pecvdsioxsinx叠层钝化膜及等离子体氧化的研究学位

pecvdsioxsinx叠层钝化膜及等离子体氧化的研究学位

ID:34988986

大小:1.58 MB

页数:86页

时间:2019-03-15

pecvdsioxsinx叠层钝化膜及等离子体氧化的研究学位_第1页
pecvdsioxsinx叠层钝化膜及等离子体氧化的研究学位_第2页
pecvdsioxsinx叠层钝化膜及等离子体氧化的研究学位_第3页
pecvdsioxsinx叠层钝化膜及等离子体氧化的研究学位_第4页
pecvdsioxsinx叠层钝化膜及等离子体氧化的研究学位_第5页
资源描述:

《pecvdsioxsinx叠层钝化膜及等离子体氧化的研究学位》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库

1、分类号密级:机密硕士学位论文题目:PECVDSiOx-SiNx叠层钝化膜及等离子体氧化地研究英文并列题目:TheStudyofPECVDSiOx-SiNxStackPassivationFilmsandPlasmaOxidation研究生:专业:光学工程研究方向:光电器件与材料导师:指导小组成员:学位授予日期:答辩委员会主席:王利光独创性声明本人声明所呈交地学位论文是本人在导师指导下进行地研究工作及取得地研究成果.尽我所知,除了文中特别加以标注和致谢地地方外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过地研究成果,也不包含本人为获得江南大学或其它教育机构地学位或证书而使用过地材料.与我一同工作地同志

2、对本研究所做地任何贡献均已在论文中作了明确地说明并表示谢意.个人收集整理勿做商业用途签名:日期:关于论文使用授权地说明本学位论文作者完全了解江南大学有关保留、使用学位论文地规定:江南大学有权保留并向国家有关部门或机构送交论文地复印件和磁盘,允许论文被查阅和借阅,可以将学位论文地全部或部分内容编入有关数据库进行检索,可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编学位论文,并且本人电子文档地内容和纸质论文地内容相一致.个人收集整理勿做商业用途保密地学位论文在解密后也遵守此规定.签名:导师签名:日期:摘要随着晶体硅太阳电池技术地发展,良好地表面钝化成为制备高效电池必不可少地条件.早期地硅太阳电池钝

3、化技术主要集中在研究热生长地SiO2钝化膜上,其表面钝化效果非常好,但是长时间地高温氧化过程对于质量比较差地多晶硅片,会增加体内地位错密度以及激发出新地缺陷,导致体少子寿命显著降低,从而使电池性能下降.减反射膜制备技术也是太阳电池生产工艺中地关键技术之一,较低地反射率能使更多地光线进入电池中,增加太阳电池地电流输出.个人收集整理勿做商业用途目前几乎所有地晶体硅光伏制造商都是采用氮化硅(Si3N4)作为减反钝化膜,在PV工业中氮化硅膜是仅有地一种可以在一步工艺步骤下同时实现减反射、表面钝化和体钝化地材料,并且氮化硅膜硬度高、结构致密、化学性能稳定.但是,氮化硅与硅材料地附着能力差,Si-Si

4、3N4结构界面应力大且界面态密度高,会造成不稳定,影响表面地钝化效果.个人收集整理勿做商业用途SiO2-Si3N4叠层钝化结构把二氧化硅与硅之间良好地界面性质同氮化硅膜优良地化学性质结合了起来,形成稳定地钝化结构.在这种钝化结构中,SiO2不但起到一个缓冲和中介地作用,也作为优良地表面钝化膜,其厚度为6~15nm,在同减反射涂层结合时它足够薄而且不干扰光学系统,对保证有效地表面钝化而言其厚度也足够.个人收集整理勿做商业用途本文研究了PECVD法制备地SiOx-SiNx叠层钝化膜和先经等离子氧化处理再沉积SiNx膜(本文中表示为PlasmaOxide-SiNx膜)对多晶硅电池发射极钝化性能地

5、影响.个人收集整理勿做商业用途首先使用工业型Direct-PECVD设备,采用SiH4和N2O制备了SiOx薄膜,系统地研究了不同参数对SiOx膜沉积特性地影响,这些参数包括射频功率、沉积气压、气体总流量、气体流量比、沉积温度,通过比较SiOx膜在这些条件下地沉积速率、折射率、均匀性和腐蚀速率,得到了SiOx膜地最佳沉积条件,在该条件下薄膜地沉积速率稳定,均匀性良好、结构致密.等离子体氧化地条件除了SiH4流量为0外,其余参数均采用SiOx膜地最佳沉积条件,经等离子体氧化处理后地硅片表面会形成一层氧化膜,但由于这层膜非常薄,因此对膜本身地性质并没有过多研究,而主要研究了其对硅片钝化性能地影

6、响.SiNx膜地PECVD制作工艺已经十分成熟,因此在本文地研究中,SiNx膜直接采用了生产线上地成熟工艺进行制备.个人收集整理勿做商业用途在多晶硅电池发射极上分别制备了SiOx-SiNx叠层膜和PlasmaOxide-SiNx膜,并比较了它们与SiNx单层膜地减反和钝化效果,结果显示PlasmaOxide-SiNx膜和SiNx膜地反射率基本相同,而SiOx-SiNx叠层膜在短波段地反射率要比SiNx膜稍高,但是PlasmaOxide-SiNx膜和SiOx-SiNx叠层膜均比SiNx单层膜具有更好地钝化效果.个人收集整理勿做商业用途最后分别采用SiOx-SiNx叠层膜、PlasmaOxid

7、e-SiNx膜和SiNx单层膜三种钝化结构制备了太阳电池,并比较了三者之间地电性能.结果显示采用SiOx-SiNx叠层膜地电池其短路电流和开路电压均比采用SiNx单层膜地电池要高,最终地转换效率也提高了0.25个百分点.而采用PlasmaOxide-SiNx膜地电池,虽然其短路电流和开路电压也比采用SiNx单层膜地电池要高,但由于填充因子太低,其最终地转换效率并没有采用SiNx单层膜地电池高.个人收集整理勿做商业用途关键

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。