磁性薄膜磁性能调控的研究

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5、体电子学专业２０１２级硕壬生姓名：朱俊伟９指导教甲（姓名、职称）：杨谈教授巧要技术进步给我们带来极大便利的同时大量电子设备的使用Ｗ及空间中弥，漫的各种电磁波也使得电磁福射污染日益严重，另外在军事上，式器装备对隱身的需求也越来越大。近年来电谣屏蔽、隐身技术的发展涉及到诸多国防军工与民用技术领域，在军事隱身、电磁信息泄漏防护、电磁干扰防护、电域握射防批等应用中都迫切需要新的更有效的材料和技术，而软滋材料在其中扮演重要角色。当然除了对电谣波的吸收与防护这一大方面各

6、种电子元器件和技术本身也对软，谣材料需求巨大，从变压器、电感等传统元器件到现在比较前卫的技术如近场通讯技术和无线充电技术，都有软磁材料的身影。为了提高材料的性能或者实现莱些特定的功能，人们越来越重视对软礙材料的研究。２１世纪Ｗ来，电子信息产业越来越向着微型化、集成化、高频化发展软踐，簿膜迎来了巨大的发展契机。软滋簿膜在诸多领域都有巨大的应用前景，比如电滋屏蔽、殘性隧道结和高频电感等等。正因为如此，关于磋性萍膜的研《异常火热一。为了满足不同应用场合的需求对软谣簿摸磁性性

7、能进行有效的调控直是，研究的热点。在这方面也已经有相当丰富的理论基础，但是仍然有许多值得探索的地方。通常改变褚性薄膜的成分、厚度、制备条件等等均会对其性能产生影，响另外在谣性薄巧和衬底之间加入一，个缓冲层也能有效地调控滋性簿膜的性能。本文的主要工作包括：１．引入离子刻蚀这种方法对缓冲层进行修饰，研究衬底和缓冲层对磁性簿膜性能的影响。我们采用不同的离子刻蚀条件处理缓冲层，然后利用ＡＦＭ观察表面形貌特别是粗挺度的变化，之后在这些处理过的衬底上沉积软磁薄膜。所有的样品在

8、制备完成之后都进巧相同条件的踐场热处理，Ｗ消除内应力并引入单轴各向Ｉ南京大学硕±学位论文异性。我们发现，如果采用合适的刻蚀功率不仅缓冲层的表面粗挺度能够得到，有效改善，在其上沉积的ＦｅＣｏＢ磁化簿膜的软礙性能也能得到提高，说明软磁簿膜的矫顽力和界面粗提度是密材相关的。另外，在对样品进行微波谣谱的测量过程中，发现损耗线宽也和界面粗控度有着类似的变化关系。我们认为这是界面修双滋子散射的影响造成的一饰改变了。这些结果都说明界面修饰是种有效调控软磁薄膜褚性化的手段。