欢迎来到天天文库
浏览记录
ID:34602663
大小:2.77 MB
页数:56页
时间:2019-03-08
《氧化石墨烯修饰对snse光响应性能的影响研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、学校代码10530学号201510121254分类号密级硕士学位论文氧化石墨烯修饰对SnSe光响应性能的影响研究学位申请人姚浩指导教师钟建新教授学院名称物理与光电工程学院学科专业光学工程研究方向光电能源材料与器件二零一八年六月八日EffectofGrapheneOxideModificationonPhotoresponsePerformanceofSnSeCandidateHaoYaoSupervisorProfessorZhongJianxinCollegeSchoolofPhysicalandOptoelect
2、ronicsProgramOpticalEngineeringSpecializationPhotovoltaicenergymaterialsanddevicesDegreeMasterofEngineeringUniversityXiangtanUniversityDateJune8th,2018摘要纳米材料的研究范围十分广泛,内容涵盖极其丰富,其研究领域从原子团到大块块体材料再延续到发展超薄二维纳米结构材料。继石墨烯之后,IV-VI族窄带隙半导体材料作为新型的量子功能材料,具有优异的电学和光电性能,可被广泛应用
3、于光探测器、光伏器件以及激光器等光电子领域。我们的主要工作是针对IV-VI族窄带隙半导体SnSe,在SnSe薄膜以及GO/SnSe复合结构的制备、形貌结构表征和光响应性能测试等方面展开了比较系统的工作。主要研究内容包括:1.在二氧化硅(SiO2)表面实现了SnSe薄膜的生长。通过调控SnSe生长过程中的温度、压强和载气流速等生长条件,实现了SnSe薄膜的可控制备。对生长出的SnSe薄膜进行了一系列表征,并利用SiO2衬底上生长的SnSe薄膜构筑了简易的光探测器。2.研究测试了利用SnSe薄膜构筑的光探测器的光响应性能
4、。分别采用405nm、532nm、650nm、808nm和850nm的激光光源作为入射光,测试其电流-电压特性和光开关特性,发现硒化锡在可见光到近红外(NIR)范围内均有良好的响应,且其响应具有速度快、稳定性好、重复性高等优良特性。3.通过在SnSe薄膜表面滴涂氧化石墨烯量子点溶液的方法实现GO对SnSe的修饰,并利用复合结构构筑光探测器。通过对GO/SnSe光响应性能的研究。发现利用GO修饰SnSe,不仅可以明显提高其光电流大小,还可以提高其光响应速度,并且不影响器件光响应的稳定性和重复性。关键字:气相沉积;硒化锡
5、;氧化石墨烯;光探测器;光响应特性IAbstractTheresearchscopeofnanomaterialsisveryextensive,coveringawiderangeofcontents.Itsresearchfieldsrangefromatomicgroupstolargebulkmaterialsandthentothedevelopmentofultra-thintwo-dimensionalnanostructurematerials.Followinggraphene,IV-VInarro
6、w-gapsemiconductormaterialsareusedasnewquantumfunctionalmaterials,withexcellentelectricalandoptoelectronicproperties,canbewidelyusedinphoto-electronicdevicessuchasphotodetectors,photovoltaicdevices,andlasers.OurmaintaskistoworkonthepreparationofSnSethinfilmsand
7、GO/SnSecompositestructures,characterizationofmorphologicalstructures,andphotoresponseperformancetestsforIV-VInarrow-bandgapsemiconductorSnSe.Themainresearchcontentincludes:1.ThegrowthofSnSefilmwasachievedonthesurfaceofsilicondioxide(SiO2).Thecontrollableprepara
8、tionofSnSethinfilmswasachievedbycontrollingthegrowthconditionssuchastemperature,pressure,andcarriergasflowrateduringSnSegrowth.AseriesofcharacterizationsofthegrownSnSefilmsw
此文档下载收益归作者所有