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1、电子科技大学二00四至二00五学年第一学半导体物理(B卷)课程考试题(120分钟)考试日期:2004年12月28日注:1、本试卷满分70分,平时成绩满分15分,实验成绩满分15分;2.、本课程总成绩=试卷分数+平时成绩+实验成绩.一、选择填空(含多选题)(25分)1、与半导体相比较,绝缘体的价带电子激发到导带所需的能量(A);A、比半导体的大,B、比半导体的小,C、与半导体的相等.2、室温下,半导体Si掺硼的浓度为1014cm-3,同时掺有浓度为1.1×1015cm-3的磷,则电子浓度约为(B),空穴浓度为(D),费米能级为(G);将该半导体由室温度升至570K,则多子浓度约为(F),
2、少子浓度为(F),费米能级为(I).(已知:室温下,ni≈1.5×1010cm-3,570K时,ni≈2×1017cm-3)矚慫润厲钐瘗睞枥庑赖。A、1014cm-3B、1015cm-3C、1.1×1015cm-3D、2.25×105cm-3E、1.2×1015cm-3F、2×1017cm-3G、高于EiH、低于EiI、等于Ei3、施主杂质电离后向半导体提供(B),受主杂质电离后向半导体提供(A),本征激发后向半导体提供(AB);聞創沟燴鐺險爱氇谴净。A、空穴,B、电子.4、对于一定的p型半导体材料,掺杂浓度降低将导致禁带宽度(B(A)),本征流子浓度(B(C)),功函数(C);残骛楼
3、諍锩瀨濟溆塹籟。A、增加,B、不变,C、减少.5、对于一定的n型半导体材料,温度一定时,减少掺杂浓度,将导致(D)靠近Ei;A、Ec,B、Ev,C、Eg,D、EF.6、热平衡时,半导体中的电子浓度与空穴浓度之积为常数,它只与(CD)有关,而与(AB)无关;酽锕极額閉镇桧猪訣锥。A、杂质浓度B、杂质类型C、禁带宽度,D、温度.7、表面态中性能级位于费米能级以上时,该表面态为(A);A、施主态B、受主态C、电中性8、当施主能级ED与费米能级EF相等时,电离施主的浓度为施主浓度的(C)倍;A、1,B、1/2,C、1/3,D、1/4.9、最有效的复合中心能级位置在(D)附近;最有利陷阱作用的能
4、级位置在(C)附近,常见的是E陷阱.A、EA,B、ED,C、EF,D、EiE、少子F、多子.10、载流子的扩散运动产生(C)电流,漂移运动产生(A)电流.A、漂移B、隧道C、扩散11、MIS结构的表面发生强反型时,其表面的导电类型与体材料的(B),若增加掺杂浓度,其开启电压将(C).彈贸摄尔霁毙攬砖卤庑。A、相同B、不同C、增加D、减少二、证明题:(8分)p型半导体的费米能级在n型半导体的费米能级之下.(8分)证明一:由于nn>np(或pp>pn)(2分)即(2分)(2分)(或,)对上面不等式两边同时求对数,即得EFn>EFp(2分)证明二:对于p型半导体pp>ni(或ni>np)即(
5、2.5分)则有(1分)同理对于n型半导体nn>ni(2.5分)可得到(1分)因此EFn>EFp(1分)三、简答题1、下图为中等掺杂的Si的电阻率ρ随温度T的变化关系,分析其变化的原因.(3分)ρCDABT答:设半导体为n型,有AB:本征激发可忽略.温度升高,载流子浓度增加,杂质散射导致迁移率也升高,故电阻率ρ随温度T升高下降;(1分)謀荞抟箧飆鐸怼类蒋薔。BC:杂质全电离,以晶格振动散射为主.温度升高,载流子浓度基本不变.晶格振动散射导致迁移率下降,故电阻率ρ随温度T升高上升;(1分)厦礴恳蹒骈時盡继價骚。CD:本征激发为主.晶格振动散射导致迁移率下降,但载流子浓度升高很快,故电阻率ρ
6、随温度T升高而下降;(1分)茕桢广鳓鯡选块网羈泪。2、试简述杂质在半导体中的几种作用,并分别在能带图上标志出其在半导体中的作用过程.(4分)答:(1)使载流子浓度增加(即作为浅能级杂质起施主和受主,分别为半导体提供电子和空穴)(1分)使载流子浓度减少(即作为深能级杂质起复合中心和陷阱,俘获载流子)(1分)鹅娅尽損鹌惨歷茏鴛賴。(2)0.5分0.5分0.5分0.5分4、画出p型衬底构成的MIS结构在高频、低频以及深耗尽情况下的C-V特性曲线.(3分)C低频(1分)高频(1分)深耗尽(1分)V4、对上题三种情况下的C-V曲线进行对比分析.(3分)答:(1)低频:半导体表面进入强反型,CC0
7、;(1分)(2)高频:半导体表面的电荷变化跟不上外加电压信号的变化,耗尽层宽度达到最大值,半导体表面电容达到最大,故总电容达到最小;(1分)籟丛妈羥为贍偾蛏练淨。(3)深耗尽:脉冲信号变化太快,耗尽层不断展宽,导致半导体表面电容逐渐变小,故总电容越来越小.(1分)預頌圣鉉儐歲龈讶骅籴。5、说明绝缘层中正电荷对n型衬底MIS结构的高频C-V特性曲线的影响.(3分)答:(1)向负偏压方向平移动;(2分)(2)由于在半导体表面感应负电荷所致(或平带电
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