谐振腔谐振参数的优化与设计

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1、＇鍾。５３．誦ＴＭＴＩ论文题目：谐振腔谐振参数的优化与设．ｗｌｌｉｒ＾＇ｉ学科专业：电子科学与技术＾ＢＨＩ＾＾ｔｉｒｅ作額名：＾指导教师：王辅忠完成日期：竺包＿＾１，－適ｉｉｉＭ蠢＾—捻巧．１＾编幽Ｍ独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研巧了作和取得的研究成果，除了文中特别加Ｗ标注和致谢之处外，论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果，也不包含为获得天津工业大举或其佈教育机构的举仿或证书而使用过的材料一同工作的同志对本研巧所做的任何贡献均己在论文。与

2、我中作了明确的说明并表示了谢意。签字曰期＾＞学位论文作者签名：：。＾＾培；１／斜多月／＾日学位论文版权使用授权书本学位论文作者完全了解天津工业大学有关保留、使用学位论文的规定。特授权天津工业乂学可Ｗ将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库讲行、、。检索，并采用影印缩印或扫描等复制手段保存汇编Ｗ供查阅和借阅同意学校向国家有关部口或机构送交论文的复印件和磁盘。（保密的学位论文在解密后适用本授权说明）学位论文作者签名：／ｉ培导师签名：签字０期：年ｔ日签字日期：年月ｉ口＾＾月ｆ；学位论文的主要创新点＂左手材料＂Ｕ将做

3、为谐振腔的填充介质，克服了通过传统方法提高谐振腔品质参数的局限性，对金刚石膜生产过程的速度与质量有一定的提局。２）采用分割方法建立类品质因数的概念。３）将石英窗的位置、厚度作为切入点，分析谐振腔内部的电磁场分。布情况，总结规律，建立理论模型４）研究同轴天线的深度和谐振腔内部等离子体的分布及输出功率之间的关系，结合研究理论及仿真数据，对同轴天线进行设计、。加工，实现对等离子体分布情况的可控操作摘要一直在工业应用领域，尤其是在金刚石膜的沉积过程中，谐振腔的品质参数是制约金刚石膜的质量Ｗ及沉积速度的关键因素。传统的提高Ｍ

4、ＰＣＶＤ谐振腔品质参数的方法是通过调节谐振腔的外观尺寸或控制输入功率，但由于传统方法的ＭＰＣＶＤＬ局限性，致使谐振腔的谐振频率、品质因数、电磁场的分布义及输出功一ＶＤ的品质率无法得到大幅度的提高。为了进步改进ＭＰＣ参数，本文引入性质＂＂＂＂一与传统材料具有定差别的左手材料。根据左手材料有别于传统介质的特殊性质，通过ＦＤＴＤ理论计算与册ＳＳ模拟仿真相结合的方法，对影响ＭＰＣＶＤ谐振腔品质参数的因素进行分析整理，研究填充介质的材料属性与谐振腔的电磁场分布、品质因数、谐振频率的关系，总结各个因素的作用效果Ｗ及作用机理。重点探究填充介

5、质的材料属性与谐振腔品质因数、谐振频率、输出功率Ｗ及等离子体分布的关系。数据分析结果与仿真结果显示：左手材料的填充可Ｗ改善谐振腔内部电磁场的分布情况，提高谐振腔的谐振频率Ｗ及品质因数。相较于传统材料而言，左手材料可Ｗ使谐振腔内部中也部位的电磁场强度增加、固有品质因数提高。左手材料可Ｗ在不改变谐振腔尺寸的基础上提高谐振频率。在理论在传统理论的基础上有了进一一步的进展，为探索和设计新颖的谐振腔提供了定的理论依据。：谐振腔，关键词，品质因数谐振频率，传统介质，左手材料ＡＢＳＴＲＡＣＴＩｎｉｎｄｕｓｔｒｉａｌａｌｉｃａｔｉｏｎｓａ

6、ｒｔｉｃｕｌａｒｌｉｎｔｈｅｒｏｃｅｓｓｏｆｄｉａｍｏｎｄｆｉｌｍｄｅｏｓｉｔｉｏｎｐｐ，ｐｙｐｐ，ｔｈｅｕａｌｉｔｙａｒａｍｅｋｒｓｏｆｌ：ｈｅｒｅｓｏｎａｔｏｒｈａｖｅｂｅｅｎｋｅｆａｃｔｏｒｓｒｅｓｔｒｉｃｔｉｎｔｈｅｕａｌｉｔｑｐｙｇｑｙａｎｄｓｐｅｅｄｏｆｄｉａｍｏｎｄｆｉｌｍｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ．Ｔｈｅｔｒａｄｉｔｉｏｎａｌｍｅ化ｏｄｓｂｙａｄｊｕｓｔｉｎｇｔｈｅｓｉｚｅｏｒｌｉｎｕｔｏｗｅｒｔｏｉｎｃｒｅａｓｅｔｈｅｃａｖｉｔｒｅｓｏｎａｎｃｅａｒａｍｅｔｅｒ

7、ｓａｌｈａｖｅｔｈｅｉｒｉｍｉｔａｔｉｏｎｓｐｐｙｐｌ，＂＂ｒｅｓｕｔｎｉｎｌ；ｈｅｏｕｔｕｔｏｗｅｒｏｆｌ：ｈｅｒｅｓｏｎａｔｏｒｃａｎｎｏｔｂｅｒｅａｔｌｉｍｒｏｖｅ．ｉｓｌｉｇｐｐｇｙｐｄＬＨＭ＇ａｎｏｔｈｅｒｋｉｎｄｏｆｍａｔｅｒｉａｌａｎｄｉｔｓｎａｔｕｒｅｓａｒｅｉｎｃｏｎｓｉｓｔｅｎｔｗｉｔｈｔｒａｄｉｔｉｏｎａｌｍａｔｅｒｉａｌｓ．Ｂｙｍ’ｃｏｍｂｎｉｎｅｏｒｅｔｃａｃａｃｕｌａｔｏｎａｎｄｓｕａｔｏｎｅｃｌｉＭｓａｔａｆｆｅｃｔｏｎａｎｔｉｇ化ｉｌ

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