、、全国高考化学工艺流程题总结(有详细解析)

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1、2008年北京卷25.(16分)菠萝酯是一种具有菠萝香气的食用香料，是化合物甲与苯氧乙酸发生酯化反应的产物。⑴甲一定含有的官能团的名称是。⑵5.8g甲完全燃烧可产生0.3molCO2和0.3molH2O，甲蒸气对氢气的相对密度是29，甲分子中不含甲基，且为链状结构，其结构简式是。矚慫润厲钐瘗睞枥庑赖。⑶苯氧乙酸有多种酯类的同分异构体，其中能与FeCl3溶液发生显色反应，且有2种一硝基取代物的同分异构体是（写出任意2种的结构简式）。聞創沟燴鐺險爱氇谴净。⑷已知：R-CH2-COOHR-ONaR-O-R′(R-、R′-代表烃基)菠萝酯的合成路线如下：①

2、试剂X不可选用的是（选填字母）。a.CH3COONa溶液b.NaOH溶液c.NaHCO3溶液d.Na②丙的结构简式是，反应II的反应类型是。③反应IV的化学方程式是。25.(16分)⑴羟基⑵CH2=CH-CH2-OH⑶(答对其中任意两个均给分)⑷①ac②ClCH2COOH取代反应残骛楼諍锩瀨濟溆塹籟。③2008年广东卷19.（11分）碳酸钠是造纸、玻璃、纺织、制革等行业的重要原料。工业碳酸钠（钝度约98％）中含有Ca2+、Mg2+、Fe3+、Cl-和SO等杂质，提纯工艺路线如下：酽锕极額閉镇桧猪訣锥。已知碳酸钠的溶解度（S）随温度变化的曲线如下图所

3、示：回答下列问题：46/46（1）滤渣的主要成分为。（2）“趁热过滤”的原因是。（3）若在实验室进行“趁热过滤”，可采取的措施是（写出1种）。（4）若“母液”循环使用，可能出现的问题及其原因是。（5）已知：Na2CO3·10H2O(s)=Na2CO3(s)+10H2O(g)ΔH1=+532.36kJ·mol-1彈贸摄尔霁毙攬砖卤庑。Na2CO3·10H2O(s)=Na2CO3·H2O(s)+9H2O(g)ΔH1=+473.63kJ·mol-1謀荞抟箧飆鐸怼类蒋薔。写出Na2CO3·H2O脱水反应的热化学方程式。19.(1)  滤渣的主要成分为Mg(

4、OH)2、Fe（OH）3、CaCO3。(2)  “趁热过滤”的原因是使析出的晶体为Na2CO3·H2O，防止因温度过低而析出Na2CO3·10H20晶体，令后续的加热脱水耗时长。厦礴恳蹒骈時盡继價骚。(3)  若在实验室进行“趁热过滤”，可采取的措施是用已预热的布氏漏斗趁热抽滤。(4)  若“母液”循环使用，可能出现的问题及其原因是问题：溶解时有大量沉淀生成，使Na2CO3损耗且产物Na2CO3混有杂质；原因：“母液”中，含有的离子有Ca2+，Na+，Cl-，SO42-，OH-，CO32-，当多次循环后，使用离子浓度不断增大，溶解时会生成CaSO4

5、，Ca（OH）2，CaCO3等沉淀。茕桢广鳓鯡选块网羈泪。(5)  写出Na2CO3·H2O脱水反应的热化学方程式Na2CO3·H2O（S）====Na2CO3（s）+H2O（g）&8710;H=+58.73kJ/mol鹅娅尽損鹌惨歷茏鴛賴。 解释与思路：(1)    因工业碳酸钠中含有Mg2+，Fe3+，Ca2+，所以“除杂”中加入过量的NaOH溶液，可生成Mg(OH)2、Fe（OH）3、Ca（OH）2沉淀。籟丛妈羥为贍偾蛏练淨。(2)    观察坐标图，温度减少至313K时发生突变，溶解度迅速减少，弱不趁热过滤将析出晶体。(3)    思路方向

6、：1.减少过滤的时间2.保持过滤时的温度。(4)    思路：分析“母液”中存在的离子，若参与循环，将使离子浓度增大，对工业生产中哪个环节有所影响。預頌圣鉉儐歲龈讶骅籴。46/46(5)    通过观察两个热化学方程式，可将两式相减，从而得到Na2CO3·H2O（S）====Na2CO3（s)+H2O（g）。渗釤呛俨匀谔鱉调硯錦。23.(11分)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：铙誅卧泻噦圣骋贶頂廡。①写出由纯SiHC

7、l3制备高纯硅的化学反应方程式。②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式；H2还原SihCl3过程中若混02，可能引起的后果是。擁締凤袜备訊顎轮烂蔷。（2）下列有头硅材料的详法正确的是（填字母）。A.碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混B.氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高D.盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振

8、荡。写出实验现象并给予解释。贓熱俣阃歲匱阊邺镓騷。23，(1)①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式:SiHCl