二级fenton氧化高浓度有机硅废水研究

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1、第4卷第4期环境工程学报Vo1．4．No．42010年4月ChineseJournalofEnvironmentalEngineeringApr．2010二级Fenton氧化高浓度有机硅废水研究王云波谭万春郑思鑫稂友明李娟(1．长沙理工大学水利q-程学院，长沙410114；2．河北省财政投资评审中心，石家庄050001)摘要采用二级Fenton氧化技术对可生化性差的高浓度有机硅废水进行处理，考察了不同因素对COD去除率的影响，对比了一级氧化和二级氧化的效果。结果表明对于COD为9600mg／L的高浓度有机硅废水，pH为3，[H0]／[Fe“]=2：1为最佳的反应条件，COD去除率

2、随着H，0，的投加量的增大先增大而后减小，每200mL水样中先投加20％的硫酸亚铁12mL，然后分2次投加30％的H0：各4mL，氧化完成后调整pH值为7～8静止沉淀，COD去除率达89．2％。对于某绝缘电器厂的生产废水经二级Fenton氧化处理后，出水有机物浓度显著降低，可生化性提高，Fenton二级氧化可以作为高浓度有机硅废水的预处理工艺。关键词高浓度有机废水有机硅二级氧化Fenton中图分类号X703文献标识码A文章编号1673-9108(2010)04~776—05Two-stageoxidationofwastewatercontainingorganicsilicon

3、byFentonreagentWangYunboTanWanchunZhengSixinLangYoumingLiJuan(1．InstituteofHydraulicEngineering，ChangshaUniversityofScienceandTechnology，Changsha410114，China2．CenterofHebeiFinancialInvestmentandEvaluation，Shijiazhuang，050001，China))AbstractThetwo-stageFentonoxidizationwasemployedtotreatthehig

4、hcontentorganicsiliconwastewater，andtheresearchofimpactsofdiferentfactorsonCODremovalandthecomparisonbetweentheeffectsoffirstandthesecondstageoxidizationwerealsocarriedout．Theresultsshowedthat：tothe9600mg／LCODcontentorganicsiliconwastewater，theoptimalreactionconditionswere：pH=3，[H202]／[Fe]=2：

5、1；withtheincreasingofH202dosage，theCODremovalwouldincreasefirstthendecrease；withthedosageof200mLof20％ferroussulfateandtwicedosageof30％H2024mLeachtime，thepHwas7～8afteroxidiza—tion，andtheCODremovalwas89．2％aftersedimentation．AfterthesecondstageFentonoxidization，theor—ganiccontentininsulatingappa

6、ratuswastewaterdecreased，thebiodegradabilitywasimproved．TheFentontwo—stageoxidizationcouldbeusedaspretreatmentforhighcontentorganicsiliconwastewater．Keywordshighconcentratedorganicwastewater；organicsilicon；two—stageoxidation；Fenton高浓度有机废水由于有机物浓度高、可生化性行了二级Fenton试剂的氧化联合絮凝沉淀处理，收差、毒性大，一直是水处理的一个难题

7、¨。许多企到了很好的效果。业由于技术上的问题，往往生产废水超标排放，严重Fenton试剂是H0：和Fe“的混合物，在水处污染了水体环境。某绝缘电器厂的有机硅生产项目理中的主要作用是对有机物的氧化和混凝。目废水中含有多种有机物和无机物，成分复杂，废水中前Fenton试剂法已经逐渐应用于染料、制浆造纸、主要的污染因子为COD、BODSS、盐酸，而且含有日化、农药、垃圾渗沥液等废水处理工程中，具有很有毒有机物，有机物浓度很高，COD浓度高达5000好的应用前景“。—10000mg／L，