高铅铜阳极泥超声波微波预处理新工艺研究

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1、万方数据分类号UDC密级学位论文高铅铜阳极泥超声波微波预处理新工艺研究作者姓名：指导教师：申请学位级别：学科专业名称：论文提交日期：学位授予日期：评阅人：吕阳杨洪英教授东北大学材料与冶金学院硕士学科类别：工学有色金属冶金2014年6月论文答辩日期：2014年6月2014年7月答辩委员会席：涂赣峰付念新王平东北大学2014年6月万方数据AThesisinNon-ferrousMetalMetallurgyResearchonNovelUltrasonicandMicrowaveAssistedPretreatmentofCopperAnodeSlimewit

2、hHighLeadContentByLvYangSupervisor：ProfessorYangHongyingNortheasternUniversityJune2014万方数据独创性声明本人声明，所呈交的学位论文是在导师的指导下完成的。论文中取得的研究成果除加以标注和致谢的地方外，不包含其他人己经发表或撰写过的研究成果，也不包括本人为获得其他学位而使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均己在论文中作明确的说明并表示谢意。学位论文作者签名：鞠日日期：yI甲。)、I学位论文版权使用授权书本学位论文作者和指导教师完全了解东北大学有关保留、使用

3、学位论文的规定：即学校有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘，允许论文被查阅和借阅。本人同意东北大学可以将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索、交流。作者和导师同意网上交流的时间为作者获得学位后：半年口一年口一年半口学位论文作者签名：弓阳签字日期：Vl甲、’)、I两呵导师签名签字日期：签字日期：天吖溯7步渗T扣肿万方数据东北大学硕士学位论文摘要高铅铜阳极泥超声波微波预处理新工艺研究摘要铜阳极泥是铜电解精炼过程中一种重要的副产品，其中含有大量的贵金属和稀有金属，因此成为提取制备稀贵金属材料的重要来源。本文以高铅铜阳极泥为原料，分别进行

4、了常压酸浸、超声波辅助酸浸和微波辅助酸浸预处理试验研究，并对三种酸浸过程进行了动力学分析。通过各工艺铜、硒、碲浸出率的对比，确定最佳的预处理工艺。研究结果表明，常压酸浸预处理工艺最优条件为：酸浓度1．0moltL～，浸出温度80。C，固液比O．20g·mL一，浸出时间90min，通气速率0．3L·min～，双氧水浓度0．2mol·L～，此时铜、硒、碲的浸出率分别为95．63％、15．33％、30．78％。动力学分析得常压酸浸的表观活化能为54．55kJ·tool～，受表面化学反应控制。超声波辅助酸浸预处理工艺最优条件为：超声波功率500W，浸出时间90mi

5、n，浸出温度800C，固液Lt'．O．25g-mL～，酸浓度1．0mol·L～，双氧水浓度0．3mol·L-1，此时铜、硒、碲的浸出率分别为97．13％、34．23％、43．98％。动力学分析得超声波辅助酸浸的表观活化能为41．62kJ·mol～，说明超声波辅助酸浸能降低反应的活化能，使反应更容易进行，并进一步促进铜、硒、碲的浸出。微波辅助酸浸预处理工艺最优条件为：微波功率700W，浸出时间40min，固液比O．30g·mL～，酸浓度1．5mol-L1，双氧水浓度0．4mol·L-‘，目标温度90。C，此时铜、硒、碲的浸出率分别为99．37％、76．12％

6、、77．38％。动力学分析得微波辅助酸浸的表观活化能为53．49kJ-mol～，说明微波只是单纯加热体系，并不改变反应的活化能。三种酸浸预处理工艺中，微波辅助酸浸具有效率高、处理量大、污染小等优点，并且硒、碲的浸出率明显增加。因此，微波辅助酸浸为最佳预处理工艺。关键词：铜阳极泥：预处理；超声波；微波：活化能万方数据东北大学硕士论文AbstxactResearchonNovelUltrasonicandMicrowaveAssistedPretreatmentofCopperAnodeSlimewithHighLeadContentAbstractCoppe

7、ranodeslimeisanimportantby-productintheprocessofcopperelectrolyticrefining，whichcontainslargeamountsofpreciousmetalsandFaremetals，thusitbecomesanimportantsourceofextractingrareandpreciousmetalsmaterials．Thestudywasbasedontherawmaterialofcopperanodeslimewithhighleadcontent．Atmosphe

8、ricpressureacidleaching，ultrasoni