进行热蒸发镀膜。【实验仪器】金属锡丝、玻片、机械泵、油扩散泵、FZH-2B型复合真空计、WDY-V型电子衍射仪。【实验步骤】1)镀膜室的清理与准备。由于真空室的盖子难以打开,所以先向真空室内充气一段时间,盖子便可轻易取下。清理镀膜室,出去真空室内的残余金属,壁上的沉积物可以用洒精清洗。将金属锡丝折成勾状,大约6个,置于金属餌丝上,最好能
7、和钩丝充分接触,但不能使得钩丝部分短接。2)准备基底:清洗载玻片。在真空室顶部装好基底,关好真空室。3)打开FZH—2B型复合真空机电源,预热十分钟。4)WDY-V型电子衍射仪接通电源,把三通阀往外拉到底,打开机械泵(这时机械泵开始抽真空室的空气),先把复合真空计打到左测量档,观察指针变化,发现变化很慢,再打到右测量档,发现指针示数变化比较快,说明右侧的测量档测量的为真空室的气压。5)把复合真空计打在右测量档,观察示数,当示数低于6.7帕时,把复合真空计打在左测量档,然后把三通阀往里推到底,仍然使示数低于6.7帕,这时再把复合真空计打到
8、右测量档,观察示数(此时真空室的压强),如果发现示数髙于6.7帕,那么把三通阀往外拉到底,让机械泵继续抽真空室。同样,如果储气瓶的气压高于6.7帕,则抽完真空室后仍需要把三通阀往里推到底,让机械泵抽储气室。
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