cbaf-acf工艺深度处理轻污染水的研究

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1、华南理工大学硕士学位论文CBAF-ACF工艺深度处理轻污染水的研究姓名:朱运伟申请学位级别:硕士专业:化学工艺指导教师:钟理20030601摘要摘要本文首先对我国石化行业的水处理情况进行了简单介绍,对国内外废水深度处理及回用情况进行了总结,介绍了轻污染水回用技术的研究进展,并评价了其特点。本研究主要以CODc,≤100mg/L、油≤10m∥L、挥发酚≤O.5mg/L、硫化物≤1megL、氨氮≤20mg/L的广州乙烯厂生化出水为研究对象。通过对这种轻污染水水质与广州乙烯处理流程分析,提出了采用循环曝气生物滤池(cBAF)一活性炭过滤(ACF)组合工艺对乙烯废水进行深度

2、处理,使处理出水达到工业回用水水质标准,并确定最佳的工艺运行参数,为深度处理乙烯废水的工业化提供了基本的数据及理论依据。试验装置安装在污水处理车间,直接泵入现场废水进行试验研究。通过试验研究发现T-18陶粒填料是CBAF工艺理想的填料,采用充氧自然挂膜的方式,挂膜速度快。乙烯废水生化处理出水通过CBAF处理后,各项污染物得到了良好的降解:CODc,达到了42.5%的平均去除率,SS的平均去除率为56.9%;氨氮、石油类达到了乙烯水回用标准;挥发酚、硫化物在较小进水指标的境况下达到了100%的去除。CBAF处理效果优于乙烯厂废水处理现有砂滤一活性炭工艺。CBAF出水经

3、活性炭过滤后,出水CODcr30m。g/L以下,悬浮物10mg/L以下,系统出水完全达到工业回用水水质标准。试验结果表明,CBAF—ACF工艺是一神非常高效的乙烯废水深度处理方法。CBAF工艺具有占地面积小、停留时间短、处理效率高、反冲洗周期长、操作简单等优点,值得推广应用。通过试验得到了影响乙烯废水深度处理的主要因素,确定了系统适宜的运行参数和工艺条件,CBAF一工艺:气水比3:1,停留时间1,O~1.5hr,反冲洗周期3~5d;ACF工艺:停留时间10~15min,反冲洗周期1~3d。为国内石化系统利用CBAF技术处理轻污染水及实现工业化处理提供了宝贵的经验。关

4、键词:轻污染水、乙烯废水,CBAF工艺,隔离曝气技术,活性炭华南理工大学工学硕士学位论文ABSTRACTThesituationofwastewatertreatmentatchemicalandpetrochemicalplant1nChinawasbrieflyintroduced,andthecurrentsituationofadvancedtreatmentandreuseofwastewaterathomeandoverseaswassummarized.Then,technologyadvancesoflowlevelpollutedwastewate

5、rreusewerealsoreviewedinthisthesis,andtheircharacteristieswerealSOevalUated.Inthispaper,thelowlevelpollutedethenewastewaterwi也CODcr≤lOOmg/L.oil≤10mg/L,volatilizephenol≤0.5mg/L,Sulfide≤lmg/L,Ammonia-nitrogen(NH4+-N)≤20mg/Lwaschosenastargetpollutants,Byanalyzingethenewastewatercompositio

6、nsandthetreatmentsystemofGuangzhouetheneplant,weputforwardtocirculatedbiologicalaerationfilter(CBADfollowedbyactivecarbonfilter(ACF)totreatethenewastewater,andmakesuretheeffluentCanreachthestandardsofindustrialrecyclewater.Weobtainedtheoptimumoperationparameters,andthusprovidedbasicdat

7、aandtheoreticalpredicationforindustrializationofethenewastewateradvancedtreatmeritforreuse.Experimentalfacilitywasplacedinthewastewatertreatmentplant.Thewastewaterwasfetchedfromtheethenewastewaterofbio.chemicaltreatment.Thefollowingconclusionswereobtainedbasedontheexperimentalstudy:T

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