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时间:2019-03-13
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1、广东工业大学硕±学位论文(工程硕±)基于闭合巧路的框式巧膜电感的剝备与性能巧究’■.-:.>.■.-■.?-::'?v?.,;.,;;*"陈赵豪-?''■■....V■;.;.V?■.‘去:..?-?■-■:.??---?.;v..:?-..i?VV-.,...V,.占‘'.-...''■.',.…
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3、UDC:2;学号:密级广东工业大学硕±学位论文(工程硕±)基于闭合磁路的框式薄膜电感的制备与性能研究陈赵豪指导教师姓名职称;谢致薇教授专业或领域名称:集成电路王程学生所属学院:材料与能源学院论文答辩日期:2015年6月2日ADissertationSubmittedtoGuangdongUniversityofTechnologyfor化eDegreeofM汪s化rMasterofEnineerin(gg)Inve
4、stigationofFabricationandPorpertiesofTheFrameTh-in巧torBaImInducsedonTheClosedMagneticCircuitMse.Candidate:ChenZhaohaoSupervisor:Prof.XleZhiweiJune2015SchoolofMaterialsandEnergyGuangdongUniversityofTechnologyGuan
5、zhouGuanon.R.China510006g,,gdg,P^摘要随着电子技术的快速发展,对电路系统的集成度要求也越来越富,作为H大无一的电感器源器件之,必然要向着小型化,高频化的趋势发展,研究重点集中于提,高电感量。本文从减少漏磯的角度出发,设计出磁拉磁路访合的特殊磁芯电感及用于对比分析的两种薄膜电感:全磁膜电感和H文治结构电感。这些电感均由下层磁芯层、下层绝缘层(聚偏二氯乙婦,厚度约为40um)、线圈和线圈中也的磁膜、上层绝缘层和上层磁芯层组成,其差
6、别在于磁芯结构不同。本文将分两部分开展试验研究一,是采用直流磁控繊射法制备Co膜、如膜,采用射频磁控繊射法制备Si〇2膜,研究沉积工艺对Co膜、Cu膜和Si〇2薄膜的组织性能的影响,由此初定薄膜的 ̄l沉积工艺,在3MHz的;二是采用磁控瓣射方法,制备三种不同结构的薄膜电感、频率范围,比较H种电感的等效电感寄生电容、电性能和损耗因子,探讨磁芯结构及薄膜沉积工艺对等效电感、寄生电容和损耗的影响,结果如下:--1.在满射沉积功率为60132W、沉积时间为20100min条件下制备的Co
7、膜的电阻率随着姗射时间与瓣射功率的增化而下降,薄膜电性能更好。在%W功率下沉积60mm的Co膜表面组织致密,呈现柱状方式生长,厚度能达到510nm。Co/聚偏二.mVK。氯乙婦复合膜呈现软磁性,Ms为8.47Ag--mCu膜的电阻2in条件.在娥射沉积功率为4080W、沉积时间为515下制备的率随着繊射时间与瓣射功率的增加而下降薄膜电性能变好。在60W功率下沉积,即lOmn的Cu膜表面组织致密,呈柱状形600nm。i式生长,厚度能达到3.在气氛中加入氧:,形成更为致密、颗
8、,M/氧比为52时,有利于薄膜的生长粒更加微小的S,i〇2膜,但Si化薄膜生长速率很慢在本试验条件下未能形成完全覆盖导电Cu膜的绝缘膜。4.与H文治结构电感和全磁膜电感相比,特殊磁芯电感有更高的等效电感值、更小的寄生电容,但损耗因子较大。磁巧薄膜的电阻较高,有利于降低电感的祸流损耗。磁性薄膜的覆盖面积对电感线圈的电性能有影响,,覆盖面越小电感线圈的电阻越小。特殊磁芯电感线圈电阻最小,有利于降低电感的铜损。5Co膜和C
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