选修材料分析x射线考试

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1、材料现代分析方法试题7（参考答案） 一、基本概念题（共10题，每题5分）1．欲用Mo靶X射线管激发Cu的荧光X射线辐射，所需施加的最低管电压是多少？激发出的荧光辐射的波长是多少？矚慫润厲钐瘗睞枥庑赖。答：欲使Cu样品产生荧光X射线辐射，V=1240/λCu=1240/0.15418=8042，V=1240/λCu=1240/0.1392218=8907聞創沟燴鐺險爱氇谴净。  激发出荧光辐射的波长是0.15418nm激发出荧光辐射的波长是0.15418nm 2．判别下列哪些晶面属于[11]晶带：（0），（1），（231），（211），（01），（13），（12），（12）

2、，（01），（212）.残骛楼諍锩瀨濟溆塹籟。答：（0）（1）、（211）、（12）、（01）、（01）晶面属于[11]晶带，因为它们符合晶带定律：hu+kv+lw=0.答：（0）（1）、（211）、（12）、（01）、（01）晶面属于[11]晶带，因为它们符合晶带定律：hu+kv+lw=0.酽锕极額閉镇桧猪訣锥。3．用单色X射线照射圆柱多晶体试样，其衍射线在空间将形成什么图案？为摄取德拜图相，应当采用什么样的底片去记录？彈贸摄尔霁毙攬砖卤庑。答：用单色X射线照射圆柱多晶体试样，其衍射线在空间将形成一组锥心角不等的圆锥组成的图案；为摄取德拜图相，应当采用带状的照相底片去记

3、录.謀荞抟箧飆鐸怼类蒋薔。4．洛伦兹因数是表示什么对衍射强度的影响？其表达式是综合了哪几方面考虑而得出的？答：洛伦兹因数是表示掠射角对衍射强度的影响.洛伦兹因数表达式是综合了样品中参与衍射的晶粒大小，晶粒的数目和衍射线位置对衍射强度的影响.厦礴恳蹒骈時盡继價骚。5．给出简单立方、面心立方、体心立方以及密排六方晶体结构电子衍射发生消光的晶面指数规律.6．透射电镜的成像系统的主要构成及特点是什么?(p144)答：透射电镜的成像系统由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜和投影镜组成.各部件的特点如下：1）物镜：强励磁短焦透镜（f=1-3mm）,放大倍数100—300倍.作用：形成第

4、一幅放大像2）物镜光栏：装在物镜背焦面，直径20—120um，无磁金属制成.作用：a.提高像衬度，b.减小孔经角，从而减小像差.c.进行暗场成像3）选区光栏：装在物镜像平面上，直径20-400um，作用：对样品进行微区衍射分析.4）中间镜：弱激磁，长焦距，放大倍数可调节（0-20倍）作用a.控制电镜总放大倍数.b.成像/衍射模式选择.5）投影镜：短焦、强磁透镜，进一步放大中间镜的像.投影镜内孔径较小，使电子束进入投影镜孔径角很小.小孔径角有两个特点：a.景深大，改变中间镜放大倍数，使总倍数变化大，也不影响图象清晰度.b.焦长深，放宽对荧光屏和底片平面严格位置要求.7．说明

5、多晶、单晶及非晶衍射花样的特征及形成原理.答：单晶衍射的特点：1）电子束方向B近似平行于晶带轴[uvw]，因为θ很小，即入射束近似平行于衍射晶面，2）反射球很大，θ很小，在0*附近反射球近似为平面.3）倒易点阵的扩展.（因为使用薄晶体样品）因此，不难看出，单晶电子衍射花样就是(uvw)*0零层倒易截面的放大像.成像原理图和单晶电子衍射花样见下图. 电子束照射多晶、纳米晶体时，衍射成像原理与多晶X射线衍射相似，如图多晶的衍射花样为：各衍射圆锥与垂直入射束方向的荧光屏或照相底片的相交线，为一系列同心圆环.8．试述用合成电子衍射图法如何确定两相间的取向关系？答：用合成电子衍射图

6、法确定两相间的取向关系的步骤如下:（1）从合成的电子衍射图中分离出两套衍射斑点，分别标定两套衍射斑点指数，并确定晶带轴指数〔uvw〕A和[u/v/w/]B茕桢广鳓鯡选块网羈泪。(2)找出互相平行的两相的矢量RA和RB，指数分别为(hkl)A和（h/k/l/）B.（3）可以确定两相的取向关系为（hkl）A//(h/k/l/)B                              [uvw]A//[u/v/w/]B9．解释红外光谱图的一般程序是什么？答：运用红外光谱解谱的四要素，分析吸收峰对应的基团；若是单纯物质可对照SADLTER标准图谱；还可从数据库查相应发表文献的

7、红外光谱信息.鹅娅尽損鹌惨歷茏鴛賴。10．红外光谱的近期发展有哪些？答：付立叶红外及差谱技术，红外二向色性，二维相关红外，动态红外光谱和表面红外技术等.11.晶面指数的确定方法(p22)1）量出待定晶面在三个晶轴的截距，并用点阵周期a,b,c度量它们.2）取三个截距系数的倒数3）将三个倒数分别乘分母的最小公倍数，把它约简化为最简的整数，并用圆括号（hkl）表示.二、综合及分析题（共5题，每题10分）1．讨论下列各组概念中二者之间的关系：1）同一物质的吸收谱和发射谱；答：λk吸收〈λkβ发射〈λkα发射2）X射线管靶材的发射谱与