资源描述：
《一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在教育资源-天天文库。
1、一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术第六图书馆提出一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术。在晶圆与承片台存在不同偏移量时,利用线性差分传感器在线测量晶圆上不同点的局部高度;通过建立临时边界条件,以递推法消除晶圆面形影响,并逐行计算出承片台的相对不平度;通过逐行计算的结果递推相邻行之间的高度差,并将该高度差叠加到每一行,以消除临时边界条件的限制,得到处于同一高度上的承片台不平度;将计算的结果作为初始值,根据最小二乘原理,以邻近的四个测量点作为参考,逐步逼近得到承片台的真实不平度。计算机仿真结果验证了该检测方法的正确性,计算结果逐步收敛并逼近真实值.实验结果表明,该
2、方法的计算结果较好地表示了承片台的真实不平度,重复精度优于0.3nm;同时该方法也可用于晶圆表面面形的测量。提出一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术。在晶圆与承片台存在不同偏移量时,利用线性差分传感器在线测量晶圆上不同点的局部高度;通过建立临时边界条件,以递推法消除晶圆面形影响,并逐行计算出承片台的相对不平度;通过逐行计算的结果递推相邻行之间的高度差,并将该高度差叠加到每一行,以消除临时边界条件的限制,得到处于同一高度上的承片台不平度;将计算的结果作为初始值,根据最小二乘原理,以邻近的四个测量点作为参考,逐步逼近得到承片台的真实不平度。计算机仿真结果验证了该检测方法的
3、正确性,计算结果逐步收敛并逼近真实值.实验结果表明,该方法的计算结果较好地表示了承片台的真实不平度,重复精度优于0.3nm;同时该方法也可用于晶圆表面面形的测量。测量与计量不平度检测承片台调平调焦最小二乘光刻机光学学报何乐王向朝王帆施伟杰马明英[1]中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室,上海201800[2]中国科学院研究生院,北京1000392007第六图书馆第六图书馆www.6lib.com第27卷第7期光学学报Vo1．27，No．72007年7月ACTAOPTICASINICAJuly，2007文章编号：0253—2239(2007)07—1205—6一种步进
4、扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术*何乐王向朝王帆施伟杰马明英，1中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室，上海201800、＼2中国科学院研究生院，北京100039／摘要：提出一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术。在晶圆与承片台存在不同偏移量时，利用线性差分传感器在线测量晶圆上不同点的局部高度；通过建立临时边界条件，以递推法消除晶圆面形影响，并逐行计算出承片台的相对不平度；通过逐行计算的结果递推相邻行之间的高度差，并将该高度差叠加到每一行，以消除临时边界条件的限制，得到处于同一高度上的承片台不平度；将计算的结果作为初始值，根据最小二乘原理，以邻近的四个测量点
5、作为参考，逐步逼近得到承片台的真实不平度。计算机仿真结果验证了该检测方法的正确性，计算结果逐步收敛并逼近真实值．实验结果表明，该方法的计算结果较好地表示了承片台的真实不平度，重复精度优于0．3am；同时该方法也可用于晶圆表面面形的测量。关键词：测量与计量；不平度检测；承片台；调平调焦；最小二乘；光刻机中图分类号：TN305．7文献标识码：ANovelin．．SituNon．FlatnessMeasurementMethodofWaferChuckinStep-and-ScanLith0graphicToolHeLe·WangXiangzhaoWangFanShiWeijieM
6、aMingying'f1LaboratoryofInform第六图书馆ationOptics，ShanghaiInstituteofOpticsandFineMechanics，1ltheChineseAcademyofSciences，Shanghai201800tI2GraduateUniversityofChineseAcademyofSciences，Beng100039JAbstract：Anovelin-situnon-flatwww.6lib.comnessmeasurementmethodofwaferchuckinstep—and—scanprojectio
7、nlithographictooIiSpresented．Thelocalheightsofwafersurfacearemeasuredbythelinearvariabledifferentialtransformer(LVDTs)whenthedifferentoffsetsbetweenwaferandwaferchuckexist．AtemporaryboundaryconditioniSbuilttocalculatetherelativenon—flatnessofwaferchuckli
