2018-2019高一化学下学期开学试卷含答案

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1、2018-2019高一化学下学期开学试卷含答案1.本卷满分100分,考试时间90分钟。2.用蓝、黑色水笔书写答案,考试结束只需将答案纸交回。本卷可能用到的相对原子质量:H-1C-12N-14O-16Na-23Mg-24S-32Cl-35.5Ca-40Fe-56Cu-64Ba-137第Ⅰ卷(选择题共50分)一、选择题(每小题只有一个选项符合题意。每小题2分,共50分)1.按照物质的组成进行分类,ClO2属于A.酸B.氧化物C.碱D.盐2.下列仪器名称为“冷凝管”的是A.B.C.D.3.相同条件下,等物质的量浓度的下列溶液中,导电能力最强的是A.氨水B.氯化钠溶液C.硫酸溶液D.蔗糖溶液

2、4.在反应NaH+H2O=NaOH+H2↑中,氧化剂是A.NaHB.H2OC.NaOHD.H25.下列属于置换反应的是A.2Na2O2+2H2O4NaOH+O2↑B.3CO+Fe2O32Fe+3CO2C.Cl2+H2OHCl+HClOD.Zn+CuCl2Cu+ZnCl26.根据а粒子散射现象,提出带核原子结构模型的科学家是A.舍勒B.汤姆生C.卢瑟福D.波尔7.下列属于非电解质的是A.酒精B.AgClC.醋酸D.CaO8.下列化学用语的表述正确的是A.中子数为173、质子数为113的鉨原子:173113NhB.35Cl、37Cl是两种不同的核素,且互为同位素C.16O2-的摩尔质量为

3、18g•mol-1D.1H2、2H2、3H2的关系是互为同位素9.下列说法不正确的是A.钠和钾的合金可用于快中子反应堆作热交换剂B.氧化镁具有很高的熔点,可做耐高温材料C.工业上,Na2CO3可用于制造玻璃D.氯气有毒,所以不能用于药物的合成10.下列表示正确的是A.14N的原子结构示意图:B.HClO的结构式:H-O-ClC.HCl的电子式:D.甲烷分子的球棍模型:11.下列有关硫酸工艺的说法正确的是A.在沸腾炉中发生的反应为:2SO2+O22SO3B.在吸收塔中为了充分吸收SO3,常选用蒸馏水作吸收剂C.尾气中的SO2不属于“城市空气质量日报”报道的内容D.进入接触室之前,气体需

4、经过净化处理,防止催化剂中毒12.下列关于实验安全事故的处理方法,正确的是A.金属钠着火时,可用泡沫灭火器灭火B.不慎洒出的酒精在桌上着火时,立即用大量水扑灭C.水银温度计不慎摔破,常用硫磺覆盖,以除去洒落的水银D.少量浓硫酸沾在皮肤上,立即用大量稀氢氧化钠溶液冲洗13.利用下列实验装置进行实验,不能达到实验目的的是A.甲装置:用图示方法检查装置的气密性B.乙装置:验证Na与水反应是否为放热反应C.丙装置:碘的CCl4溶液中提取碘D.丁装置:浓硫酸的稀释14.下列关于物质性质的比较,不正确的是()A.氧化性强弱:Cl2>Br2>I2B.碱性强弱:NaOH>Mg(OH)2>Al(OH)

5、3C.原子半径大小:Na>N>OD.气态氢化物稳定性强弱:H2O<H2S<PH315.为提纯下列物质(括号内为杂质)选用的试剂或分离方法不正确的是A.SO2(HCl):将气体通过饱和的NaHSO3溶液B.CO2(CO):将气体通过灼热的铜网C.NaCl(I2):将固体加热,使碘升华D.H2O(Fe3+):通过蒸馏的方法获取蒸馏水16.下列说法正确的是A.石灰石是高炉炼铁的原料之一,炉渣可用于制造水泥B.胶体与其他分散系的本质区别为是否有“丁达尔效应”C.某溶液中加入CCl4,CC14层呈紫红色,则原溶液中存在I-D.NaHCO3能与碱反应,所以可用作焙制糕点的膨松剂17.下列溶液中,

6、SO42-的物质的量浓度为0.2mol•L-1的是A.将1.6gSO3溶于100mL水配成的溶液B.1LNa+的物质的量浓度为0.1mol•L-1的Na2SO4溶液C.2L0.4mol•L-1的K2SO4溶液蒸发掉1L水后所得的溶液D.将12gMgSO4溶于水配成500mL的溶液18.下列离子方程式正确的是A.少量SO2与氨水反应:NH3•H2O+SO2NH4++HSO3-B.保存KOH溶液的试剂瓶不用玻璃塞的原因:SiO2+2OH-SiO32-+H2OC.Ca(HCO3)2与Ca(OH)2两溶液混合:Ca2++2OH-+2HCO3-CaCO3↓+CO32-+2H2OD.实验室制氯气

7、:MnO2+4HCl(浓)Mn2++Cl2+2Cl-+2H2O19.工业上火法炼铜的过程中会发生以下反应:Cu2S+2Cu2O6Cu+SO2↑,下列关于该反应的说法正确的是A.SO2既是氧化产物又是还原产物B.每生成1.12LSO2,转移0.3mole-C.Cu2S既是氧化剂又是还原剂D.每0.2mol硫原子被还原,生成1.2molCu20.通过实验得出的结论正确的是A.向某溶液中滴加NaOH溶液,没有产生使湿润红色石蕊试纸变蓝的气体,该溶液中仍可能存在N

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